路径编辑的方法和装置制造方法及图纸

本发明专利技术实施例提供了一种路径编辑的方法和装置，应用于半导体装备技术领域，该方法包括：接收用户基于路径编辑界面输入的新建指令，响应于新建指令，在传送路径中添加新建工艺步骤，并在路径编辑界面中标示出新建工艺步骤的多个输入控件，接收用户通过目标输入控件输入的配置参数，并将配置参数作为目标参数标题指定的一项工艺配置添加到新建工艺步骤的工艺配置中。由于每个工艺步骤对应的多个输入控件依次显示，用户可以通过多个输入控件直接输入与参数标题对应的工艺配置，完成对工艺步骤的编辑，可以避免在不同区域之间频繁切换，从而可以提高传送路径的编辑效率。从而可以提高传送路径的编辑效率。从而可以提高传送路径的编辑效率。

【技术实现步骤摘要】
路径编辑的方法和装置


[0001]本专利技术涉及半导体装备
，特别是涉及一种路径编辑的方法和装置。

技术介绍

[0002]半导体工艺设备的自动化生产依赖于创建的自动任务来完成，而创建自动任务中最重要的一项工作是编辑晶圆(wafer)的传送路径，半导体工艺设备可以根据传送路径在各个工艺腔室之间调度晶圆，实现对晶圆的加工处理。在先技术中，传送路径的编辑过程比较繁琐，效率较低。

技术实现思路

[0003]本专利技术实施例所要解决的技术问题是传送路径的编辑过程比较繁琐，效率较低的问题。
[0004]为了解决上述问题，本专利技术实施例公开了一种路径编辑方法，包括：
[0005]接收用户基于路径编辑界面输入的新建指令；所述路径编辑界面用于建立并编辑传送路径，所述路径编辑界面中依次显示有多个参数标题；
[0006]响应于所述新建指令，在所述传送路径中添加新建工艺步骤，并在所述路径编辑界面中标示出所述新建工艺步骤的多个输入控件；所述多个输入控件依次显示，并且每个所述输入控件分别对应于其中一个所述参数标题；
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【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种路径编辑的方法，用于编辑晶圆在半导体工艺设备中的传送路径，其特征在于，包括：接收用户基于路径编辑界面输入的新建指令；所述路径编辑界面用于建立并编辑传送路径，所述路径编辑界面中依次显示有多个参数标题；响应于所述新建指令，在所述传送路径中添加新建工艺步骤，并在所述路径编辑界面中标示出所述新建工艺步骤的多个输入控件；所述多个输入控件依次显示，并且多个所述输入控件一一对应于多个所述参数标题；接收用户通过目标输入控件输入的配置参数，并将所述配置参数作为目标参数标题指定的一项工艺配置添加到所述新建工艺步骤的工艺配置中；所述目标参数标题为所述目标输入控件对应的参数标题。2.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，在接收到所述新建指令之后，所述方法还包括：在所述传送路径中包括预先建立的历史工艺步骤的情况下，若所述历史工艺步骤的历史工艺配置不符合第一预设条件，则输出指示重新编辑所述历史工艺步骤的第一提示信息。3.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述接收用户通过目标输入控件输入的配置参数，包括：在接收到用户对所述目标输入控件的确定操作的情况下，响应于所述确定操作，显示备选窗口；所述备选窗口中包括所述目标参数标题对应的至少一个备选参数；在接收到所述用户对目标备选参数的选择操作的情况下，响应于所述选择操作，将所述目标备选参数作为所述配置参数。4.根据权利要求3所述的方法，其特征在于，所述参数标题中包括腔室类型的参数标题；所述显示备选窗口，包括：在所述目标输入控件与所述腔室类型的参数标题对应的情况下，若所述新建工艺步骤不是所述传送路径中的第一个工艺步骤，则获取前一个工艺步骤的工艺配置中的第一腔室类型；在所述备选窗口中显示第二腔室类型；在所述传送路径的工艺流程中，所述第一腔室类型对应的腔室中的晶圆可传递至所述第二腔室类型对应的腔室。5.根据权利要求4所述的方法，其特征在于，所述在所述备选窗口中显示第二腔室类型，包括：获取预先存储的与所述第一腔室类型对应的配置文件；所述配置文件中包括所述第一腔室对应的至少一个所述第二腔室类型；从所述配置文件中获取所述第二腔室类型，并在所述备选窗口中显示。6.根据权利要求1
‑
5中任一项所述的方法，其特征在于，还包括：在接收到保存指令的情况下，响应于所述保存指令，对所述传送路径中包括的每个工艺步骤的工艺配置进行检测；在每个所述工艺步骤的工艺配置均符合第二预设条件的情况下，保存所述传送路径；在目...

【专利技术属性】
技术研发人员：狄艳，
申请(专利权)人：北京北方华创微电子装备有限公司，
类型：发明
国别省市：