磁性样片气隙附近磁通分布测量装置制造方法及图纸

技术编号:34464938 阅读:15 留言:0更新日期:2022-08-10 08:37
本发明专利技术涉及磁性样片磁通测量技术领域,具体公开了一种磁性样片气隙附近磁通分布的测量装置。该装置包括:承载机构;第一方向调节机构,连接于承载机构,用于在第一方向上调节及固定第一待测样片和第二待测样片的位置;第二方向调节机构,连接于承载机构,用于在第二方向上调节第一待测样片和第二待测样片的位置,进而调节第一待测样片和第二待测样片之间的间距;安装有探针的探针调节机构,探针调节机构连接于承载机构。本发明专利技术在第一方向和第二方向上调节第一待测样片和第二待测样片的位置,对不同气隙长度下的磁通分布情况进行测量,探针调节机构控制探针对应第一待测样片和第二待测样片之间的气隙,以对待测样片不同位置的磁通分布进行测量。磁通分布进行测量。磁通分布进行测量。

【技术实现步骤摘要】
磁性样片气隙附近磁通分布测量装置


[0001]本专利技术涉及磁性样片磁通测量
,具体而言,涉及一种磁性样片气隙附近磁通分布的测量装置。

技术介绍

[0002]随着电能的广泛利用,人们的生活中必不可少的需要接触电气设备,电抗器作为du/dt滤波器、正弦滤波器和电压峰值限制器的重要部分,用于满足电网标准和EMC(Electro Magnetic Environment,电磁环境)法规的要求,是电力电子设备中必不可少一部分。
[0003]在电抗器的实际使用中,通常会对电抗器铁心进行切割使其带有气隙,主要是因为:电抗器在不开气隙的情况下其感值和铁心本身磁导率呈一次函数的线性关系,极易受温度等外界条件的影响,添加气隙可以使电抗器的电感值更加稳定;电抗器铁心的磁导率一般很大,较小的外加励磁就会使铁心饱和,添加气隙可以使电抗器承受更大的励磁电流,大大增强电抗器的抗饱和能力;电抗器的储能能力随着气隙的增加而增强,使电抗器可以以更小的体积储存更多的能量。增加气隙可以使电抗器的性能获得很大的提升。
[0004]但是随着气隙的加入,电抗器会在气隙附近产生额外的损耗并影响气隙附近磁通的分布,而磁通的分布又会引起损耗的上升,这部分损耗的增加使得设备整体的工作效率降低,极端情况下甚至使电气设备发生损坏。因此,对气隙附近磁通的分布进行测量,了解气隙附近的磁通分布情况并计算相应的损耗、提出相应的降低损耗的方法对提升电气设备的工作效率和安全稳定运行有重要意义。目前,对于不同气隙长度情况下的气隙附近磁通分布的测量研究较少,没有相应的装置,使得这方面的研究大大受限。

