具备：第一流路，从容纳高浓度试剂的高浓度试剂瓶输送高浓度试剂；第二流路，从容纳用于稀释高浓度试剂的试剂稀释液的试剂稀释液瓶输送试剂稀释液；合流部，使第一流路与第二流路合流；第三流路，从合流部输送作为高浓度试剂与试剂稀释液的混合液的调制试剂；稀释槽，容纳调制试剂；调制试剂喷出管嘴，用于将由第三流路输送的调制试剂向稀释槽喷出；输送机构，将高浓度试剂和试剂稀释液以预定的比率向合流部输送，以使经由第三流路从调制试剂喷出管嘴向稀释槽喷出的调制试剂成为预定的浓度；以及分析部，利用容纳于稀释槽的调制试剂进行分析。由此，能够以更简便的装置结构更高精度地稀释试剂来进行调制。地稀释试剂来进行调制。地稀释试剂来进行调制。
【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】电解质分析装置
[0001]本专利技术涉及电解质分析装置。
技术介绍
[0002]电解质分析装置是测定人体的血液、尿等电解质溶液中所含的特定电解质浓度的装置，利用离子选择性电极进行浓度测定。作为电解质分析装置，例如已知有流动型电解质分析装置。在流动型电解质分析装置中，将作为电解质溶液的血清直接供给至离子选择电极或将利用检体稀释液稀释后的样品溶液供给至离子选择电极，测定离子选择电极与比较电极液的液间电位。接着(或在测定之前)，向离子选择电极供给电解质浓度已知的标准液，与血清(或样品溶液)同样地测定与比较电极液的液间电位。然后，能够根据标准液的液间电位和血清(或样品溶液)的液间电位这2个液间电位来计算血清(或样品溶液)的电解质浓度。
[0003]在这样的流动型电解质分析装置中，使用检体稀释液、标准液、比较电极液这样的试剂作为消耗品，这些试剂在1次分析中使用的量由任意设定的参数决定。另外，由于这些试剂从能够分别更换地设置的试剂容器(例如2L的瓶)供给，因此检查装置的台数以及检查检体越增加，试剂瓶的更换个数和频度越多，操作者的负担越大。此外，在现有装置中，若连续运转，则需要在数小时内更换一次瓶，装置操作员被束缚在试剂瓶更换的时间表中。另外，特别是标准液是作为分析标准的试剂，微小的浓度变化会影响分析值，因此在瓶更换后需要重新校准。由于这样的瓶更换操作以及之后的校准等伴随瓶更换所产生的装置的停机时间，导致实际的分析处理量降低。
[0004]针对这样的课题，例如，在专利文献1中公开了一种试剂调制装置，其具备：调制罐，其用于容纳试剂和稀释液；试剂供给部，其向调制罐供给规定量的试剂；稀释液供给部，其向调制罐供给比将所供给的试剂稀释为期望浓度的量少的量的稀释液；稀释液补充部，其向调制罐补充任意量的稀释液；检测部，其检测罐内的试剂浓度；以及控制部，其控制稀释液补充部的补充动作，控制部在检测出的试剂浓度比期望浓度高时，根据检测浓度与期望浓度之差计算用于使试剂浓度成为期望浓度的稀释液的补充量，并且反复进行向调制罐补充小于所算出的补充量的量的稀释液的控制直至达到期望浓度。
[0005]现有技术文献
[0006]专利文献
[0007]专利文献1：日本特开平9
‑
33538号公报
技术实现思路
[0008]专利技术所要解决的课题
[0009]在上述现有技术中，通过一边稀释一边使用高浓度的试剂，来降低瓶的更换频率。但是，在稀释高浓度的试剂来使用的情况下，若要提高稀释后的试剂浓度的精度，则需要用于保持稀释后的规定浓度的试剂的罐、用于检测浓度的检测器、用于稀释后的试剂的混合、
搅拌的机构等，装置结构变得非常复杂。
[0010]本专利技术是鉴于上述情况而完成的，其目的在于提供一种能够以更简便的装置结构更高精度地稀释并调制试剂的电解质分析装置。
[0011]用于解决课题的方法
[0012]本申请包括多个解决上述课题的方法，若列举其一例，则具备：高浓度试剂瓶，其容纳高浓度试剂；试剂稀释液瓶，其容纳用于稀释上述高浓度试剂的试剂稀释液；第一流路，其从上述高浓度试剂瓶输送上述高浓度试剂；第二流路，其从上述试剂稀释液瓶输送上述试剂稀释液；合流部，其使上述第一流路与上述第二流路合流；第三流路，其从上述合流部输送作为上述高浓度试剂与上述试剂稀释液的混合液的调制试剂；稀释槽，其容纳上述调制试剂；调制试剂喷出管嘴，其用于将由上述第三流路输送的上述调制试剂向上述稀释槽喷出；输送机构，其以预定的比率将上述高浓度试剂和上述试剂稀释液向上述分支部输送，以使经由上述第三流路从上述调制试剂喷出管嘴向上述稀释槽喷出的上述调制试剂成为预定的浓度；以及分析部，其利用容纳于上述稀释槽的上述调制试剂进行分析。
[0013]专利技术效果
[0014]能够以更简便的装置结构更高精度地稀释并调制试剂。
附图说明
[0015]图1是概略地表示第一实施方式的电解质分析装置的整体结构的图。
[0016]图2是将第一实施方式的试剂调制部与关联结构一起提取出来表示的图。
[0017]图3是概略地表示试剂调制部的1个循环中的试剂供给动作的图。
[0018]图4是示意性地表示输送动作后的第三流路43的流路内部的状态的图。
