本实用新型专利技术公开了一种工业用大功率半导体除尘装置，涉及工业除尘技术领域，其技术方案要点是该工业用大功率半导体除尘装置，包括大功率半导体装置，大功率半导体装置的顶部设有进风管，进风管的另一端连接有除尘机构，大功率半导体装置的一侧设有排风管，除尘机构包括壳体，排风管的另一端贯穿壳体连接有转滤筒，转滤筒上方贯穿壳体设有高压水管，高压水管位于壳体内部设有若干个雾化喷头，壳体内侧位于高压水管上方设有若干层干燥结构，效果是通过设置转滤筒和雾化喷头提高装置工作时产生气体的除尘降温效果，提高此装置的使用性能。能。能。
【技术实现步骤摘要】
一种工业用大功率半导体除尘装置
[0001]本技术涉及工业除尘
，更具体地说，它涉及一种工业用大功率半导体除尘装置。
技术介绍
[0002]半导体是指一种导电性可受控制，范围可从绝缘体至导体之间的材料。无论从科技或是经济发展的角度来看，半导体的重要性都是非常巨大的。
[0003]由于工业上在使用大功率半导体装置时容易产生大量的热，如果不能及时将热量散去，会影响半导体的工作性能，而且工作场景中的灰尘积聚到半导体上时也会影响其工作性能，鉴于此，提供一种工业用大功率半导体除尘装置。
技术实现思路
[0004]针对现有技术存在的不足，本技术的目的在于提供一种既能帮助装置散热，又能除尘的工业用大功率半导体除尘装置。
[0005]为实现上述目的，本技术提供了如下技术方案：一种工业用大功率半导体除尘装置，包括大功率半导体装置，所述大功率半导体装置的顶部设有进风管，所述进风管的另一端连接有除尘机构，所述大功率半导体装置的一侧设有排风管，所述除尘机构包括壳体，所述排风管的另一端贯穿壳体连接有转滤筒，所述转滤筒上方贯穿壳体设有高压水管，所述高压水管位于壳体内部设有若干个雾化喷头，所述壳体内侧位于高压水管上方设有若干层干燥结构。
[0006]优选地，所述转滤筒内侧连接有若干个固定支架，所述固定支架中间贯穿连接有转动杆，所述转动杆贯穿转滤筒和壳体连接有驱动电机。
[0007]优选地，所述进风管上靠近大功率半导体装置处设有第一风扇，所述第一风扇连接有第一风机。
[0008]优选地，所述排风管上设有第二风扇，所述第二风扇连接有第二风机。
[0009]优选地，所述高压水管的另一端连接有提升泵，所述提升泵的进水端贯穿连接有水箱，所述提升泵的进水端靠近水箱的底部。
[0010]优选地，所述壳体上高于转滤筒底部处设有回流管，所述回流管的另一端贯穿连接到水箱的顶部。
[0011]优选地，所述壳体底部贯穿设有排污口，所述排污口上设有阀门。
[0012]优选地，所述若干个干燥结构之间留有一定的空隙。
[0013]与现有技术相比，本技术具备以下有益效果：
[0014]1、通过设置转滤筒和雾化喷头提高装置工作时产生气体的除尘降温效果，提高此装置的使用性能。
[0015]2、通过设置回流管，增加了对转滤筒的清洁措施，提高了转滤筒和雾化喷头的使用效率。
附图说明
[0016]图1为本技术实施例的示意图。
[0017]图中：1、大功率半导体装置；2、进风管；3、第一风机；31、第一风扇；4、除尘机构；41、壳体；42、转滤筒；43、固定支架；44、转动杆；45、驱动电机；46、干燥结构；47、排污口；48、阀门；5、高压水管；51、雾化喷头；6、回流管；7、排风管；8、第二风机；81、第二风扇；9、水箱；91、提升泵。
具体实施方式
[0018]下面将结合本技术实施例中的附图，对本技术实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本技术一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本技术中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本技术保护的范围。
[0019]一种工业用大功率半导体除尘装置，请参阅图1，包括大功率半导体装置1，大功率半导体装置1的顶部设有进风管2，通过进风管2为大功率半导体装置1内送入洁净的冷空气，进风管2的另一端连接有除尘机构4，除尘机构4为了将大功率半导体装置1内出来的浑浊的热空气降温除尘，大功率半导体装置1的一侧设有排风管7，通过排风管7将大功率半导体装置1内气体排到除尘机构4内，除尘机构4包括壳体41，排风管7的另一端贯穿壳体41连接有转滤筒42，转滤筒42上方贯穿壳体41设有高压水管5，高压水管5位于壳体41内部设有若干个雾化喷头51，通过所有的雾化喷头51将高压水管5内的水转变为雾状喷出，以达到出去气体中大颗粒灰尘的作用，壳体41内侧位于高压水管5上方设有若干层干燥结构46，使得气体在排出除尘机构4前充分的干燥。
