【技术实现步骤摘要】
用于制造临时牙冠和牙桥的牙科材料
[0001]本专利技术涉及具有改善的凝固性能的可自由基聚合的组合物,其特别适合作为牙科材料,特别是作为用于制造临时牙冠和牙桥的假体材料。所述组合物包含作为用于自由基聚合的引发剂的氧化还原体系,其包含氢过氧化物和至少两种不同的硫脲衍生物。
技术介绍
[0002]用于制造牙科修复体,特别是用于制造临时修复体,诸如例如临时牙冠和牙桥,通常使用基于可自由基聚合的单体的可聚合组合物。单官能(甲基)丙烯酸酯和多官能(甲基)丙烯酸酯的混合物通常用作单体。经常使用的二甲基丙烯酸酯是2,2
‑
双[4
‑
(2
‑
羟基
‑3‑
甲基丙烯酰氧基丙基)苯基]丙烷(双
‑
GMA)和1,6
‑
双
‑
[2
‑
甲基丙烯酰氧基乙氧基羰基氨基]‑
2,4,4
‑
三甲基己烷(UDMA),其具有高粘度,并且产生具有非常好的机械性质的聚合物。这些用低粘度单体诸如二甲基丙烯酸三乙二醇酯(TEGDMA)、1,10
‑
癸二醇二甲基丙烯酸酯(D3MA)和双
‑
(3
‑
甲基丙烯酰氧基甲基)三环
‑
[5.2.1.02.6]癸烷(DCP)稀释。为了硬化,添加合适的引发剂,其中根据使用领域使用光引发剂、热引发剂、氧化还原引发剂体系或其组合。用于制造临时牙冠和牙桥的材料通常包含氧化还原体系。
[000 ...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.可自由基聚合的牙科材料,其包含作为用于自由基聚合的引发剂体系的硫脲衍生物和氢过氧化物的组合,其特征在于其包含至少三种不同的硫脲衍生物。2.根据权利要求1的牙科材料,其包含至少一种环状硫脲衍生物和至少一种无环硫脲衍生物。3.根据权利要求2的牙科材料,其包含至少一种式(I)的环状硫脲衍生物:其中:R1、R2在每种情况下为H或C1‑
C4烷基基团,其中这些基团中的至少一个为H;R3、R4在每种情况下彼此独立地为H、C1‑
C4烷基基团或C1‑
C4烷氧基基团,或者与它们键合的碳原子和位于它们之间的碳原子一起形成六元碳环的脂族或芳族环,所述六元碳环的脂族或芳族环可以被一个或多个,优选1或2个C1‑
C4烷基基团和/或C1‑
C4烷氧基基团取代;n为0、1、2或3,优选为0或1。4.根据权利要求2或3的牙科材料,其包含至少一种式(II)和/或式(III)的无环硫脲衍生物其中X为H或Y,Y为具有1至8个碳原子的烷基基团,具有5或6个碳原子的环烷基基团,具有1至8个碳原子的氯取代的、羟基取代的或巯基取代的烷基基团,具有3至4个碳原子的烯基基团,具有6至8个碳原子的芳基基团,氯取代的、羟基取代的、甲氧基取代的或磺酰基取代的苯基基团,具有2至8个碳原子的酰基基团,氯取代的或甲氧基取代的酰基基团,具有7至8个碳原子的芳烷基基团或者氯取代的或甲氧基取代的芳烷基基团,和Z为NH2、NHX或NX2,
其中R5为C1‑
C
12
烷基基团,优选C2‑
C
10
烷基基团,特别优选C3‑
C8烷基基团并且非常特别优选C4‑
C6烷基基团,C1‑
C
12
烯烃基团,优选C2‑
C
10
烯烃基团,特别优选C3‑
C8烯烃基团并且非常特别优选C4‑
C6烯烃基团,C1‑
C
12
酰基基团,优选C2‑
C
10
酰基基团,特别优选C3‑
C8酰基基团并且非常特别优选C4‑
C6酰基基团,吡啶基或苯基基团。5.根据前述权利要求之一的牙科材料,其包含作为环状硫脲衍生物的3,4,5,6
‑
四氢
‑2‑
嘧啶硫醇、2
‑
咪唑烷硫酮、2
‑
巯基苯并咪唑、1
‑
甲基
‑
1H
‑
苯并咪唑
‑2‑
硫醇和/或2
‑
巯基
‑5‑
甲氧基苯并咪唑,以及作为无环硫脲衍生物的己酰基硫脲。6.根据权利要求2至5之一的牙科材料,其包含几种环状硫脲衍生物和一种或多种无环硫脲衍生物。7.根据权利要求1至6之一的牙科材料,其包含作为氢过氧化物的式R6‑
(OOH)
m
的化合物,其中R6为脂族或芳族烃基且m为1或2,和/或式(IV)的化合物其中变量具有如下含义:Q1为p
‑
价、芳族、脂族、直链或支链的C1‑
C
14
烃基,其可以被一个或多个S和/或O原子间隔并且其可以是未取代的或被一个或多个优选选自
‑
OH、
‑
OR7、
‑
Cl和
‑
Br的取代基取代,其中R7是脂族、直链或支链的C1‑
C
10
烃基,X、Y彼此独立地在每种情况下是不存在、
‑
O
‑
、
‑
COO
‑
、
‑
CONR8‑
或
‑
O
‑
CO
‑
NR9‑
,其中R8和R9彼此独立地表示H或C1‑
C5烷基基团,优选H、甲基和/或乙基,特别优选H,并且其中X和Y优选不同时是不存在,Q2是不存在、脂族、直链或支链C1‑
C
14
亚烷基基团,其可以被S和/或O原子间隔并且其可以是未取代的或被
‑
OH、
‑
OR
10
、
‑
Cl和/或
‑
Br取代,其中R
10
是脂族、直链或支链的C1‑
C
10
烃基,Q3为C1‑
C3亚烷基基团或是不存在,优选
‑
CH2‑
或是不存在,其中如果Q2是不存在,则X和/或Y是不存在,
p为1、2、3或4,并且其中芳族化合物上的取代发生在相对于氢过氧化枯烯基团的2、3或4位。8.根据权利要求7的牙科材料,其包含作为氢过氧化物的叔戊基氢过氧化物、1,1,3,3
‑
四甲基丁基氢过氧化物、叔丁基氢过氧化物、叔己基过氧化物、2,5
‑
二甲基
‑
2,5
‑
...
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