高双折射保偏光纤及其制造方法技术

本发明专利技术涉及光纤通信领域或传感器及纤维光学器件领域应用的高双折射保偏光纤，特别涉及高双折射保偏光纤的结构及其制造方法。该光纤包括纤芯和包覆纤芯的包层，在包层中纤芯的两侧对称设置截面形状为三角形的应力元。在包层中还可设置应力微孔。该方法的特点是采用ＯＶＤ工艺将芯棒和应力棒组合件外喷上包层，使芯棒和应力棒被包覆于包层中，然后再拉丝成纤。本发明专利技术不仅简化了制造工艺方法，降低了制造成本，易于实施和操作，而且有效地提高了保偏光纤的轴向均匀性和光纤强度；可以自由地实现各种微孔形状的波导结构。保偏光纤可获得更高的双折射，使其具备优良的保偏性能。（*该技术在2023年保护过期，可自由使用*）

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本专利技术涉及光纤通信领域或传感器及纤维光学器件领域应用的高双折射保偏光纤，特别涉及高双折射保偏光纤的结构及其制造方法。
技术介绍
标准单模光纤传输的横向空间模式HE11，实际上是两个正交模式HE11x和HE11y的简并模式(由于βx≈βy)。实际的单模光纤由于几何尺寸并非理想的圆形，以及其它的缺陷包括外界应力作用、弯曲和扭转等因素的影响，导致模态简并的破坏，两种模态传输常数βx、βy不同，从而产生模态双折射，导致正交模分量间产生相位差，以及产生传输的时延差，即偏振模色散(PMD)。保偏光纤就是人为地引入双折射(几何双折射和应力双折射)，使正交模态之间传播常数差(Δβ＝βx-βy)增大，减小模态的耦合，从而维持光在光纤中传输的偏振状态。携带三维信息(信息-时间-空间)的保偏光纤极有可能取代常规单模光纤进行相干光通信，且彻底解决高速传输系统(10Gbit/s及以上速率)中的偏振模色散问题。90年代以来，保偏光纤偏振器技术研究取得了重大突破，为相关的光纤传感器的实用化提供了技术保障，并且随着电子信息技术的进步，光纤陀螺、光纤偏振器、光纤偏振耦合器、波分复用器、调制器、水听器等对偏振保本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种高双折射保偏光纤，包括纤芯和包覆纤芯的包层，在包层中纤芯的两侧对称设置应力元，其特征在于所述的应力元截面形状为三角形。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】

【专利技术属性】
技术研发人员：刘有信，陈伟，李诗愈，尹红兵，朱明华，王淑斌，李进延，
申请(专利权)人：烽火通信科技股份有限公司，
类型：发明
国别省市：83[中国|武汉]