保持部件、上部电极组件以及等离子体处理装置制造方法及图纸

本发明专利技术提供一种保持部件、上部电极组件以及等离子体处理装置，其能够将电极板悬挂保持于保持板。该保持部件在将电极板保持于保持板时使用，包括：第一部件，其具有轴部和卡定部，该轴部具有内螺纹部，该卡定部与上述轴部相比扩大形成；以及第二部件，其具有在一个方向延伸的长孔部，上述轴部穿过该长孔部上述第一部件构成为能够相对于上述第二部件进行滑动。件构成为能够相对于上述第二部件进行滑动。件构成为能够相对于上述第二部件进行滑动。

Holding part, upper electrode assembly and plasma treatment device

【技术实现步骤摘要】
保持部件、上部电极组件以及等离子体处理装置


[0001]本专利技术涉及保持部件、上部电极组件以及等离子体处理装置。

技术介绍

[0002]公知有使用通过将由单晶硅构成的电极板和由其他材质构成的保持板组合而形成的上部电极组件的基板处理装置。
[0003]在专利文献1中,在圆板状的等离子体蚀刻用电极中,公开了具有由单晶硅构成的电极中央部、以及由其他材质构成的电极外周部而成的等离子体蚀刻用电极。
[0004]<现有技术文献>
[0005]<专利文献>
[0006]专利文献1:日本国特开平11
‑
162940号公报

技术实现思路

[0007]<本专利技术要解决的问题>
[0008]外周部被固定的单晶硅电极在蚀刻工艺中成为高温,产生起因于温度的不均匀的变形,从而在与安装有电极板的保持板之间产生间隙。由于该间隙,产生进一步的温度不均匀、反应复制物的堆积等的不良情况。另外,由于等离子体处理装置的RF信号本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种保持部件，其在使电极板保持于保持板时使用，该保持部件包括：第一部件，其具有轴部和卡定部，该轴部具有内螺纹部，该卡定部与上述轴部相比扩大形成；以及第二部件，其具有在一个方向延伸的长孔部，上述轴部穿过该长孔部，上述第一部件构成为能够相对于上述第二部件进行滑动。2.根据权利要求1所述的保持部件，其中，上述卡定部以及上述第二部件在俯视时具有长度方向和宽度方向，上述第一部件构成为能够在上述宽度方向进行滑动。3.根据权利要求2所述的保持部件，其中，上述第二部件与上述第一部件的上述卡定部的卡定面形成为以上述长度方向为轴的圆筒面。4.根据权利要求1至3中任一项所述的保持部件，其中，上述卡定部和上述第二部件自上表面朝向底面变细。5.根据权利要求4所述的保持部件，其中，上述卡定部和上述第二部件具有长圆锥台形状。6.一种上部电极组件，包括：电极板，其具有贯通孔；保持板，其具有容纳部；以及固定部件，其用于将上述电极...

【专利技术属性】
技术研发人员：佐藤诚人，氏家智也，仙田孝博，
申请(专利权)人：东京毅力科创株式会社，
类型：发明
国别省市：