【技术实现步骤摘要】
闪存、快闪存储单元及其操作方法
[0001]本专利技术是有关于一种闪存、快闪存储单元及其操作方法,且特别是有关于一种具双端访问机制的闪存、快闪存储单元及其操作方法。
技术介绍
[0002]在习知的
中,或非门闪存(NOR Flash Memory)通过一个晶体管(1T)的方式来建构单一快闪存储单元。这样形式的快闪存储单元,无法提供过擦除(over erase)的动作,来使快闪存储单元的阈值电压可以为负电压。在这样的前提下,已知的
中的或非门闪存,在进行读取动作时,需要提供较高的字线电压来激活晶体管,并读取所存储的数据。因此,已知技术中,快闪存储单元的读取速度会受到限制,并需要较高的功率消耗。相对应的,在执行编程动作时,因需要将快闪存储单元的阈值电压提升至相对高的电压值,也需要更高的编程电压,同样会造成高功率消耗。并且,在漏电电流以及数据可靠度的问题上,也产生了负面的影响。
技术实现思路
[0003]本专利技术提供一种闪存及其快闪存储单元,可降低为选中存储单元的漏电现象,并可支持过度擦除以及0字线电
【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.一种快闪存储单元,其中,包括:一整流元件,具有输入端耦接至一位线;以及一晶体管,具有一电荷存储结构,该晶体管具有第一端耦接至该整流元件的输出端,该晶体管具有第二端耦接至一源极线,该晶体管的控制端耦接至一字线。2.根据权利要求1所述的快闪存储单元,其中,该晶体管具有一浮动栅极,该浮动栅极用以形成该电荷存储结构。3.根据权利要求2所述的快闪存储单元,其中,该晶体管更具有一控制栅极,该控制栅极耦接至该字线并覆盖该浮动栅极。4.根据权利要求1所述的快闪存储单元,其中,该晶体管为栅极全环晶体管,并具有一氧化硅
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氮化硅
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氧化硅结构以作为该电荷存储结构。5.根据权利要求1所述的快闪存储单元,其中,该整流元件为一二极管,该二极管的阳极为该整流元件的输入端,该二极管的阴极为该整流元件的输出端。6.根据权利要求1所述的快闪存储单元,其中,该整流元件为后段工艺形成的选择器。7.根据权利要求4所述的快闪存储单元,其中,该晶体管还包括:一衬底,一第一掺杂区,耦接至该源极线;一多晶硅结构,设置在该第一掺杂区上;一氧化硅
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氮化硅
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氧化硅结构;一内存栅极,环绕该多晶硅结构并耦接至该字线,其中该氧化硅
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氮化硅
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氧化硅结构设置在该内存栅极与该多晶硅结构间;一第二掺杂区,设置在该多晶硅结构的上方;以及一第三掺杂区,设置在该第二掺杂区的上方,并耦接至该位线,其中,该第一掺杂区与该第二掺杂区具有相同的导电极性,该第二掺杂区与该第三掺杂区具有不同的导电极性。8.一种闪存,其中,包括:多个快闪存储单元,排列成一存储单元阵列,该存储单元阵列中具有多个存储单元行以及多个存储单元列;多条位线,分别耦接至该些存储单元列;多条字线,分别耦接至该些存储单元列;以及多条源极线,分别耦接至该些存储单元行;其中,各该快闪存储单元包括:一整流元件,具有输入端耦接至对应的位线;以及一晶体管,具有一电荷存储结构,该晶体管具有第一端耦接至该整流元件的输出端,该晶体管具有第二端耦接至对应的源极线,该晶体管的控制端耦接至对应的字线。9.根据权利要求8所述的闪存,其中,该晶体管具有一浮动...
【专利技术属性】
技术研发人员:李峯旻,曾柏皓,林榆瑄,李明修,
申请(专利权)人:旺宏电子股份有限公司,
类型:发明
国别省市:
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