一种光学检测系统技术方案

本实用新型专利技术提供了一种光学检测系统，包括，承载平台；位于承载平台上方的光学部件；所述承载平台表面设有承载治具；承载治具包括治具本体，所述治具本体为板状，所述治具本体上设有内陷于所述治具本体上表面的支撑限位区域，所述支撑限位区域边缘周向设有至少一个支撑台阶，所述支撑台阶呈回形分布；所述支撑限位区域用于放置尺寸不同的待检件。本实用新型专利技术的承载治具，能够承载尺寸不同，厚度不同的待检件。检件。检件。

【技术实现步骤摘要】
一种光学检测系统


[0001]本技术涉及光学测量领域，尤其涉及一种光学检测系统。

技术介绍

[0002]测量系统在测量待测部件时，通常需要将待测部件放在特定的承载治具上。
[0003]半导体领域，经常需要对晶圆进行检查。液晶显示器、集成电路等半导体器件的制程需要用到掩膜版，以在玻璃基板或半导体基片上蚀刻出用户需要的图形，掩膜版在制造完成后，为了检测其精度是否符合要求，需要通过显微镜进行微观检查。
[0004]在对晶圆或掩膜版进行微观检查时，通常将晶圆或者掩膜版放在各自的承载治具上，承载治具不能兼容不同尺寸的待检件。
[0005]因此，期待一种光学检测系统，能够方便的检测不同尺寸的待检件(如同时兼容晶圆和掩膜版)。