[0020]请参阅图1，转滤筒42内侧连接有若干个固定支架43，固定支架43中间贯穿连接有转动杆44，通过转动杆44带动固定支架43转动，从而使得转滤筒42旋转，转动杆44贯穿转滤筒42和壳体41连接有驱动电机45，通过驱动电机带动转动杆44转动。
[0021]请参阅图1，进风管2上靠近大功率半导体装置1处设有第一风扇31，第一风扇31连接有第一风机3，通过第一风扇31将除尘机构4内处理过的气体回流到大功率半导体装置1内。
[0022]请参阅图1，排风管7上设有第二风扇81，第二风扇81连接有第二风机8，通过第二风扇81将大功率半导体装置1内的气体排出到除尘机构4内。
[0023]请参阅图1，高压水管5的另一端连接有提升泵91，提升泵91的进水端贯穿连接有水箱9，提升泵91的进水端靠近水箱9的底部，通过提升泵91将水源源不断的送入高压水管5，以满足雾化喷头51的雾化工作。
[0024]请参阅图1，壳体41上高于转滤筒42底部处设有回流管6，使得壳体41内的水位略高于转滤筒42的底部，达到不断清洗转滤筒42的目的，回流管6的另一端贯穿连接到水箱9的顶部，使得多余的水回流到水箱9内，形成循环结构。
[0025]请参阅图1，壳体41底部贯穿设有排污口47，排污口47上设有阀门48，当除尘机构4运行一段时间后，里面的残渣必定形成沉降，通过打开阀门48来清理内部的残渣。
[0026]请参阅图1，若干个干燥结构46之间留有一定的空隙，通过中间缝隙的缓冲以达到充分干燥的效果。
[0027]工作原理：利用第二风机8连接的第二风扇81将大功率半导体装置1的工作环境内的浑浊热空气排出到除尘机构4内，浑浊热空气经过转滤筒42过滤掉一部分大颗粒灰尘和热量后，进入雾化喷头51的喷雾范围内，进一步的过滤掉其中灰尘颗粒及为带走气体中热量，然后气体经过顶部的若干层干燥结构46，将气体中的水分充分干燥后经过进风管2回流到大功率半导体装置1的工作环境内，利用第一风机3连接的第一风扇31提高气体流动效率，转滤筒42的底部同时侵泡在水里，使得其在过滤的同时，将杂质通过水清洗掉，提高重复过滤的效果，同时利用回流管6将雾化喷头51喷出的水回落到壳体1内并循环到水箱9内，达到水的不断循环使用。
[0028]在本专利的描述中，需要说明的是，除非另有明确的规定和限定，术语“连接”、“设有”、“开有”应做广义理解，例如，可以是固定相连、设置，也可以是可拆卸连接、设置，或一体地连接、设置。对于本领域的普通技术人员而言，可以根据具体情况理解上述术语在本专利中的具体含义。
[0029]以上所述仅是本技术的优选实施方式，本技术的保护范围并不仅局限于上述实施例，凡属于本技术思路下的技术方案均属于本技术的保护范围。应当指出，对于本
的普通技术人员来说，在不脱离本实本文档来自技高网...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.一种工业用大功率半导体除尘装置，包括大功率半导体装置(1)，其特征是：所述大功率半导体装置(1)的顶部设有进风管(2)，所述进风管(2)的另一端连接有除尘机构(4)，所述大功率半导体装置(1)的一侧设有排风管(7)，所述除尘机构(4)包括壳体(41)，所述排风管(7)的另一端贯穿壳体(41)连接有转滤筒(42)，所述转滤筒(42)上方贯穿壳体(41)设有高压水管(5)，所述高压水管(5)位于壳体(41)内部设有若干个雾化喷头(51)，所述壳体(41)内侧位于高压水管(5)上方设有若干层干燥结构(46)。2.根据权利要求1所述的一种工业用大功率半导体除尘装置，其特征是：所述转滤筒(42)内侧连接有若干个固定支架(43)，所述固定支架(43)中间贯穿连接有转动杆(44)，所述转动杆(44)贯穿转滤筒(42)和壳体(41)连接有驱动电机(45)。3.根据权利要求1所述的一种工业用大功率半导体除尘装置，其特征是：所述进风管(2)上靠近大功率半导体装置(1)处设有...
【专利技术属性】
技术研发人员：李雨玺，
申请(专利权)人：南京德成晟科技发展有限公司，
类型：新型
国别省市：
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