使用LA-DART-MS的有机材料的光稳定性的预测方法技术

本公开涉及一种使用LA

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】使用LA
‑
DART
‑
MS的有机材料的光稳定性的预测方法


[0001]相关申请的交叉引用
[0002]本申请要求在韩国知识产权局于2020年10月19日提交的韩国专利申请No.10
‑
2020
‑
0135280和于2021年10月19日提交的韩国专利申请No.10
‑
2021
‑
0138930的权益，它们的公开内容通过引用全部并入本说明书中。
[0003]本公开涉及一种使用LA
‑
DART
‑
MS在短时间内预测有机材料的光稳定性的方法。

技术介绍

[0004]有机材料的光稳定性与光源引起的有机材料的降解相关，是发光系统中使用有机材料时影响发光系统长期运行的重要因素，这是应用于诸如显示器的装置时应重点考虑的物理性质。
[0005]当具有发光性质的有机材料的光稳定性劣化时，发生光漂白现象。光漂白指是指其中在有机材料经由外部能量激发后，其不显示正常发射，而是由于在有机材料中形成新键、结构降解、与其它材料反应等失去其发射性质的现象。如果有机材料的光稳定性劣化，可能由光源形成降解产物或不溶性粒子。因为降解产物可以具有类似于有机材料的吸收性质，因此其干扰有机材料的吸收，并且不溶性粒子诱导光源的散射，导致光漂白。
[0006]光稳定性的评价通常通过在长期暴露于与应用有机材料的产品使用的光源类似的评价光源后测量吸收或发射光谱的变化，或通过测量吸收或发射光子的减少率来进行。随后，通过离线GC、LC/MS分析等分析材料的降解程度、降解产物的结构等。但是，此类测量光稳定性和确认降解产物的方法的缺点在于，由于评价光源的照射时间长(数百至数千小时)和离线分析来预测材料的物理性质，并且其花费很长时间来确认导致物理性质劣化的降解产物。
[0007]因此，为了开发具有优异的物理性质的有机材料，需要开发能够在短时间内预测光稳定性的分析方法。

技术实现思路

[0008][技术问题][0009]本公开的一个目的是提供一种能够使用LA
‑
DART
‑
MS在短时间内预测有机材料的光稳定性的分析方法。
[0010][技术方案][0011]为了实现上述目的，根据本公开，提供一种如下用于预测有机材料的光稳定性的方法：
[0012]使用LA
‑
DART
‑
MS预测有机材料的光稳定性的方法包括以下步骤：
[0013]用激光束照射含有有机材料的试样(步骤1)；
[0014]获得从所述试样解吸和离子化的组分的质谱(步骤2)；和
[0015]由所述质谱计算下面数学表达式1的降解产率(步骤3)：
[0016][数学表达式1][0017]降解产率＝(碎片离子的峰强度的总和)/((分子离子+碎片离子)的峰强度的总和)
[0018]本公开涉及评价有机材料的物理性质中的光稳定性，并且对目标有机材料没有特别限制。特别地，光稳定性是在发光材料中应重点考虑的物理性质，并且由此可见，本公开的有机材料包括具有发光性质的有机发光材料，并预测其光稳定性。
[0019]为了评价常规有机材料的光稳定性，本公开通过使用LA
‑
DART
‑
MS而不是使用评价光源来预测有机材料的光稳定性，并且本公开的特征在于用离子源将通过激光束照射从有机材料上解吸的组分离子化以获得质谱，并随后通过光谱分析来预测光稳定性。
[0020]尽管在理论上不受限制，用评价光源照射和用激光束照射在有机材料的降解方面是类似的，因此，可以由其相关性在更短的时间内预测有机材料的光稳定性。
[0021]特别地，在本公开中，使用LA
‑
DART
‑
MS，并与使用常规评价光源评价光稳定性相比，可以在更短的时间内预测光稳定性。为了如下文所述用常规评价光源评价光稳定性，必须将有机材料暴露于评价光源中数百至数千小时。但是，当如本公开中那样使用LA
‑
DART
‑
MS时，可以直接获得降解产物的质谱，可以分析该质谱以预测光稳定性，结果，优点在于可以在数秒至数分钟内预测有机材料的光稳定性。
[0022]本文中所用的术语“LA
‑
DART
‑
MS(激光烧蚀
‑
实时直接分析质谱)”是指如下的分析方法：通过用激光束照射试样以解吸分析物，随后用来自DART离子源的加热的亚稳态氦气束和由其产生的反应性离子将解吸的分析物离子化，来进行材料的分子量和结构分析。在图1中示意性显示了用于LA
‑
DART
‑
MS的系统。现在，将参照图1逐步详细地描述本公开。
[0023](步骤1)
[0024]本公开的步骤1是用激光束照射含有有机材料的试样的步骤，通过该步骤，有机材料以与用评价光源照射有机物质的情况相同的方式降解。
[0025]首先，关于步骤1将描述用于LA
‑
DART
‑
MS的系统。如图1中所示，LA
‑
DART
‑
MS系统1包括DART离子化单元10、质谱仪20、试样安装单元30和激光单元40。
[0026]在DART离子化单元10中，从激光单元40照射激光束，使用DART离子化单元10的氦气束和由此生成的反应性离子将从安装在试样安装单元30上的试样2解吸的分析物离子化。具体而言，氦气束从DART离子化单元10的出口11发射以将从安装在试样安装单元30上的试样2解吸的分析物离子化。
[0027]质谱仪20接收离子化的分析物，并对离子化分析物进行分子量和结构分析。试样安装单元30位于DART离子化单元10的出口11与质谱仪20的入口21之间。由于从安装在试样安装单元30上的试样2上解吸的分析物流入质谱仪20的入口，因此试样安装单元30位于DART离子化单元10的出口11和质谱仪20的入口21之间的路径的下方位置。质谱仪20的入口21可以是在质谱仪20中形成的以使质谱仪20外部的分析物流入质谱仪20的内部空间进行分析的孔或突出的管。例如，质谱仪20的入口21可以是孔口或从孔口突出并延伸的传输管。
[0028]所述激光单元40用激光束照射试样2以便从试样解吸分析物。此外，在分析仪实时确认质谱的同时，可以调整激光单元40的相对位置或激光束的照射角度和功率，使得源自试样2的分析物的离子峰强度最大化。
[0029]此外，LA
‑
DART
‑
MS系统1可以包括位于DART离子化单元10的出口11与质谱仪20的
入口21之间的路径中的接口单元100。该接口单元100具有在两个端部开口的管状体。接口单元100的两个端部的一端可以与DART离子化单元10的出口11的末端重叠或邻近设置。并且另一端部装配到质谱本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】1.一种使用激光烧蚀
‑
实时直接分析质谱LA
‑
DART
‑
MS的有机材料的光稳定性的预测方法，包括以下步骤：步骤1，用激光束照射含有有机材料的试样；步骤2，获得从所述试样解吸并离子化的组分的质谱；和步骤3，由所述质谱计算下面数学表达式1的降解产率：[数学表达式1]降解产率＝(碎片离子的峰强度的总和)/((分子离子+碎片离子)的峰强度的总和)。2.根据权利要求1所述的预测方法，其中，所述激光是连续波CW或脉冲激光。3.根...

【专利技术属性】
技术研发人员：刘贤植，裵龙珍，林泳姬，尹汝荣，吴惠美，申东穆，
申请(专利权)人：株式会社LG化学，
类型：发明
国别省市：