用于微影罩幕检查的方法及系统技术方案

提供一种用于微影罩幕检查的方法及系统，特别是一种用于检查极紫外罩幕及用于此类罩幕的罩幕舱的方法及系统。极紫外罩幕检查工具检查自罩幕舱撷取的罩幕，该罩幕舱置放在位于罩幕检查工具外部的装载端口上。检查制程在选定时间段内执行。检查制程开始后，机器人搬运机制(诸如，机械臂或自动化材料搬运系统)拾取罩幕舱且检查罩幕舱是否有外来颗粒。罩幕舱检查工具基于选定的交换准则判定罩幕舱是否需要清洗或更换。罩幕舱自罩幕舱检查工具撷取且在选定时间段过去之前置放在装载端口上。该方法及系统促进减少检查罩幕及罩幕舱所需的总时间。时间。时间。

【技术实现步骤摘要】
用于微影罩幕检查的方法及系统


[0001]本揭露关于一种用于微影罩幕检查的方法及系统。

技术介绍

[0002]半导体集成电路(integrated circuit，IC)产业经历快速增长。在IC发展期间，功能密度(例如，每一晶片面积的互连装置数量)通常增加，而几何尺寸(例如，可使用制程创建的最小元件(或线路))减少。这种按比例缩小的制程通常通过提高生产效率及降低相关成本来提供好处。这种按比例缩小制程通常通过提高生产效率及降低相关成本来提供收益。此按比例缩小亦增加IC处理及制造的复杂性，且为实现这些进步，需要在IC制造中进行类似的发展。
[0003]例如，在半导体技术中，多个光罩(罩幕)形成有预先设计的IC图案。在微影(或光微影)制程期间使用该些罩幕将预先设计的IC图案转移至多个半导体晶圆。因此，光罩在微影制程期间必须基本上没有外来颗粒。通常，光罩在传送/存储舱内的半导体制造设施中的站之间传送。某些类型的罩幕在传送期间受到薄膜保护，然而，其他类型的罩幕(诸如，用于EUV(极紫外)微影的罩幕)可能不受薄膜保护。此外，由于较小的特征尺寸，EU本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种用于微影罩幕检查的方法，其特征在于，包含以下步骤：将包括一微影罩幕的一罩幕舱置放在一罩幕检查工具的一装载端口上，该装载端口耦合至该罩幕检查工具的一外部；自该罩幕舱内部移除该罩幕；将该移除的罩幕提供至该罩幕检查工具；在一选定时间段内检查该罩幕检查工具内的该罩幕；在该选定时间段内撷取该罩幕舱；在该选定时间段内检查该罩幕舱；判定该罩幕舱在该选定时间段内是否满足一选定的交换准则；回应于判定该罩幕舱不满足该选定的交换准则，在该选定时间段过去之前使用满足该选定的交换准则的一新的罩幕舱交换该罩幕舱；将该新的罩幕舱置放在该罩幕检具的该装载端口上；自该罩幕检查工具移除该罩幕；及将该罩幕放入该新的罩幕舱内。2.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，判定该罩幕舱是否满足一选定的交换准则的步骤包括以下步骤：判定该罩幕舱的一累积操作时间段；及将该罩幕舱的该累积操作时间段与该罩幕舱的一交换临限时间段进行比较。3.根据权利要求2所述的方法，其特征在于，回应于判定该罩幕舱不满足该选定的交换准则，在该选定时间段过去之前使用满足该选定的交换准则的一新的罩幕舱交换该罩幕舱的步骤包括以下步骤：判定该交换临限时间段小于该罩幕舱的该累积操作时间段。4.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，判定该罩幕舱是否满足一选定的交换准则的步骤包括以下步骤：判定该罩幕舱的一累积操作次数；及将该罩幕舱的该累积操作次数与该罩幕舱的一交换临限操作次数进行比较。5.根据权利要求4所述的方法，其特征在于，回应于判定该罩幕舱不满足该选定的交换准则，在该选定时间段过去之前使用满足该选定的交换准则的一新的罩幕舱交换该罩幕舱的步骤包括以下步骤：判定该交换临限操作次数小于该罩幕舱的该累积操作次数。6.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，判定该罩幕舱是否满足一选定的交换准则的步骤包括以下步骤：判定该罩幕舱的一表面上多个颗粒的一浓度率；及将该罩幕舱的一表面上的多个颗粒的该浓度率与该罩幕舱的一交换临限浓度率进行比较。7.根据权利要求6所述的方法，其特征在于，回应于判定该罩幕舱不满足该选定的交换准...

【专利技术属性】
技术研发人员：张东荣，鐘仁阳，张汉龙，
申请(专利权)人：台湾积体电路制造股份有限公司，
类型：发明
国别省市：