技术实现思路

[0005]鉴于此,本专利技术提出了一种磁性样片气隙附近磁通分布的测量装置,旨在解决磁性样片气隙附件的磁通无法测量的问题。
[0006]本专利技术提出了一种磁性样片气隙附近磁通分布测量装置,该装置包括:承载机构,用于固定U型铁芯;第一方向调节机构,连接于所述承载机构,所述第一方向调节机构用于在第一方向上调节及固定所述第一待测样片和所述第二待测样片;所述第一待测样片和所述第二待测样片分别与所述U型铁芯的两个自由端面相压接;第二方向调节机构,连接于所述承载机构,所述第二方向调节机构用于在第二方向上调节及固定所述第一待测样片和所述第二待测样片,以使所述第一待测样片和所述第二待测样片在第二方向上形成气隙;安装有探针的探针调节机构,所述探针调节机构连接于所述承载机构,所述探针调节机构用于在第一方向、第二方向及第三方向上调节所述探针的位置;所述第一方向、所述第二方向、所述第三方向相互垂直,所述第二方向为所述第一待测样片和所述第二待测样片的长度方向。
[0007]进一步地,上述所述承载机构包括:下平台本体,用于固定U型铁芯;上平台本体,
连接于所述下平台本体,并且,所述上平台本体开设有用于所述U型铁芯的两个自由端穿过的穿设孔。
[0008]进一步地,上述所述承载机构中,所述第一方向调节机构包括:两个样片放置台,均连接于所述上平台本体且沿第一方向对应放置,两个样片放置台分别用于放置第一待测样片和第二待测样片,以及在第一方向上调节所述第一待测样片和所述第二待测样片的位置。
[0009]进一步地,上述所述承载机构中,每个所述样片放置台均包括:第一放置台本体,连接于所述上平台本体,所述第一放置台本体凸设有用于承载所述第一待测样片或所述第二待测样片的承载部;第一方向位移台,与所述第一放置台本体相连接,所述第一方向位移台与所述第一待测样片相抵接进而在所述第一方向上调节所述第一待测样片或所述第二待测样片的位置。
[0010]进一步地,上述所述承载机构中,所述第一方向位移台包括:第一下平台,与所述第一放置台本体固定连接,所述第一下平台凸设有第一连接件,所述第一连接件开设有第一螺纹孔;第一上平台,置于所述第一下平台的上方且与所述第一下平台沿所述第一方向可滑动地相连接;第一挡板,固定连接于所述第一上平台,并且,所述第一挡板与所述第一待测样片相抵接;第一螺旋测微套筒,螺纹连接于所述第一螺纹孔且端部穿设所述第一螺纹孔后与所述第一上平台相抵接,以推动所述第一上平台沿着第一方向相对所述第一下平台滑动。
[0011]进一步地,上述所述承载机构中,所述第一方向位移台为两个且分布于所述第一待测样片的两侧。
[0012]进一步地,上述所述承载机构中,至少一个所述样片放置台的第一放置台本体与所述上平台本体沿所述第一方向位置可调地相连接;或者,所述第一待测样片和所述第二待测样片之间设置有中部挡板,所述中部挡板沿所述第一方向可滑动地连接于所述上平台本体。
[0013]进一步地,上述所述承载机构中,所述第二方向调节机构包括:两个样片端部搭接台,均连接于所述上平台本体且沿第二方向分布于所述上平台本体的两端,两个所述样片端部搭接台分别用于放置所述第一待测样片和所述第二待测样片相背离的一端的端部,以及在第二方向上调节所述第一待测样片和所述第二待测样片之间的间距。
[0014]进一步地,上述所述承载机构中,每个所述样片端部搭接台均包括:第二下平台,与所述上平台本体固定连接,所述第二下平台凸设有第二连接件,所述第二连接件开设有第二螺纹孔;第二上平台,置于所述第二下平台的上方且与所述第二下平台沿所述第二方向可滑动地相连接;第二挡板,固定连接于所述第二上平台,并且,所述第二挡板与所述第一待测样片或所述第二待测样片的端部相抵接;第二螺旋测微套筒,螺纹连接于所述第二螺纹孔且端部穿设所述第二螺纹孔后与所述第二上平台相抵接,以推动所述第二上平台沿着第二方向相对所述第二下平台滑动。
[0015]进一步地,上述所述承载机构中,所述探针调节机构包括:第一方向下平台,固定连接于所述下平台本体;第一方向上平台,沿所述第一方向可滑动地连接于所述第一方向下平台;第一方向调节件,连接于所述第一方向下平台和所述第一方向上平台,以推动所述第一方向上平台相对所述第一方向下平台滑动;第二方向下平台,固定连接于所述第一方
