用于湿法刻蚀工艺的夹具和湿法刻蚀装置制造方法及图纸

本实用新型专利技术提供了一种用于湿法刻蚀工艺的夹具和湿法刻蚀装置。具体的，本实用新型专利技术提供的用于湿法刻蚀工艺的夹具，其是基于现有的8英寸硅片的湿法刻蚀装置中的半高片架的外部特性，设计的一款与该8英寸硅片的湿法刻蚀装置的半高片架配套的夹具，即，基于半高片架的U面双孔把手，设计了一款与所述U面双孔把手可连接的手柄式专用夹具(吊架)，通过将该手柄式专用夹具设置在半高片架外侧的一侧面的方式，解决了8英寸硅片的湿法刻蚀装置中的半高片架对片架上方空间要求比较大，且8英寸片架相应面积大、份量重的问题。份量重的问题。份量重的问题。

【技术实现步骤摘要】
用于湿法刻蚀工艺的夹具和湿法刻蚀装置


[0001]本技术涉及半导体
，特别涉及一种用于湿法刻蚀工艺的夹具和湿法刻蚀装置。

技术介绍

[0002]众所周知，刻蚀是半导体工艺中的重要一步工序，其目的是把未被刻蚀剂 (如光刻胶)遮蔽的薄膜层除去，从而在薄膜上得到与刻蚀剂上完全相同图形的工艺。刻蚀又可分为湿法刻蚀和干法刻蚀两种。具体的，由于在对硅片(晶圆)进行湿法刻蚀时，其刻蚀剂可以为具有一定酸性溶液，因此，需要将硅片放在承载装置上，然后用配套的夹具(吊架)勾住承载装置，从而起到提拉承载装置的目的。
[0003]目前，在6英寸硅片腐蚀工序作业时，其常用的装载硅片的工具是全高片架，配套的吊架是沿片架两边上沿角内外侧夹住的夹具，6英寸腐蚀吊架装置结构组成分别为：装载硅片全高片架、单梁式特氟龙吊架，在作业时起到不接触片架且提拉片架的作用。然而，随着半导体技术的飞速发展，目前8英寸超薄硅片成为市场的一种趋势，而8英寸硅片腐蚀工序作业时，使用的是半高片架，且半高片架对于片架上方空间要求比较大，以及8寸片架相应面积大、份量重。因此，现有的吊架仅适用于本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种用于湿法刻蚀工艺的夹具，应用于8英寸硅片的湿法刻蚀装置中，所述湿法刻蚀装置中包括一侧面设置有U面双孔把手的半高片架，其特征在于，所述夹具包括：支撑板(1)、固定结构(2)、手柄(3)和底座(4)；所述底座(4)固定连接在所述支撑板(1)的下端面上，所述手柄(3)连接在所述支撑板(1)的上端面上，且所述手柄(3)的上表面的两侧分别固定连接一手指扣(5)，所述固定结构(2)可拆卸式地设置在所述支撑板(1)的一表面上，以使所述固定结构(2)可根据所述U面双孔把手在沿垂直方向上的高度，相应的设置在与所述U面双孔把手相对应的位置处，并带动所述半高片架在垂直方向上运动。2.如权利要求1所述的用于湿法刻蚀工艺的夹具，其特征在于，所述底座(4)的形状呈“几”字型，且所述底座(4)的底部两侧分别包含一外翻的支撑角(6)。3.如权利要求2所述的用于湿法刻蚀工艺的夹具，其特征在于，所述手指扣(5)的形状为直杆、半圆或中空的圆环中的至少一种。4.如权利要求3所述的用于湿法刻蚀工艺的夹具，其特征在于，所述固定结构(2)包括定位底座(7)和固定组件(8)；所述定位底座(7)可拆式地设置在所述支撑板(1)的一表面上，且所述定位底座(7)的上端一体成型有所述固定组件(8)，所述固定组件(8)的中间开设有一凹槽(9)，以将所述固定组件(8)分割成形状均呈柱状的固定杆(10)，所...

【专利技术属性】
技术研发人员：孟亚明，顾金辉，徐青青，
申请(专利权)人：无锡华润华晶微电子有限公司，
类型：新型
国别省市：