一种具有强场稳定结构的多层复合薄膜及其制备方法技术

本发明专利技术涉及电解质电容技术领域，具体涉及一种具有强场稳定结构的多层复合薄膜及其制备方法，包括以下步骤：清洗衬底基片；通过磁控溅射的方法在衬底基片上依次溅射第一Al层、Ti层和第二Al层，得到三层复合薄膜；以得到的三层复合薄膜，进行阳极氧化，采用电流小于等于10mA，氧化电压小于等于1000V。本发明专利技术结构和制备工艺简单；通过调控溅射时间、阳极氧化时的电流和电压等参数，调控阳极氧化薄膜的厚度，以实现强场稳定结构的多层复合薄膜的制备；利用电化学处理法进行单次阳极氧化制备强场稳定结构的多层复合薄膜，有效提高了击穿强度和储能密度等性能。储能密度等性能。储能密度等性能。

【技术实现步骤摘要】
一种具有强场稳定结构的多层复合薄膜及其制备方法


[0001]本专利技术涉及电解质电容
，具体涉及一种具有强场稳定结构的多层复合薄膜及其制备方法。
技术背景
[0002]电介质电容器具有较快的充放电速率和较高的功率密度，在国防及民用等高科技领域有广泛的应用前景。但是，当前电介质电容器的储能密度较低，极大的限制了其应用范围。为了解决以上问题，当前研究者大量研究工作，主要集中于多相介质之间的界面改性及微结构的调控来改善复合材料的储能性能。Sun等人(Ultrahigh Energy Storage Performance of Lead
‑
Free Oxide Multilayer Film Capacitors via Interface Engineering[J].Advanced Materials,2016,29(5):1604427)报道了一种具有多层复合结构的Ba
0.7
Ca
0.3
TiO3‑
BaZr
0.2
Ti
0.8<br/>O3(BCT本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种具有强场稳定结构的多层复合薄膜的制备方法，其特征在于，包括以下步骤：S1.清洗衬底基片；S2.通过磁控溅射的方法在衬底基片上依次溅射第一Al层、Ti层和第二Al层，得到三层复合薄膜；S3.以步骤S2得到的三层复合薄膜，进行阳极氧化，采用电流小于等于10mA，氧化电压小于等于1000V。2.根据权利要求1所述具有强场稳定结构的多层复合薄膜的制备方法，其特征在于，所述步骤S1中，所述衬底基片包括硅片、载玻片或石英片。3.根据权利要求1所述具有强场稳定结构的多层复合薄膜的制备方法，其特征在于，所述步骤S1中，衬底基片的清洗包括：先用超纯水清洗10～20min，然后再用无水乙醇清洗5～15min。4.根据权利要求1所述具有强场稳定结构的多层复合薄...

【专利技术属性】
技术研发人员：朱文博，曹晴，陈文骏，陈建文，胡登砚，陈新蕊，黄穗龙，李振辉，李浩林，蔡青锋，陈赢曦，胡乃健，王修才，
申请(专利权)人：佛山科学技术学院，
类型：发明
国别省市：