向上平台;第二方向上平台,沿所述第二方向可滑动地连接于所述第二方向下平台;二方向调节件,连接于所述第二方向下平台和所述第二方向上平台,以推动所述第二方向上平台相对所述第二方向下平台滑动;第三方向下平台,固定连接于所述第二方向上平台;第三方向上平台,沿所述第三方向可滑动地连接于所述第三方向下平台;第三方向调节件,连接于所述第三方向下平台和所述第三方向上平台,以推动所述第三方向上平台相对所述第三方向下平台滑动;支架,连接于所述第二方向上平台,用于安装探针。
[0016]可以看出,本专利技术在第一方向和第二方向上调节第一待测样片和第二待测样片的位置,进而对不同气隙长度下的磁通分布情况进行测量。另外,采用探针调节机构控制探针相对第一待测样片和第二待测样片之间的气隙位置,能够对待测样片不同位置的磁通分布进行测量。此外,本专利技术的第一方向调节机构和第二方向调节机构还可以对第一待测样片和第二待测样片进行固定,保证在测试过程中第一待测样片和第二待测样片不会产生过大的抖动,提高了测量精度,减本文档来自技高网
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【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种磁性样片气隙附近磁通分布测量装置,其特征在于,包括:承载机构,用于固定U型铁芯;第一方向调节机构,连接于所述承载机构,所述第一方向调节机构用于在第一方向上调节及固定所述第一待测样片和所述第二待测样片;所述第一待测样片和所述第二待测样片分别与所述U型铁芯的两个自由端面相压接;第二方向调节机构,连接于所述承载机构,所述第二方向调节机构用于在第二方向上调节及固定所述第一待测样片和所述第二待测样片,以使所述第一待测样片和所述第二待测样片在第二方向上形成气隙;安装有探针的探针调节机构,所述探针调节机构连接于所述承载机构,所述探针调节机构用于在第一方向、第二方向及第三方向上调节所述探针的位置;所述第一方向、所述第二方向、所述第三方向相互垂直,所述第二方向为所述第一待测样片和所述第二待测样片的长度方向。2.根据权利要求1所述的磁性样片气隙附近磁通分布测量装置,其特征在于,所述承载机构包括:下平台本体,用于固定U型铁芯;上平台本体,连接于所述下平台本体,并且,所述上平台本体开设有用于所述U型铁芯的两个自由端穿过的穿设孔。3.根据权利要求2所述的磁性样片气隙附近磁通分布测量装置,其特征在于,所述第一方向调节机构包括:两个样片放置台,均连接于所述上平台本体且沿第一方向对应放置,两个样片放置台分别用于放置第一待测样片和第二待测样片,以及在第一方向上调节所述第一待测样片和所述第二待测样片的位置。4.根据权利要求3所述的磁性样片气隙附近磁通分布测量装置,其特征在于,每个所述样片放置台均包括:第一放置台本体,连接于所述上平台本体,所述第一放置台本体凸设有用于承载所述第一待测样片或所述第二待测样片的承载部;第一方向位移台,与所述第一放置台本体相连接,所述第一方向位移台与所述第一待测样片相抵接进而在所述第一方向上调节所述第一待测样片或所述第二待测样片的位置。5.根据权利要求4所述的磁性样片气隙附近磁通分布测量装置,其特征在于,所述第一方向位移台包括:第一下平台,与所述第一放置台本体固定连接,所述第一下平台凸设有第一连接件,所述第一连接件开设有第一螺纹孔;第一上平台,置于所述第一下平台的上方且与所述第一下平台沿所述第一方向可滑动地相连接;第一挡板,固定连接于所述第一上平台,并且,所述第一挡板与所述第一待测样片相抵接;第一螺旋测微套筒,螺纹连接于所述第一螺纹孔且端部穿设所述第一螺纹孔后与所述第一上平台相抵接,以推动所述第一上平台相对所述第一下平台滑动。6.根据权利要求5所述...

【专利技术属性】
技术研发人员:方进田晨曦
申请(专利权)人:北京交通大学
类型:发明
国别省市:

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