一种含氟聚合物及其组合物的制备方法和应用技术

技术编号:34386847 阅读:22 留言:0更新日期:2022-08-03 21:10
本发明专利技术涉及高分子化合物合成技术领域,特别是涉及一种含氟聚合物及其组合物的制备方法和应用。本发明专利技术所述的一种含氟聚合物的制备方法,具体为:将含氟丙烯酸酯单体、含芳香环的甲基丙烯酸单体、含碳碳双键的异氰酸酯单体、乙烯基硅氧烷单体、引发剂和含氟溶剂投入到反应容器中搅拌反应。通过该方法制备得到一种含氟聚合物与防指纹油主剂反应得到一种抗UV防指纹组合物。一种抗UV防指纹组合物薄膜的制备方法,具体为:在化学强化玻璃的表面依次蒸镀二氧化硅和抗UV防指纹组合物;然后在恒温恒湿环境下固化得到抗UV防指纹组合物薄膜,该薄膜能保持良好的防指纹和耐磨性能的同时,还具有良好的附着力,表现出优异的耐UV性能。表现出优异的耐UV性能。

【技术实现步骤摘要】
一种含氟聚合物及其组合物的制备方法和应用


[0001]本专利技术涉及高分子化合物合成
,特别是涉及一种含氟聚合物及其组合物的制备方法和应用。

技术介绍

[0002]消费电子产品主要包括智能手机、PC和平板电脑,可穿戴设备、VR等,早已渗透到我们日常生活的方方面面。这些消费电子产品的盖板要有良好的体验感,需要防指纹处理,具有防污防指纹效果。目前,市场上有许多防指纹油涂层产品,但是由于在阳光或者紫外线长时间照射下耐久性不足,防指纹结构遭到破坏,防污防指纹性能消失,表面不爽滑,用户体验感也下降。因此需要在防指纹油中加入抗紫外剂用以提高涂层的抗紫外性能。
[0003]然而,市面上常见的抗紫外剂与防指纹主剂复配后溶解性不好,复配后体系发白不能形成均一相,导致防指纹主剂变质。

技术实现思路

[0004]基于此,本专利技术的目的在于,提供一种含氟聚合物,其具有高的光稳定性和高的紫外线耐受性的优点。本专利技术的另一目的在于,提供一种含氟聚合物的制备方法,通过实验优化制备得到一种含氟聚合物。本专利技术的再一目的在于,提供一种抗UV防指纹组合物,其具优异地耐磨性、防水性能,以及高耐UV性能。本专利技术还有一目的在于,提供一种抗UV防指纹组合物薄膜的制备方法,根据该方法制备得到的抗UV防指纹薄膜,保持良好的防指纹和耐磨性能的同时,还具有良好的附着力,表现出优异的耐UV性能。
[0005]一种含氟聚合物的制备方法,步骤如下:在氩气的氛围下,将含氟丙烯酸酯单体、含芳香环的甲基丙烯酸单体、含碳碳双键的异氰酸酯单体、乙烯基硅氧烷单体、引发剂和含氟溶剂投入到反应容器中搅拌反应。
[0006]优选地,上述搅拌反应条件为:72℃的环境下搅拌反应6小时。
[0007]优选地,含氟丙烯酸酯单体的通式为CH2=C(

X)

C(=O)

Y

Z

R
f
,其中X表示氢原子、直链或支链烷基、氟原子、氯原子、溴原子、碘原子;Y是

O



NH

;Z是C1‑
C
10
脂肪族基团;R
f
是C1‑
C6直链或支链氟烷基。
[0008]优选地,含氟丙烯酸酯单体的质量百分含量为70%

85%。
[0009]优选地,含芳香环的甲基丙烯酸单体的通式为CH2=CX1C(=O)

O

X2,其中X1是氢原子或甲基,X2是含芳香环的烃基。
[0010]优选地,含芳香环的甲基丙烯酸单体的质量百分含量为5%

15%。
[0011]优选地,含碳碳双键的异氰酸酯单体为甲基丙烯酸异氰基乙酯。
[0012]优选地,含碳碳双键的异氰酸酯单体的质量百分含量为3%

12%。
[0013]优选地,乙烯基硅氧烷为乙烯基三甲氧基硅烷或乙烯基三乙氧基硅烷。
[0014]优选地,乙烯基硅氧烷单体的质量百分含量为0.5%

3%。
[0015]优选地,含氟溶剂为六氟丙烯三聚体、全氟己酮、氢氟醚的一种或二种以上的混合
含氟溶剂。
[0016]优选地,引发剂为有机过氧化物引发剂或偶氮类引发剂。
[0017]优选地,引发剂为过氧化苯甲酰、过氧化叔戊酸叔丁基酯,偶氮二异丁腈、偶氮二异戊腈的一种或一种以上的混合物。
[0018]由上述方法制备得到的含氟聚合物结构式如下:
[0019][0020]其中,R
f
为全氟碳链;R1为芳香环;R2为甲氧基或者乙氧基。
[0021]优选地,a、b、c、d为大于1的整数,聚合物分子量为5000

