本申请公开了一种电致变色器件及调光装置，涉及电致变色技术领域。电致变色器件包括变色层组及两导电层组，两所述导电层组分设于所述变色层组的两侧；所述导电层组包括导电层及衬底层，所述导电层设置于所述变色层组与所述衬底层之间；所述导电层组上开设有若干容置槽，所述容置槽由所述衬底层远离所述导电层的一侧表面至少延伸至所述导电层靠近所述衬底层的一侧表面；所述容置槽中设置有导电结构，所述导电结构与所述导电层接触。本申请提供的电致变色器件可降低加工难度，提高加工效率。提高加工效率。提高加工效率。
【技术实现步骤摘要】
一种电致变色器件及调光装置
[0001]本申请涉及电致变色
，尤其涉及一种电致变色器件及调光装置。
技术介绍
[0002]现有的电致变色器件中，通过激光切割等操作在电致变色器件的侧边形成暴露导电层的台阶结构。然而，在激光切割过程中需要严格控制切割深度，以防止切割过深而损坏导电层或切割过浅而无法撕边，使得加工难度较大，进而导致加工效率较低。另外，在激光切割完成后还需要对台阶结构进行擦拭，以清除残余的电解质等，进一步影响了电致变色器件的加工效率。
技术实现思路
[0003]本申请提供了一种电致变色器件及调光装置，降低电致变色器件加工时的精度要求，提升加工效率。
[0004]本申请提供了：
[0005]一种电致变色器件，包括变色层组及两导电层组，两所述导电层组分设于所述变色层组的两侧；
[0006]所述导电层组包括导电层及衬底层，所述导电层设置于所述变色层组与所述衬底层之间；
[0007]所述导电层组上开设有若干容置槽，所述容置槽由所述衬底层远离所述导电层的一侧表面至少延伸至所述导电层靠近所述衬底层的一侧表面；
[0008]所述容置槽中设置有导电结构，所述导电结构与所述导电层接触。
[0009]在一些可能的实施方式中，所述导电层组上开设有多个所述容置槽，多个所述容置槽靠近所述导电层组的一侧边设置，多个所述容置槽沿所述导电层组该侧边的延伸方向布设并布设为一列或多列。
[0010]在一些可能的实施方式中，当多个所述容置槽沿所述导电层组该侧边的延伸方向布设并布设为多列时，相邻列的所述容置槽错位设置。
[0011]在一些可能的实施方式中，相邻两所述容置槽中心的垂直距离d为2.0mm～30.0mm。
[0012]在一些可能的实施方式中，距离所述容置槽所靠近的所述侧边最近的所述容置槽，其中心与该侧边的距离为m为0.5mm～20.0mm。
[0013]在一些可能的实施方式中，平行于用于加工所述导电层组的料卷的幅宽方向，所述容置槽的尺寸n为0.3mm～3.0mm；
[0014]平行于用于加工所述导电层组的料卷的收卷方向，所述容置槽的尺寸h为0.3mm～5.0mm。
[0015]在一些可能的实施方式中，所述容置槽由所述衬底层远离所述导电层的一侧表面延伸至所述导电层远离所述衬底层的一侧表面。
[0016]在一些可能的实施方式中，所述导电结构靠近所述变色层组的一侧还连接有过渡组件，所述过渡组件包括第一汇流条，同一所述导电层组上的每一所述导电结构在所述第一汇流条所在平面的投影均位于所述第一汇流条上。
[0017]在一些可能的实施方式中，所述导电结构靠近所述变色层组的一侧还连接有过渡组件，所述过渡组件远离所述导电结构一侧表面的粗糙度小于所述导电结构靠近所述变色层组一侧表面的粗糙度。
[0018]在一些可能的实施方式中，所述过渡组件包括光油层。
[0019]在一些可能的实施方式中，同一所述导电层组上的每一所述导电结构在所述光油层所在平面的投影均位于所述光油层上。
[0020]在一些可能的实施方式中，所述过渡组件还包括第一汇流条，所述第一汇流条位于所述光油层与所述导电结构之间。
[0021]在一些可能的实施方式中，同一所述导电层组上的每一所述导电结构在所述第一汇流条所在平面的投影均位于所述第一汇流条上，所述第一汇流条在所述光油层所在平面的投影均位于所述光油层上。
[0022]在一些可能的实施方式中，所述过渡组件的厚度小于或等于15μm。
[0023]在一些可能的实施方式中，所述过渡组件能够供光线通过。
[0024]在一些可能的实施方式中，所述电致变色器件还包括第二汇流条和第三汇流条，两所述导电层组包括第一导电层组和第二导电层组；
[0025]其中，所述第二汇流条设置于所述第一导电层组远离所述变色层组的一侧，所述第二汇流条与所述第一导电层组中的每一所述导电结构连接；
[0026]所述第三汇流条设置于所述第二导电层组远离所述变色层组的一侧，所述第三汇流条与所述第二导电层组中的每一所述导电结构连接。
[0027]在一些可能的实施方式中，所述第一导电层组上的每一所述导电结构在所述第二汇流条所在平面的投影，均位于所述第二汇流条上。
[0028]在一些可能的实施方式中，所述第二导电层组上的每一所述导电结构在所述第三汇流条所在平面的投影，均位于所述第三汇流条上。
