一种垂直光滑的反射型微镜的制作方法技术

本发明专利技术涉及一种垂直光滑的反射型微镜的制作方法，其特征在于利用硅的干法刻蚀和各向异性腐蚀相结合在绝缘层上的硅材料上制作的；具体步骤是：（１）在绝缘层上的硅上生长一层可用于硅的各向异性腐蚀的掩模；（２）在掩模上光刻出制作镜子的窗口；（３）利用步骤（２）中的光刻胶或已经光刻出镜子窗口的掩模作掩模进行硅的干法刻蚀，刻蚀出垂直、相对光滑的镜面；（４）在各向异性腐蚀液中腐蚀，而制成垂直、光滑的镜面。本发明专利技术优点在于镜面光滑，可在更小区域内制作面积是足够大镜面；无用区域小以及工艺简单，仅增加一步干法刻蚀工艺。（*该技术在2023年保护过期，可自由使用*）

【技术实现步骤摘要】

【技术保护点】
一种垂直光滑的反射微镜的制作方法，其特征在于利用硅的干法刻蚀和各向异性腐蚀相结合在绝缘层上的硅材料上制作的。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：王文辉，唐衍哲，杨艺榕，吴亚明，王跃林，
申请(专利权)人：中国科学院上海微系统与信息技术研究所，
类型：发明
国别省市：31[中国|上海]