20000。
[0022]一种抗UV防指纹组合物,包含防指纹油主剂和所述含氟聚合物;所述防指纹主剂与所述含氟聚合物均匀混合。
[0023]优选地,所述防指纹油主剂结构式如下:
[0024][0025]由上述一种抗UV防指纹组合物制备薄膜的方法,包括步骤如下:
[0026](1)在化学强化玻璃的表面蒸镀二氧化硅而形成二氧化硅层;
[0027](2)在所述的二氧化硅层上蒸镀所述抗UV防指纹组合物形成UV防指纹组合物层;
[0028](3)将步骤(2)得到的镀有二氧化硅层和UV防指纹组合物层的化学强化玻璃置于恒温恒湿环境下固化。
[0029]优选地,步骤(2)所述的抗UV防指纹组合物层厚度为8~10nm。
[0030]优选地,步骤(3)中固化条件为:60%湿度及70℃环境下固化2小时。
[0031]本专利技术的有益效果在于:
[0032](1)选用含氟丙烯酸酯单体制备得到的含氟聚合物,具有高的光稳定性和高的紫外线耐受性的优点。
[0033](2)选用上述含氟聚合物制备得到的抗UV防指纹组合物,具优异地耐磨性、疏水疏油性能,以及高耐UV性能。
[0034](3)选用上述抗UV防指纹组合物制备得到的抗UV防指纹组合物薄膜,能够保持优
异的防指纹和耐磨性能的同时,具有良好的附着力,表现出优异的耐UV性能。
具体实施方式
[0035]为了便于本领域技术人员的理解,下面结合实施例对本专利技术作进一步的说明,实施方式提及的内容并非对本专利技术的限定。
[0036]实施例1
[0037]在氩气的氛围下,在250ml三口烧瓶中加入16g全氟己基乙基甲基丙烯酸酯、2g甲基丙烯酸苄基酯、1.5g甲基丙烯酸异氰基乙酯、0.36乙烯基三甲氧基硅烷、0.14偶氮二异丁腈和80g 3M氢氟醚7200投入到反应容器中,在72℃的环境下搅拌反应6h,得到含氟聚合物1,分子量为10568。
[0038]将防指纹主剂与含氟聚合物1以3:1的比例混合后得到组合物A。
[0039]优选地,本实施例采用富士康防指纹油主剂320X作为防指纹主剂。
[0040]将上述组合物A以真空沉积法蒸镀到化学强化玻璃上。在真空压力小于4
×
10
‑3Pa下,先利用电子束沉积方法将二氧化硅以10nm厚度沉积到化学强化玻璃上形成二氧化硅膜,再以真空沉积方式在每一片化学强化玻璃上沉积10nm厚度的抗UV防指纹组合物。然后,将附有沉积膜的化学强化玻璃置于60%湿度及70℃环境下2小时进行固化,使其形成表面处理层。
[0041]实施例2
[0042]在氩气的氛围下,在250ml三口烧瓶中加入17g全氟己基乙基甲基丙烯酸酯、1.5g甲基丙烯酸苄基酯、1g甲基丙烯酸异氰基乙酯、0.36乙烯基三甲氧基硅烷、0.14偶氮二异丁腈和80g 3M氢氟醚7200投入到反应容器中,在72℃的环境下搅拌反应6h,得到含氟聚合物2,分子量为11532。
[0043]将防指纹主剂与含氟聚合物2本文档来自技高网
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【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种含氟聚合物,其特征在于:结构式如下:其中,R
f
为全氟碳链;R1为芳香环;R2为甲氧基或者乙氧基;a、b、c、d为大于1的整数,聚合物分子量为5000

20000。2.根据权利要求1所述的一种含氟聚合物的制备方法,其特征在于,合成方法如下:在氩气的氛围下,将含氟丙烯酸酯单体、含芳香环的甲基丙烯酸单体、含碳碳双键的异氰酸酯单体、乙烯基硅氧烷单体、引发剂和含氟溶剂投入到反应容器中搅拌反应;其中,含氟丙烯酸酯单体的通式为CH2=C(

X)

C(=O)

Y

Z

R
f
,其中X表示氢原子、直链或支链烷基、氟原子、氯原子、溴原子、碘原子;Y是

O



NH

;Z是C1‑
C
10
脂肪族基团;R
f
是C1‑
C6直链或支链氟烷基。3.根据权利要求2所述的一种含氟聚合物的制备方法,其特征在于:所述含芳香环的甲基丙烯酸单体的通式为CH2=CX1C(=O)

O

X2,其中X1是氢原子或甲基,X2是含芳香环的烃基。...

【专利技术属性】
技术研发人员:别文丰宫秀明曾永昌晏超
申请(专利权)人:东莞泰岳光学镀膜材料有限公司
类型:发明
国别省市:

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