可防裁切部水氧腐蚀的LCD背光模组用新型高性能量子点光扩散膜制造技术

本实用新型专利技术属于量子点光学膜技术领域，具体涉及一种可防裁切部水氧腐蚀的LCD背光模组用新型高性能量子点光扩散膜。本实用新型专利技术的可防裁切部水氧腐蚀的LCD背光模组用新型高性能量子点光扩散膜包括：基材层，其一侧开设有若干凹槽；若干量子点体，填充于各凹槽内；上保护层，设于基材层的一侧以封堵凹槽顶部。本实用新型专利技术的可防裁切部水氧腐蚀的LCD背光模组用新型高性能量子点光扩散膜，凹槽之间相互独立，裁切后因有基材层的防护，不会影响其余凹槽内量子点体的效能，有效阻隔水氧腐蚀，防止水氧腐蚀向量子点光扩散膜内部扩散，实现量子点光扩散膜一处受到切割裁剪而不影响其他位置，从而有效保护整体的量子点光扩散膜，保证其使用寿命。寿命。寿命。

【技术实现步骤摘要】
可防裁切部水氧腐蚀的LCD背光模组用新型高性能量子点光扩散膜


[0001]本技术属于量子点光学膜
，具体涉及一种可防裁切部水氧腐蚀的LCD背光模组用新型高性能量子点光扩散膜。

技术介绍

[0002]量子点扩散膜制备的LCD背光模组在显示器和其它光学构造中常常使用。但是由于量子点对水氧的敏感性，量子点需对氧气和水汽密封，需要采取一定的技术手段把量子点与水汽和氧气进行隔绝。传统的做法是采用在扩散层的表面涂布一层水气阻隔层的方式来阻绝水汽和氧气，但该种方法只能阻断从表面进入到内部的水汽和氧气，对量子点扩散膜的切割端面没有阻隔作用。当将量子点光扩散膜安装到显示设备之前，需要根据不同设备的尺寸要求对量子点光扩散膜进行裁切。在量子点光扩散膜的边缘，由于需要裁切的缘故，量子点光扩散膜端面上没有阻隔层，量子点层会暴露在空气中，随着使用时间的推移，量子点层边缘会因为水氧侵蚀而失效失去荧光，会存在显示设备边缘色彩异常的问题，并且水氧侵蚀还会逐渐向内部扩散，从而使薄膜整体的使用寿命变短。

技术实现思路

[0003]本技术的目的是提供一种可防裁切部水本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种可防裁切部水氧腐蚀的LCD背光模组用新型高性能量子点光扩散膜，其特征在于，包括：基材层，其一侧开设有若干凹槽；若干量子点体，填充于各凹槽内；上保护层，设于基材层的一侧以封堵凹槽顶部。2.如权利要求1所述的可防裁切部水氧腐蚀的LCD背光模组用新型高性能量子点光扩散膜，其特征在于，所述量子点体包括量子点和包裹于量子点外侧的发散壳体。3.如权利要求2所述的可防裁切部水氧腐蚀的LCD背光模组用新型高性能量子点光扩散膜，其特征在于，所述发散壳体采用硫化锌层。4.如权利要求1所述的可防裁切部水氧腐蚀的LCD背光模组用新型高性能量子点光扩散膜，其特征在于，所述凹槽为半球状。5.如权利要求1所述的可防裁切部水氧腐蚀的LCD背光模组用新型高性能量子点光扩散膜，其特征在于，所述上保护层位于凹槽位置处设置有...

【专利技术属性】
技术研发人员：李智文，张万超，
申请(专利权)人：常州智文光电科技有限公司，
类型：新型
国别省市：