本实用新型专利技术提供了一种用于钕铁硼晶界扩散前处理工装，涉及稀土永磁材料技术领域，包括石墨盒，设置于石墨盒顶部的盒盖，盒盖顶部连接有泄压管，设置于石墨盒与盒盖之间的密封组件，用于避免石墨盒内部气体泄漏，及设置于泄压管内部的的泄压组件，用于避免石墨盒内部气压过高。该种用于钕铁硼晶界扩散前处理工装通过设置有密封组件，使得将加强盒盖与石墨盒之间的密封性，从而避免高纯钙气体从盒盖与石墨盒之间漏出，导致在热处理设备中结块对加热结构损坏，且设置有泄压组件，使得在石墨盒内气压过高时，通过泄压组件对石墨盒内进行泄压，使得避免石墨盒内气压过高，导致高纯钙气体从盒盖与石墨盒之间泄漏。体从盒盖与石墨盒之间泄漏。体从盒盖与石墨盒之间泄漏。
【技术实现步骤摘要】
一种用于钕铁硼晶界扩散前处理工装
[0001]本技术涉及稀土永磁材料
，具体是用于钕铁硼晶界扩散前处理工装。
技术介绍
[0002]钕铁硼晶界扩散是指在磁体表面引入重稀土元素，再经热处理使重稀土原子沿着晶界的液相扩散，并置换主相晶粒表层中原有的Nd而形成由加入不同稀土元素种类的不同固溶体，主相晶粒中央并没有受到太多影响，因此在增强晶粒表层的磁晶各向异性场进而提高内稟矫顽力的同时，对磁体的剩磁和最大磁能积并不产生太大影响，并达到利用极少重稀土量大幅提高稀土永磁体矫顽力的效果。
[0003]重稀土氧化物晶界扩散具有成本低、涂覆方式简单、不引入杂质元素等优点，但由于重稀土氧化物熔点较高，不易还原进入磁体内部，导致扩散效果不稳定，而现有的解决方法通常为，通过在石墨盒中添加钙还原剂，并通过热处理设备对钙还原剂加热，使得钙还原剂以高纯钙气体形式散发至涂覆有氧化重稀土粉末涂层的磁片周围，对氧化重稀土粉末进行脱氧，使得单质重稀土元素扩散至磁片内部。
[0004]但是现有的石墨盒在使用时，为保证钙还原剂和磁片的放置，会设置有盒盖与石墨盒进行配合，但是现有的盒盖大多数是自己卡合放置在石墨盒顶部，使得盒盖与石墨盒之间的密封性较差，导致高纯钙气体容易从石墨盒与盒盖之间跑出至热处理设备中的加热结构处结块，造成热处理设备损坏，且现有的石墨盒在实际使用时，由于钙还原剂加热后持续产生高纯钙气体，容易导致石墨盒内气压增高，导致盒盖与石墨盒容易分离造成高纯钙气体泄漏。
技术实现思路
[0005]本技术指在于解决
技术介绍
中存在的缺点，提供用于钕铁硼晶界扩散前处理工装，通过设置有密封组件，使得将加强盒盖与石墨盒之间的密封性，从而避免高纯钙气体从盒盖与石墨盒之间漏出，导致在热处理设备中结块对加热结构损坏，且设置有泄压组件，使得在石墨盒内气压过高时，通过泄压组件对石墨盒内进行泄压，使得避免石墨盒内气压过高，导致高纯钙气体从盒盖与石墨盒之间泄漏。
[0006]为实现上述目的，本技术提供如下技术方案，一种用于钕铁硼晶界扩散前处理工装，包括：
[0007]石墨盒；
[0008]设置于所述石墨盒顶部的盒盖，所述盒盖顶部连接有泄压管；
[0009]设置于所述石墨盒与所述盒盖之间的密封组件，用于避免所述石墨盒内部气体泄漏；及
[0010]设置于所述泄压管内部的泄压组件，用于避免所述石墨盒内部气压过高。
[0011]进一步的，所述密封组件包括：
[0012]连接于所述盒盖底部的插块；
[0013]开设于所述石墨盒的插槽；
[0014]设置于所述插槽内部的密封板；及
[0015]设置于所述密封板与所述插槽之间的多个弹簧。
[0016]进一步的，所述插块、所述插槽和所述密封板均呈圆环形，所述插块一侧开设有卡槽，所述石墨盒两侧均开设有开孔，所述开孔内部设置有与所述卡槽配合使用的插销。
[0017]进一步的，所述泄压组件包括：
[0018]安装于所述泄压管内部的固定块；
[0019]连接于所述固定块底部的伸缩弹簧；
[0020]连接于所述伸缩弹簧底部的活塞块；
[0021]开设于所述泄压管内壁两侧均开设有泄压槽；及
[0022]开设于所述固定块顶部的过个泄压孔。
[0023]进一步的，所述石墨盒内部安装有放置板，所述放置板顶部开设有圆孔，所述放置板顶部连接有限位块，所述限位块呈圆环形。
[0024]进一步的，所述放置板顶部设置有限位盘，所述限位盘顶部连接有放料板，所述放料板顶部开设有多个放料槽，所述限位盘底部开设有多个透气孔，所述透气孔与所述放料槽相导通。
[0025]进一步的，所述石墨盒内部设置有储料盒，所述储料盒位于所述限位盘正下方，且所述储料盒顶部呈敞开式。
