光学层叠体制造技术

技术编号:34383690 阅读:76 留言:0更新日期:2022-08-03 21:03
本发明专利技术的目的在于,提供一种光学层叠体,其能够在向被转印体转印时抑制拉链现象的产生、剥离界面的翘起,能够向任意的被转印体容易地转印。本发明专利技术的光学层叠体依次包含第1基材、取向膜、偏振膜、粘合粘接层、相位差膜及第2基材,所述偏振膜及相位差膜各自为包含液晶化合物的液晶组合物的固化膜,从该光学层叠体剥离第1基材时的剥离力F1和从该光学层叠体剥离第2基材时的剥离力F2满足式(1)、(2)及(3):0.02(N/25mm)≤F1≤0.30(N/25mm)

【技术实现步骤摘要】
光学层叠体


[0001]本专利技术涉及能够双面转印的光学层叠体、所述光学层叠体的制造方法、包含所述光学层叠体的椭圆偏振板及柔性显示器材料。

技术介绍

[0002]在有机EL显示装置等平板显示装置(FPD)中,广泛地使用包含偏振膜和相位差膜的圆偏振板。作为此种圆偏振板,已知有偏振膜或相位差膜为由通过将聚合性液晶化合物涂布于基材上并使之聚合而得到的涂覆层形成的光学各向异性层的光学层叠体(专利文献1~3)。
[0003]现有技术文献
[0004]专利文献
[0005]专利文献1:日本特开2020

56834号公报
[0006]专利文献2:日本特开2019

91088号公报
[0007]专利文献3:日本特开2020

13164号公报

技术实现思路

[0008]专利技术所要解决的课题
[0009]像所述专利文献中公开的那样的光学层叠体可以通过将形成于基材上的光学各向异性层向被转印体转印,即通过剥离所述基材、经由粘合粘接层等向被转印体本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种光学层叠体,其依次包含第1基材、取向膜、偏振膜、粘合粘接层、相位差膜及第2基材,所述偏振膜及相位差膜各自为包含聚合性液晶化合物的聚合性液晶组合物的固化膜,从所述光学层叠体剥离第1基材时的剥离力F1和从所述光学层叠体剥离第2基材时的剥离力F2满足式(1)、(2)及(3):0.02N/25mm≤F1≤0.30N/25mm
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(1)0.02N/25mm≤F2≤0.30N/25mm
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(2)0.02N/25mm≤|F1

F2|
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(3)。2.根据权利要求1所述的光学层叠体,其中,在第1基材的偏振膜侧的面及第2基材的相位差膜侧的面的至少一个面具有剥离力调整层。3.根据权利要求2所述的光学层叠体,其中,剥离力调整层为包含硅烷化合物的层或硬涂层。4.根据权利要求1~3中任一项所述的光学层叠体,其中,第1基材的厚度为20μm以上且100μm以下。5.根据权利要求1~4中任一项所述的光学层叠体,其中,第2基材的厚度为20μm以上且100μm以下。6.根据权利要求1~5中任一项所述的光学层叠体,其中,第1基材为由选自纤维素系树脂、环状烯烃系树脂及聚对苯二甲酸乙二醇酯树脂中的至少1种形成的树脂膜。7.根据权利要求1~6中任一项所述的光学层叠体,其中,第2基材为由选自纤维素系树脂、环状烯烃系...

【专利技术属性】
技术研发人员:北河佑介幡中伸行
申请(专利权)人:住友化学株式会社
类型:发明
国别省市:

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