[0029]在一些可能的实施方式中，所述第二汇流条在所述第三汇流条所在平面的投影，与所述第三汇流条错位。
[0030]另外，本申请还提供了一种调光装置，包括本申请提供的所述电致变色器件。
[0031]本申请的有益效果是：本申请提出一种电致变色器件及调光装置，调光装置包括该电致变色器件。电致变色器件包括变色层组及两导电层组，两导电层组分设于变色层组的两侧，且两导电层组中的导电层靠近变色层组设置。导电层组上开设有暴露导电层的容置槽，容置槽中还设置有与导电层连接的导电结构，以实现导电层的电接出。其中，容置槽可由衬底层远离导电层的一侧表面至少延伸至导电层靠近衬底层的一侧表面，从而可使容置槽的开设深度允许有一定的浮动范围，进而可降低暴露导电层时加工精度要求，降低加工难度，提升加工效率。同时，导电层的暴露位置不会残留电解质等，进而可简化暴露导电层时的操作步骤，进一步提供加工效率。
附图说明
[0032]为了更清楚地说明本申请实施例的技术方案，下面将对实施例中所需要使用的附图作简单地介绍，应当理解，以下附图仅示出了本申请的某些实施例，因此不应被看作是对范围的限定，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他相关的附图。
[0033]图1示出了一些实施例中电致变色器件的部分结构示意图；
[0034]图2示出了一些实施例中电致变色器件的另一部分结构示意图；
[0035]图3示出了一些实施例中容置槽的多种结构示意图；
[0036]图4示出了一些实施例中容置槽的布设方式结构示意图；
[0037]图5示出了另一些实施例中容置槽的布设方式结构示意图；
[0038]图6示出了又一些实施例中容置槽的多种布设方式及形状结构示意图；
[0039]图7示出了一些实施例中导电结构与导电层组的剖视结构示意图；
[0040]图8示出了另一些实施例中导电结构与导电层组的剖视结构示意图；
[0041]图9示出了另一些实施例中导电结构与导电层组的俯视结构示意图；
[0042]图10示出了一些实施例中第二汇流条与导电结构的俯视结构示意图；
[0043]图11示出了一些实施例中第二汇流条与第三汇流条的分布结构示意图；
[0044]图12示出了一些实施例中电致变色器件的剖视结构示意图；
[0045]图13示出了一些实施例中第一导电层组与第一过渡组件的剖视结构示意图；
[0046]图1本文档来自技高网...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.一种电致变色器件，其特征在于，包括变色层组及两导电层组，两所述导电层组分设于所述变色层组的两侧；所述导电层组包括导电层及衬底层，所述导电层设置于所述变色层组与所述衬底层之间；所述导电层组上开设有若干容置槽，所述容置槽由所述衬底层远离所述导电层的一侧表面至少延伸至所述导电层靠近所述衬底层的一侧表面；所述容置槽中设置有导电结构，所述导电结构与所述导电层接触。2.根据权利要求1所述的电致变色器件，其特征在于，所述导电层组上开设有多个所述容置槽，多个所述容置槽靠近所述导电层组的一侧边设置，多个所述容置槽沿所述导电层组该侧边的延伸方向布设并布设为一列或多列。3.根据权利要求2所述的电致变色器件，其特征在于，当多个所述容置槽沿所述导电层组该侧边的延伸方向布设并布设为多列时，相邻列的所述容置槽错位设置。4.根据权利要求2所述的电致变色器件，其特征在于，相邻两所述容置槽中心的垂直距离d为2.0mm～30.0mm。5.根据权利要求2所述的电致变色器件，其特征在于，距离所述容置槽所靠近的所述侧边最近的所述容置槽，其中心与该侧边的距离为m为0.5mm～20.0mm。6.根据权利要求2至5任一项所述的电致变色器件，其特征在于，平行于用于加工所述导电层组的料卷的幅宽方向，所述容置槽的尺寸n为0.3mm～3.0mm；平行于用于加工所述导电层组的料卷的收卷方向，所述容置槽的尺寸h为0.3mm～5.0mm。7.根据权利要求1所述的电致变色器件，其特征在于，所述容置槽由所述衬底层远离所述导电层的一侧表面延伸至所述导电层远离所述衬底层的一侧表面。8.根据权利要求7所述的电致变色器件，其特征在于，所述导电结构靠近所述变色层组的一侧还连接有过渡组件，所述过渡组件包括第一汇流条，同一所述导电层组上的每一所述导电结构在所述第一汇流条所在平面的投影均位于所述第一汇流条上。9.根据权利要求7所述的电致变色器件，其特征在于，所述导电结构靠近所述变色层组的一侧还连接有过渡组件，所述过渡组件远离所述导电结构一侧表面的粗糙度小于...
【专利技术属性】
技术研发人员：陈海峰，孙飞，
申请(专利权)人：光羿智能科技苏州有限公司，
类型：新型
国别省市：
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