技术实现思路

[0006]本技术揭示了一种光学检测系统，能够承载尺寸不同，厚度不同的待检件。
[0007]本技术提供了一种光学检测系统，包括：
[0008]承载平台；
[0009]位于承载平台上方的光学部件；
[0010]所述承载平台表面设有承载治具；
[0011]所述承载治具包括治治具本体，所述治具本体为板状，所述治具本体上设有内陷于所述治具本体上表面的支撑限位区域，所述支撑限位区域边缘周向设有至少一个支撑台阶，所述支撑台阶呈回形分布；
[0012]所述支撑限位区域用于放置尺寸不同的待检件。
[0013]本技术的有益效果在于：
[0014]本技术的光学检测系统的承载治具能够兼容尺寸不同，厚度不同的待检件，避免频繁更换测量探头，承载治具的凹陷型设计，增加了待检件和光学部件的距离，防止待检件到显微镜目镜的距离过近，有利于避免镜头切换造成的划伤。
[0015]进一步地，支撑台阶为多层，高度方向上可以适应多种厚度的待检件。
[0016]进一步地，承载治具为镂空结构，待检件的下部悬空，可以避免污染待检件的底面。
[0017]进一步地，通过合理的尺寸设计，能够固定掩膜版，防止掩膜版滑动造成的损伤或者二次颗粒污染。
[0018]进一步地，支撑台阶具有第二外扩区，第二外扩区使待检件的顶角不与承载治具接触，防止待检件顶角处破损。
[0019]进一步地，支撑台阶具有第一外扩区，第一外扩区方便待检件的取放，便于作业。
[0020]进一步地，治具本体的材料选用聚醚醚酮，其具有较强的耐磨性，不易对待检件造
成刮伤。
附图说明
[0021]通过结合附图对本技术示例性实施例进行更详细的描述，本技术的上述以及其它目的、特征和优势将变得更加明显，在本技术示例性实施例中，相同的参考标号通常代表相同部件。
[0022]图1示出了根据本技术一实施例的承载治具的结构示意图。
[0023]图2示出了根据本技术一实施例的承载治具放在桌面上的实物照片。
[0024]附图标记说明：
[0025]1‑
治具本体；2
‑
支撑台阶；3
‑
第一外扩区；4
‑
第二外扩区；5
‑
镂空部。
具体实施方式
[0026]以下结合附图和具体实施例对本技术作进一步详细说明。根据下面的说明和附图，本技术的优点和特征将更清楚，然而，需说明的是，本技术技术方案的构思可按照多种不同的形式实施，并不局限于在此阐述的特定实施例。附图均采用非常简化的形式且均使用非精准的比例，仅用以方便、明晰地辅助说明本技术实施例的目的。
[0027]应当明白，当元件或层被称为“在...上”、“与...相邻”、“连接到”或“耦合到”其它元件或层时，其可以直接地在其它元件或层上、与之相邻、连接或耦合到其它元件或层，或者可以存在居间的元件或层。相反，当元件被称为“直接在...上”、“与...直接相邻”、“直接连接到”或“直接耦合到”其它元件或层时，则不存在居间的元件或层。应当明白，尽管可使用术语第一、第二、第三等描述各种元件、部件、区、层和/或部分，这些元件、部件、区、层和/或部分不应当被这些术语限制。这些术语仅仅用来区分一个元件、部件、区、层或部分与另一个元件、部件、区、层或部分。因此，在不脱离本技术教导之下，下面讨论的第一元件、部件、区、层或部分可表示为第二元件、部件、区、层或部分。
[0028]空间关系术语例如“在...下”、“在...下面”、“下面的”、“在...之下”、“在...之上”、“上面的”等，在这里可为了方便描述而被使用从而描述图中所示的一个元件或特征与其它元件或特征的关系。应当明白，除了图中所示的取向以外，空间关系术语意图还包括使用和操作中的器件的不同取向。例如，如果附图中的器件翻转，然后，描述为“在其它元件下面”或“在其之下”或“在其下”元件或特征将取向为在其它元件或特征“上”。因此，示例性术语“在...下面”和“在...下”可包括上和下两个取向。器件可以另外地取向(旋转90度或其它取向)并且在此使用的空间描述语相应地被解释。
[0029]在此使用的术语的目的仅在于描述具体实施例并且不作为本技术的限制。在此使用时，单数形式的“一”、“一个”和“所述/该”也意图包括复数形式，除非上下文清楚指出另外的方式。还应明白术语“组成”和/或“包括”，当在该说明书中使用时，确定所述特征、整数、步骤、操作、元件和/或部件的存在，但不排除一个或更多其它的特征、整数、步骤、操作、元件、部件和/或组的存在或添加。在此使用时，术语“和/或”包括相关所列项目的任何及所有组合。
[0030]目前，检查掩膜版的方法为，在显微镜的承载台上垫上无尘布，将掩膜版平铺在无尘布上，用显微镜进行微观检，在进行观察时，显微镜固定不动，显微镜的承载台上下左右
移动。由于不同尺寸的掩膜版具有不同的厚度，而且用于观察掩膜版的显微镜也用于观察晶圆。每次观察时，需要调节承载台的高度距离较大，工作繁琐，且镜头切换易造成刮伤。对掩膜版进行微观目检时，承载台不能固定掩膜版，滑动台面由于惯性的影响掩膜版会在台面滑动，使掩膜版接触面易造成划伤及粉尘带来的二次污染。
[0031]因此，期待一种光学检测系统，能够解决上述问题。
[0032]实施例
[0033]本技术一实施例提供了一种光学检测系统，包括承载平台；
[0034]位于承载平台上方的光学部件；所述承载平台表面设有承载治具；图1示出了承载治具的结构示意图，图2示出了承载治具放在桌面上的实物照片，请参考图1和图2，该承载治具包括：
[0035]治具本体1，所述治具本体1为板状，所述治具本体1上设有内陷于所述治具本体1上表面的支撑限位区域(支撑台阶2包围的区域为支撑限位区域)，所述支撑限位区域边缘周向设有至少一个支撑台阶2，所述支撑台阶2呈回形分布；
[0036]所述支撑限位区域用于放置尺寸不同的待检件。
[0037]本实施例中，治具本体1为矩形平板状，长为419mm，宽本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种光学检测系统，其特征在于，包括：承载平台；位于承载平台上方的光学部件；所述承载平台表面设有承载治具；所述承载治具包括治具本体，所述治具本体为板状，所述治具本体上设有内陷于所述治具本体上表面的支撑限位区域，所述支撑限位区域边缘周向设有至少一个支撑台阶，所述支撑台阶呈回形分布；所述支撑限位区域用于放置尺寸不同的待检件。2.如权利要求1所述的光学检测系统，其特征在于，所述支撑台阶为多层，多层所述支撑台阶呈回形阶梯状分布，沿所述治具本体的下表面至上表面方向，多个所述支撑台阶围成的尺寸逐渐增大。3.如权利要求1所述的光学检测系统，其特征在于，所述待检件包括晶圆或掩膜版。4.如权利要求1所述的光学检测系统，其特征在于，所述支撑台阶具有相对设置的第一外扩区，所述第一外扩区相对于所述支撑台阶围成的区域中心向外扩出，所述第一外扩区用于取放所述待检件；在某一个支撑台阶所在的平面上，所述第一外扩区相对于所在支撑台...

【专利技术属性】
技术研发人员：黄立伟，
申请(专利权)人：中芯集成电路宁波有限公司，
类型：新型
国别省市：