[0019]图5是概略地表示被输送至第三流路的混合液在输送过程中的浓度变化的图。
[0020]图6是示意性地表示输送动作时的第三流路中的高浓度试剂和试剂稀释液的液体行为的图。
[0021]图7是作为相对于第一实施方式的比较例，表示从合流部之后立即沿上下方向构成第三流路的情况下的沉降现象的情况的图。
[0022]图8是作为相对于第一实施方式的比较例，表示从合流部之后立即沿上下方向构成第三流路的情况下的沉降现象的情况的图。
[0023]图9是概略地表示第三流路的构造例的图。
[0024]图10是表示具有伴随输送动作而搅拌内部液体的功能的输送机构(输送注射器)的一例的图。
[0025]图11是表示具有伴随输送动作而搅拌内部液体的功能的输送机构(输送注射器)的另一例的图。
[0026]图12是表示具有伴随输送动作而搅拌内部液体的功能的输送机构(输送注射器)的另一例的图。
[0027]图13是表示合流部的变形例的图。
[0028]图14是表示合流部的其他变形例的图。
[0029]图15是在1个循环中多次实施高浓度试剂的吸取动作和向第三流路的喷出动作的情况下的动作顺序的概略图。
[0030]图16是具有废弃用流路的试剂调制部的示意图。
[0031]图17是表示喷出动作中以及喷出动作完成后的合流部中的高浓度试剂的液体行为的图。
[0032]图18是表示喷出动作中以及喷出动作完成后的合流部中的高浓度试剂的液体行为的图。
[0033]图19是将第二实施方式的试剂调制部与关联结构一起提取出来表示的图。
[0034]图20是示意性地表示输送动作时的第三流路中的高浓度试剂和试剂稀释液的液体行为的图。
[0035]图21是表示第二实施方式的动作顺序的概略图。
[0036]图22是将第三实施方式的试剂调制部与关联结构一起提取出来表示的图。
具体实施方式
[0037]以下，参照附图对本专利技术的实施方式进行说明。
[0038]<第一实施方式>
[0039]参照图1～图18详细说明本专利技术的第一实施方式。
[0040]图1是概略地表示本专利技术的实施方式的电解质分析装置的整体结构的图。需要说明的是，在本实施方式中，作为电解质分析装置的一例，示出使用了离子选择电极(以下，称为ISE电极(Ion Selective Electrode))的流动型电解质分析装置(以下，简称为电解质分析装置)来进行说明。
[0041]在图1中，电解质分析装置100大致由样品分注部101、ISE电极部102、试剂部103、比较电极本文档来自技高网...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】1.一种电解质分析装置，其特征在于，具备：容纳高浓度试剂的高浓度试剂瓶；容纳用于稀释所述高浓度试剂的试剂稀释液的试剂稀释液瓶；从所述高浓度试剂瓶输送所述高浓度试剂的第一流路；从所述试剂稀释液瓶输送所述试剂稀释液的第二流路；使所述第一流路与所述第二流路合流的合流部；从所述合流部输送作为所述高浓度试剂与所述试剂稀释液的混合液的调制试剂的第三流路；容纳所述调制试剂的稀释槽；用于将由所述第三流路输送的所述调制试剂向所述稀释槽喷出的调制试剂喷出管嘴；输送机构，其将所述高浓度试剂和所述试剂稀释液以预定的比率向所述合流部输送，以使经由所述第三流路从所述调制试剂喷出管嘴向所述稀释槽喷出的所述调制试剂成为预定的浓度；以及利用容纳于所述稀释槽的所述调制试剂进行分析的分析部。2.根据权利要求1所述的电解质分析装置，其特征在于，所述输送机构将所述高浓度试剂和所述试剂稀释液交替地向合流部输送。3.根据权利要求1所述的电解质分析装置，其特征在于，随着所述调制试剂去往所述第三流路的下游侧，所述高浓度试剂相对于所述试剂稀释液的浓度变得更均匀。4.根据权利要求1所述的电解质分析装置，其特征在于，所述第三流路具有以预定的半径卷绕成螺旋弹簧状的卷绕结构。5.根据权利要求1所述的电解质分析装置，其特征在于，所述输送机构具有输送注射器，所述输送注射器设置于所述第一流路及所述第二流路中的任一方。6.根据权利要求1所述的电解质分析装置，其特征在于，所述输送机构具有配置于第三流路的所述调制试剂喷出管嘴侧的输送注射器。7.根据权利要求1所述的电解质分析装置，其特征在于，所述输送机构具有配置于所述第三流路的所述合流部侧的输送注射器，所述输送注射器具有搅拌机构，该搅拌机构伴随着输送动作对所述输送注射器内部的流体进行搅拌。8.根据权利要求1所述的电解质分析装置，其特征在于，在所述合流部，所述第一流路从垂直向下的方向连接，所述第二流路从比所述第一流路靠上方的位置连接。9.根据权利要求1所述的电解质分析装置，其特征在于，所述合流部具有将由所述第一流路输送的所述高浓度试剂分支为至少2个...
【专利技术属性】
技术研发人员：岩濑友一，宫川拓士，熊谷孝宏，山本遇哲，川原铁士，
申请(专利权)人：株式会社日立高新技术，
类型：发明
国别省市：
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