卡盘装置、半导体腔室和卡盘装置的制作方法制造方法及图纸

技术编号:34477859 阅读:20 留言:0更新日期:2022-08-10 08:53
本发明专利技术提供一种卡盘装置,用于半导体设备,卡盘装置包括承载盘,承载盘的内部设置有至少一个第一电极,第一电极用于与供电组件连接,以接收供电组件提供的射频信号,卡盘装置还包括至少一个电磁感测组件,电磁感测组件与第一电极一一对应设置,且电磁感测组件能够响应于供电组件与第一电极之间的电流所产生的磁场,产生与射频信号对应的电信号。在本发明专利技术中,电磁感测组件能够响应于供电组件与第一电极间连接电路上的电流所产生的磁场,生成对应的电信号,从而可以实时监测射频电流的大小,并且与现有技术方案相比受到射频回路的干扰更小,提高了射频电流的检测精度。本发明专利技术还提供一种半导体腔室、卡盘装置的制作方法和卡盘装置的制作方法。装置的制作方法。装置的制作方法。

【技术实现步骤摘要】
卡盘装置、半导体腔室和卡盘装置的制作方法


[0001]本专利技术涉及半导体工艺设备领域,具体地,涉及一种卡盘装置、一种半导体腔室、一种卡盘装置的制作方法和一种卡盘装置的制作方法。

技术介绍

[0002]在半导体工艺设备领域中,静电卡盘是应用在真空腔室中能够实现吸附晶圆的最主要的手段之一。相对于其他固定晶圆的结构,静电卡盘兼具加热、控温、加载射频功率等功能。由于其良好的稳定性、低颗粒性、控温良好性,静电卡盘在半导体领域中得到极其广泛的应用。
[0003]静电卡盘在基于静电吸附原理吸附晶圆的同时,还可以实现加载射频功率的功能,即,射频功率通过引线馈入到静电卡盘内部的射频电极上,并通过电容耦合的方式耦合到工艺腔室中,从而实现射频加载的功能。
[0004]射频电流直接反映腔室等离子体状态、腔室回路状态,在物理气相沉积(Physical Vapor Deposition,PVD)工艺及刻蚀工艺中是至关重要的参数之一。而在物理气相沉积工艺及刻蚀工艺中,现有的静电卡盘结构只能在通过电源控制射频加载的功率的同时,通过静电卡盘内的探测结构测试晶圆表面的直流偏压,无法直接测量射频加载的电流。
[0005]例如,目前物理气相沉积、刻蚀工艺中探测射频电流的方法是在匹配器和工艺腔室之间连接电流感应器,从而探测腔室加载的电流。然而,应用于半导体腔室的电流感应器价格普遍较高,增加了较多物料成本;并且,电流感应器只能检测由匹配器输出的射频电流,匹配器输出的电流还需通过设置在半导体腔室内部的电缆输出至静电卡盘内部的射频电极,而由于射频回路干扰较大,且腔室中电缆以及硬件结构存在差异性,导致电流感应器检测到的电流无法真实反映加载至射频电极上的电流大小。此外,为消除不同半导体腔室之间的硬件差异导致的一致性问题,每个半导体腔室的电流感应器在探测前还均需单独进行校准,影响半导体工艺效率。
[0006]因此,如何提供一种精度更高的射频电流检测结构,成为本领域亟待解决的技术问题。