[0026]本技术提供了一种用于钕铁硼晶界扩散前处理工装，具有以下有益效果：
[0027]本技术优点在于，通过设置有密封组件，使得将加强盒盖与石墨盒之间的密封性，从而避免高纯钙气体从盒盖与石墨盒之间漏出，导致在热处理设备中结块对加热结构损坏。
[0028]其次，设置有泄压组件，使得在石墨盒内气压过高时，通过泄压组件对石墨盒内进行泄压，使得避免石墨盒内气压过高，导致高纯钙气体从盒盖与石墨盒之间泄漏。
附图说明
[0029]图1为本技术的整体结构示意图。
[0030]图2为本技术的整体结构剖视图。
[0031]图3为本技术的放置板结构示意图。
[0032]图4为本技术的泄压管结构剖视图。
[0033]图5为本技术的限位盘结构俯视图。
[0034]图6为本技术的图2中的A处放大图。
[0035]图1
‑
6中：1
‑
石墨盒；101
‑
盒盖；102
‑
泄压管；2
‑
插块；201
‑
插槽；202
‑
密封板；203
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弹簧；3
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卡槽；301
‑
开孔；302
‑
插销；4
‑
固定块；401
‑
伸缩弹簧；402
‑
活塞块；403
‑
泄压槽；404
‑
泄压孔；5
‑
放置板；501
‑
圆孔；502
‑
限位块；6
‑
限位盘；601
‑
放料板；602
‑
放料槽；603
‑
透气孔；7
‑
储料盒。
具体实施方式
[0036]下面将结合本申请实施例中的附图，对本申请实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述。显然，所描述的实施例仅仅是本申请一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本申请中的实施例，本领域技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本申请保护的范围。
[0037]在本申请的描述中，需要理解的是，术语“中心”、“纵向”、“横向”、“长度”、“宽度”、“厚度”、“上”、“下”、“前”、“后”、“左”、“右”、“竖直”、“水平”、“顶”、“底”、“内”、“外”、“顺时针”、“逆时针”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本申请和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本申请的限制。此外，术语“第一”、“第二”仅用于描述目的，而不能理解为指示或暗示相对重要性或者隐含指明所指示的技术特征的数量。由此，限定有“第一”、“第二”的特征可以明示或者隐含地包括一个或者更多个所述特征。在本申请的描述中，“多个”的含义是两个或两个以上，除非另有明确具体的限定。
[0038]在本申请的描述中，需要说明的是本文档来自技高网...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.一种用于钕铁硼晶界扩散前处理工装，其特征在于，包括：石墨盒；设置于所述石墨盒顶部的盒盖，所述盒盖顶部连接有泄压管；设置于所述石墨盒与所述盒盖之间的密封组件，用于避免所述石墨盒内部气体泄漏；及设置于所述泄压管内部的泄压组件，用于避免所述石墨盒内部气压过高。2.根据权利要求1所述的用于钕铁硼晶界扩散前处理工装，其特征在于，所述密封组件包括：连接于所述盒盖底部的插块；开设于所述石墨盒的插槽；设置于所述插槽内部的密封板；及设置于所述密封板与所述插槽之间的多个弹簧。3.根据权利要求2所述的用于钕铁硼晶界扩散前处理工装，其特征在于，所述插块、所述插槽和所述密封板均呈圆环形，所述插块一侧开设有卡槽，所述石墨盒两侧均开设有开孔，所述开孔内部设置有与所述卡槽配合使用的插销。4.根据权利要求1所述的用于钕铁硼晶界扩散前处理工装，其特征在...
【专利技术属性】
技术研发人员：黄金龙，鲁晓超，
申请(专利权)人：江西中锡金属材料有限公司，
类型：新型
国别省市：
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