阻气膜、膜叠层体和真空隔热件制造技术

本发明专利技术的阻气膜包括：具有无机材料的蒸镀层的树脂制的基材膜、和形成于上述基材膜的上述蒸镀层上的阻气层。上述阻气层至少由无机层状化合物构成，上述基材膜的伸长率为1.1％以下。由此，在具有在树脂制的基材膜的蒸镀层上形成了含有无机层状化合物的阻气层的结构的阻气膜中，能够良好地实现预期的阻气性。能够良好地实现预期的阻气性。能够良好地实现预期的阻气性。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】阻气膜、膜叠层体和真空隔热件


[0001]本专利技术涉及具有良好的阻气性的阻气膜、叠层结构中包括该阻气膜的膜叠层体、和将该膜叠层体用作外包装材料的真空隔热件。

技术介绍

[0002]目前，在包装或覆盖品质因与外部空气接触而受到很大影响的物品的领域中，使用着各种阻气膜或膜叠层体。膜叠层体是多种膜叠层(层压)而成的构成，具有阻气性的膜叠层体在多个膜的叠层结构中使用了至少一层的阻气膜。
[0003]这样的阻气膜或膜叠层体被广泛用作例如食品或医药品等的包装容器、电子材料或电子部件的包装材料、电子设备的结构材料、或者真空隔热件的外包装材料等。作为阻气膜的代表性构成例，可以列举在树脂(塑料)制膜制的基材的表面形成有含有无机层状化合物的阻气层的构成。
[0004]例如在专利文献1中公开了一种具有阻气性的叠层膜，该叠层膜所具有的阻气膜在树脂膜(树脂制的基材膜)的至少一个表面形成有金属或氧化物的薄膜层，具有在该薄膜层上形成有含有无机层状化合物和树脂的层(阻气层)的构成。在专利文献1中，作为薄膜层，例示了蒸镀层，作为在树脂膜的薄膜层上叠层含有无机层状化合物的层的方法，例示了涂布涂敷液的涂敷法、或者从背后叠层含有无机层状化合物的层的层压法等。
[0005]现有技术文献
[0006]专利文献
[0007]专利文献1：日本特许第3681426号公报