技术实现思路

[0007]本专利技术旨在提供一种卡盘装置、一种半导体腔室、一种卡盘装置的制作方法和一种卡盘装置的制作方法,该卡盘装置能够实现实时监测射频电流的大小,并提高射频电流的检测精度。
[0008]为实现上述目的,作为本专利技术的一个方面,提供一种卡盘装置,用于半导体设备,所述卡盘装置包括承载盘,所述承载盘的内部设置有至少一个第一电极,所述第一电极用于与供电组件连接,以接收所述供电组件提供的射频信号,所述卡盘装置还包括至少一个电磁感测组件,所述电磁感测组件与所述第一电极一一对应设置,且所述电磁感测组件能够响应于所述供电组件与所述第一电极之间的电流所产生的磁场,产生与所述射频信号对
应的电信号。
[0009]可选地,所述卡盘装置还包括与所述第一电极一一对应的射频端子柱,所述射频端子柱的顶端与对应的所述第一电极连接,所述射频端子柱的底端由所述承载盘的底面伸出,所述第一电极通过对应的所述射频端子柱与所述供电组件连接;所述电磁感测组件能够响应于所述射频端子柱中的电流所产生的磁场,产生与所述射频信号对应的电信号。
[0010]可选地,所述电磁感测组件包括螺旋部和线圈内导线,所述线圈内导线环绕对应的所述射频端子柱,所述螺旋部环绕对应的所述线圈内导线且沿所述线圈内导线的延伸方向螺旋延伸,所述螺旋部的第一端与所述线圈内导线的第一端连接,所述螺旋部的第二端和所述线圈内导线的第二端均用于与检测电路连接,以使所述检测电路能够根据所述螺旋部及所述线圈内导线上产生的电信号确定所述射频端子柱中的电流。
[0011]可选地,所述螺旋部包括第二连接柱、多根第一导电条、多根第二导电条和多根第一连接柱,所述第一导电条与所述第二导电条均沿水平方向延伸且沿高度方向分别位于所述线圈内导线的两侧,多根所述第一导电条呈第一环形分布且在水平面上的投影位置与所述线圈内导线对应,多根所述第二导电条呈第二环形分布且在水平面上的投影位置与所述线圈内导线对应,所述第一导电条和所述第二导电条的水平投影均与所述线圈内导线的水平投影交叉,所述第一环形与所述第二环形同轴设置;
[0012]每根所述第一导电条与所述第一环形的径向之间的夹角方向彼此相同,每根所述第二导电条与所述第二环形的径向之间的夹角方向彼此相同,所述第一导电条与所述第一环形的径向之间的夹角方向与所述第二导电条与所述第二环形的径向之间的夹角方向相反,所述第一连接柱沿竖直方向延伸,且相邻两根所述第一导电条倾向对方的一端分别通过一根所述第一连接柱与同一所述第二导电条的两端连接,相邻两根所述第二导电条倾向对方的一端分别通过一根所述第一连接柱与同一所述第一导电条的两端连接;
[0013]对应于所述螺旋部第一端的所述第一导电条或所述第二导电条的背离相邻导电条的一端通过所述第二连接柱与所述线圈内导线的第一端连接,对应于所述螺旋部第二端的所述第一导电条或所述第二导电条的背离相邻导电条的一端用于与所述检测电路连接。
[0014]可选地,所述电磁感测组件还包括两个探测端子柱,所述螺旋部和所述线圈内导线设置在所述承载盘的内部,两个所述探测端子柱的顶端分别与对应的所述螺旋部的第二端以及所述线圈内导线的第二端连接,两个所述探测端子柱的底端由所述承载盘的底面伸出;所述螺旋部的第二端和所述线圈内导线的第二端分别通过一个所述探测端子柱与所述检测电路连接。
[0015]可选地,所述螺旋部和所述线圈内导线位于所述承载盘的下方。
[0016]可选地,所述螺旋部和所述线圈内导线的表面包覆有绝缘层。
[0017]可选地,所述电磁感测组件还包括两个探测端子柱,两个所述探测端子柱的顶端分别与对应的所述螺旋部的第二端以及所述线圈内导线的第二端连接,两个所述探测端子柱的底端用于与所述检测电路连接。
[0018]可选地,所述射频端子柱的材质为无磁金属材料。
[0019]作为本专利技术的第二个方面,提供一种半导体腔室,包括腔体和供电组件,还包括前面所述的卡盘装置,其中,所述承载盘设置在所述腔体中。
[0020]作为本专利技术的第三个方面,提供一种卡盘装置的制作方法,所述卡盘装置的制作
方法用于制作前面所述的卡盘装置,所述制作方法包括:
[0021]采用金属导线制备所述螺旋部和所述线圈内导线,所述螺旋部环绕对应的所述线圈内导线且沿所述线圈内导线的延伸方向螺旋延伸,所述螺旋部的第一端与所述线圈内导线的第一端连接;将每个所述探测端子柱的顶端分别与对应的所述螺旋部的第二端以及所述线圈内导线的第二端固定连接;
