吸盘底座制造技术

本申请案涉及一种吸盘底座。具有所述吸盘底座的所述静电吸盘用于在加工工件的步骤期间支撑所述工件。所述静电吸盘底座组件通过增材制造技术制备。材制造技术制备。材制造技术制备。

【技术实现步骤摘要】
吸盘底座


[0001]本公开属于用于在加工工件的步骤期间支撑所述工件的静电吸盘的底座组件领域，其中所述底座组件(“底座”)通过增材制造步骤制备。

技术介绍

[0002]静电吸盘(也简称为“吸盘”)用于半导体及微电子装置加工。吸盘将例如半导体晶片或微电子装置衬底的工件固持于适当位置中以在工件的表面上执行加工。特别来说，静电吸盘通过在工件与吸盘之间产生静电吸力来将工件支撑及固定于吸盘的上表面处。将电压施加到含于吸盘内的电极以在工件及吸盘中诱发相反极性的电荷。
[0003]吸盘包含允许吸盘执行或提高性能的各种结构、装置及设计。典型静电吸盘组合件是多组件结构，其包含：平坦上表面，其支撑工件；例如电极、导电涂层及接地连接的电组件，其用于控制吸盘及所支撑工件的静电荷；温度控制系统(例如冷却系统)，其用于控制吸盘及所支撑工件的温度；各种其它组件，其可包含测量探针及用于支撑或改变工件相对于吸盘的位置的可移动销；及温度控制介质连接及电连接，其从吸盘延伸到工具接口。
[0004]静电吸盘的典型特征是含有温度控制系统(例如冷却系统)的底座。温度控制系本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种吸盘底座，其特征在于所述吸盘底座包括：上吸盘底座表面，其由无机复合材料制成，下吸盘底座表面，其由所述无机复合材料制成，内部，其位于所述上吸盘底座表面与所述下吸盘底座表面之间，由所述无机复合材料制成，及通道，其位于所述内部内，由所述无机复合材料形成，所述上吸盘底座表面、所述下吸盘底座表面及所述内部包含从所述上吸盘底座表面延伸到所述下吸盘底座表面的所述无机复合材料的连续层。2.根据权利要求1所述的吸盘底座，其特征在于所述无机复合材料的所述连续层是无缝的，且其中所述无机复合材料组成均匀。3.根据权利要求2所述的吸盘底座，其特征在于所述通道具有选自圆形、三角形、圆顶形、六边形或泪珠形的剖面。4.根据权利要求1到3中任一权利要求所述的吸盘底座，其特征在于所述上吸盘底座表面及所述下吸盘底座表面中的至少一者具有小于50微米的表面粗糙度。5.根据权利要求1到3中任一...

【专利技术属性】
技术研发人员：C，
申请(专利权)人：恩特格里斯公司，
类型：新型
国别省市：