技术实现思路

[0008]专利技术所要解决的技术问题
[0009]在此，本专利技术的专利技术人通过研究得知，即使按照规定的方法和条件在树脂制的基材膜上形成无机层状化合物的阻气层而制造阻气膜，有时也无法获得预期的阻气性。在专利文献1中，如上所述，作为阻气层的形成方法，公开了涂敷法或层压法等，但关于有时无法获得预期的阻气性，则没有特别说明。
[0010]本专利技术是为了解决这样的技术问题而完成的专利技术，其目的在于：通过具有在树脂制的基材膜的蒸镀层上形成了含有无机层状化合物的阻气层的构成的阻气膜，能够良好地实现预期的阻气性。
[0011]用于解决技术问题的技术方案
[0012]为了解决上述的技术问题，本专利技术所涉及的阻气膜构成为，包括具有无机材料的蒸镀层的树脂制的基材膜、和形成于上述基材膜的上述蒸镀层上的阻气层，上述阻气层至少由无机层状化合物构成，上述基材膜的伸长率为1.1％以下。
[0013]根据上述构成，阻气膜的树脂制的基材膜的伸长率为1.1％以下。因此，即使在制造阻气膜时对基材膜施加张力，如果基材膜的伸长率不超过该上限值，就能够避免或抑制
对于树脂制的基材膜的降低阻气性的影响。
[0014]并且，在基材膜的伸长率增大时，会对形成于该基材膜的第一表面的以无机层状化合物为主要成分的阻气层产生大的影响，但通过设定伸长率的上限值，对于阻气层的影响也能够避免或抑制。
[0015]由此，即使在对基材膜施加张力的制造条件下，也能够避免所得到的阻气膜的阻气性下降，实现良好品质的阻气膜。还能够在连续的制造条件下制造良好品质的阻气膜，因此能够提高该阻气膜的制造效率。
[0016]另外，本专利技术所涉及的膜叠层体可以构成为在叠层结构中包括上述构成的阻气膜。或者，本专利技术所涉及的膜叠层体可以构成为在叠层结构中包括保护膜、热熔接膜、阻气膜的膜叠层体，上述阻气膜为第一方面至第六方面中任一项所述的阻气膜，该阻气膜的阻气层与上述热熔接膜经由粘接剂层而相邻。
[0017]另外，本专利技术所涉及的真空隔热件可以构成为包括由上述构成的膜叠层体构成的袋状的外包装材料、以减压密闭状态被封入该外包装材料的内部的芯材、和与上述芯材一起被封入上述外包装材料的内部的水分吸附剂。
[0018]在参照附图的情况下，根据以下的优选实施方式的详细说明，本专利技术的上述目的、其他目的、特征和优点将变得更加明确。
[0019]专利技术效果
[0020]在本专利技术中，根据以上的构成，在具有在树脂制的基材膜的蒸镀层上形成了含有无机层状化合物的阻气层的构成的阻气膜中，能够获得良好地实现预期的阻气性的效果。
附图说明
[0021]图1是表示本专利技术的代表性实施方式所涉及的阻气膜的构成的一个例子的截面示意图。
[0022]图2A～图2C是表示具有图1所示的阻气膜的膜叠层体的代表性构成的截面示意图。
[0023]图3是表示具有图2所示的膜叠层体作为外包装材料的真空隔热件的代表性构成的截面示意图。
[0024]图4是表示作为本专利技术的代表性实施例的结果的、基材膜的伸长率与透气变差倍率的关系的图。
[0025]图5是表示作为本专利技术的代表性实施例的结果的、基材膜的伸长率与阻气膜的明度的关系的图。
具体实施方式
[0026]本专利技术所涉及的阻气膜构成为包括：具有无机材料的蒸镀层的树脂制的基材膜、和形成于上述基材膜的上述蒸镀层上的阻气层，上述阻气层至少由无机层状化合物构成，上述基材膜的伸长率为1.1％以下。
[0027]根据上述构成，阻气膜的树脂制的基材膜的伸长率为1.1％以下。因此，即使在制造阻气膜时对基材膜施加张力，如果基材膜的伸长率不超过该上限值，就能够避免或抑制对于树脂制的基材膜的降低阻气性的影响。
[0028]并且，基材膜的伸长率增大时，会对形成于该基材膜的第一表面的以无机层状化合物为主要成分的阻气层产生大的影响，但通过设定伸长率的上限值，对于阻气层的影响也能够避免或抑制。
[0029]由此，即使在对基材膜施加张力的制造条件下，也能够避免所得到的阻气膜的阻气性下降，实现良好品质的阻气膜。还能够在连续的制造条件下制造良好品质的阻气膜，因此能够提高该阻气膜的制造效率。
[0030]在上述构成的阻气膜中，可以构成为上述蒸镀层为无机氧化物的蒸镀层或金属的蒸镀层。
[0031]根据上述构成，由于蒸镀层的材质为无机氧化物或金属，因此能够发挥更好的阻气性。
[0032]在上述构成的阻气膜中，还可以构成为在上述蒸镀层为金属的蒸镀层时，膜整体的光透射量的增加率为5.1％以下。
[0033]根据上述构成，能够将膜整体的光透射量的变化作为基材膜的伸长率的指标，因此能够以光学的方式容易地评价基材膜的伸长率。
[0034]在上述构成的阻气膜中，还可以构成为上述基材膜在常温至120℃的范围内的平均线膨胀系数为22
×
10
‑5/K以下。
[0035]根据上述构成，在基材膜中，在以常温为基准的温度范围内将平均线膨胀系数设定为规定的上限值以下，因此能够进一步降低基材膜的伸长对阻气性的影响。
[0036]在上述构成的阻气膜中，还可以构成为上述基材膜在上述树脂的玻璃化转变温度Tg至Tg+40℃的范围内的平均线膨胀系数为48
×
10
‑5/K以下。
[0037]根据上述构成，在基材膜中，在以构成该基材膜的树脂的玻璃化转变温度为基准的温度范围内将平均线膨胀系数设定为规定的上限值以下，因此能够进一步降低基材膜的伸长对阻气性的影响。...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】1.一种阻气膜，其特征在于，包括：具有无机材料的蒸镀层的树脂制的基材膜；和形成于所述基材膜的所述蒸镀层上的阻气层，所述阻气层至少由无机层状化合物构成，所述基材膜的伸长率为1.1％以下。2.如权利要求1所述的阻气膜，其特征在于：所述蒸镀层为无机氧化物的蒸镀层或金属的蒸镀层。3.如权利要求2所述的阻气膜，其特征在于：所述蒸镀层为金属的蒸镀层时，膜整体的光透射量的增加率为5.1％以下。4.如权利要求1～3中任一项所述的阻气膜，其特征在于：所述基材膜在常温至120℃的范围内的平均线膨胀系数为22
×
10
‑5/K以下。5.如权利要求1～3中任一项所述的阻气膜，其特征在于...

【专利技术属性】
技术研发人员：梅田章广，盆出真里，香村明子，明山悠香子，
申请(专利权)人：松下知识产权经营株式会社，
类型：发明
国别省市：