[0022]将第一电极、射频端子柱以及对应的每个所述电磁感测组件埋入卡盘浆料中,并使所述线圈内导线环绕对应的所述射频端子柱,且每个所述探测端子柱的底端伸出;
[0023]烧结所述卡盘浆料,形成所述承载盘,并使每个所述探测端子柱的底端伸出所述承载盘的底面,以得到所述卡盘装置。
[0024]作为本专利技术的第四个方面,提供一种卡盘装置的制作方法,所述制作方法包括:
[0025]制作承载盘基体,本文档来自技高网
...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种卡盘装置,用于半导体设备,所述卡盘装置包括承载盘,所述承载盘的内部设置有至少一个第一电极,所述第一电极用于与供电组件连接,以接收所述供电组件提供的射频信号,其特征在于,所述卡盘装置还包括至少一个电磁感测组件,所述电磁感测组件与所述第一电极一一对应设置,且所述电磁感测组件能够响应于所述供电组件与所述第一电极之间的电流所产生的磁场,产生与所述射频信号对应的电信号。2.根据权利要求1至中任意一项所述的卡盘装置,其特征在于,所述卡盘装置还包括与所述第一电极一一对应的射频端子柱,所述射频端子柱的顶端与对应的所述第一电极连接,所述射频端子柱的底端由所述承载盘的底面伸出,所述第一电极通过对应的所述射频端子柱与所述供电组件连接;所述电磁感测组件能够响应于所述射频端子柱中的电流所产生的磁场,产生与所述射频信号对应的电信号。3.根据权利要求2所述的卡盘装置,其特征在于,所述电磁感测组件包括螺旋部和线圈内导线,所述线圈内导线环绕对应的所述射频端子柱,所述螺旋部环绕对应的所述线圈内导线且沿所述线圈内导线的延伸方向螺旋延伸,所述螺旋部的第一端与所述线圈内导线的第一端连接,所述螺旋部的第二端和所述线圈内导线的第二端均用于与检测电路连接,以使所述检测电路能够根据所述螺旋部及所述线圈内导线上产生的电信号确定所述射频端子柱中的电流。4.根据权利要求3所述的卡盘装置,其特征在于,所述螺旋部包括第二连接柱、多根第一导电条、多根第二导电条和多根第一连接柱,所述第一导电条与所述第二导电条均沿水平方向延伸且沿高度方向分别位于所述线圈内导线的两侧,多根所述第一导电条呈第一环形分布且在水平面上的投影位置与所述线圈内导线对应,多根所述第二导电条呈第二环形分布且在水平面上的投影位置与所述线圈内导线对应,所述第一导电条和所述第二导电条的水平投影均与所述线圈内导线的水平投影交叉,所述第一环形与所述第二环形同轴设置;每根所述第一导电条与所述第一环形的径向之间的夹角方向彼此相同,每根所述第二导电条与所述第二环形的径向之间的夹角方向彼此相同,所述第一导电条与所述第一环形的径向之间的夹角方向与所述第二导电条与所述第二环形的径向之间的夹角方向相反,所述第一连接柱沿竖直方向延伸,且相邻两根所述第一导电条倾向对方的一端分别通过一根所述第一连接柱与同一所述第二导电条的两端连接,相邻两根所述第二导电条倾向对方的一端分别通过一根所述第一连接柱与同一所述第一导电条的两端连接;对应于所述螺旋部第一端的所述第一导电条或所述第二导电条的背离相邻导电条的一端通过所述第二连接柱与所述线圈内导线的第一端连接,对应于所述螺旋部第二端的所述第一导电条或所述第二导电条的背离相邻导电条的一端用于与所述检测电路连接。5.根据权利要求3或4所述的卡盘装置,其特征在于,所述电磁感测组件还包括两个探测端子柱,所述螺旋部和所述线圈内导线设置在所述承载盘的内部,两个所述探测端子柱的顶端分别与对应的所述螺旋部的第二端以及所述线圈内导线的第二端连接,两个所述探测端子柱的底端由所述承载盘的底面伸出;所述螺旋部的第二端和所述线圈内导线的第二端分别通过一个所述探测端子柱与所述检测电路连接。6.根据权利要求3或4所述的卡盘装置,其特征在于,所述螺旋部和所述线圈内导线位于所述承载盘的下方。
7.根据权利要求6所述的卡盘装置,其特征在于,所述螺旋部和所述线圈内导线的表面包覆有绝缘层。8.根据权利要求6所述的卡盘装置,其特征在于,所述电磁感测组件还包括两个探测端子柱,两个所述探测端子柱的顶端分别与对应的所述螺旋部的第二...

【专利技术属性】
技术研发人员:孙诗壮叶华史全宇
申请(专利权)人:北京北方华创微电子装备有限公司
类型:发明
国别省市:

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