投影设备的校准方法和投影设备技术

本申请实施例提供一种投影设备的校准方法和投影设备，涉及投影定位技术领域，能够实现投影设备的偏移定位，从而为投影设备的位置校准提供参考。该投影设备包括：校准光源、柱状透镜、线阵模块和处理器；校准光源被配置为：发射光束并将该光束投影到投影屏幕下边缘处的反光镜上；柱状透镜被配置为：将经过反光镜反射的光线进行聚焦处理；线阵模块被配置为：采集经过聚焦处理的光线形成的第一成像区域内每个像素点对应的光电辐值；处理器被配置为：根据光电辐值确定特征像素点的光电辐值，并根据特征像素点的光电辐值确定投影设备的偏移参数。参数。参数。

【技术实现步骤摘要】
投影设备的校准方法和投影设备


[0001]本专利技术涉及投影定位
，尤其涉及一种投影设备的校准方法和投影设备。

技术介绍

[0002]通常，投影设备和投影屏幕需要配合使用。以超短焦激光投影设备为例，如图1所示，由于投影成像的原理使得光线斜向上投射，因此投影设备10中的光学引擎投射的影像光束与投影屏幕21之间的位置需具有良好的对位关系。在使用过程中，投影设备轻微的移位也会导致画面的形变或畸变。
[0003]然而，由于超短焦激光投影设备对精度的要求很高，因此对于普通用户而言，无法通过调整长焦激光投影设备的方式来调整超短焦激光投影设备的位置，对超短焦激光投影设备的调节存在难度；而对于专业技术人员而言，往往也需要多次调试才能获得较佳的结果，调节效率较低，且调节结果会存在一些主观性。

技术实现思路

[0004]本专利技术的实施例提供一种投影设备的校准方法和投影设备，用于实现投影设备偏移定位，从而为投影设备的位置校准提供参考。
[0005]为达到上述目的，本申请实施例采用如下技术方案：
[0006]第一方面，提供一种投影设备，包括：校准光源、柱状透镜、线阵模块和处理器；校准光源被配置为：发射光束并将该光束投影到投影屏幕下边缘处的反光镜上；柱状透镜被配置为：将经过反光镜反射的光线进行聚焦处理；该线阵模块被配置为：采集经过聚焦处理的光线形成的第一成像区域内每个像素点对应的光电辐值；该处理器被配置为：根据该光电辐值确定特征像素点的光电辐值，并根据该特征像素点的光电辐值确定该投影设备的偏移参数；其中，该特征像素点包括根据该投影屏幕上配置的校准点在该第一成像区域中形成的光电辐值突变点确定的像素点。
[0007]本申请实施例提供的投影设备，包括：校准光源、柱状透镜、线阵模块和处理器；校准光源被配置为：发射光束并将该光束投影到投影屏幕下边缘处的反光镜上；柱状透镜被配置为：将经过反光镜反射的光线进行聚焦处理；线阵模块被配置为：采集经过聚焦处理的光线形成的第一成像区域内每个像素点对应的光电辐值；处理器被配置为：根据光电辐值确定特征像素点的光电辐值，并根据特征像素点的光电辐值确定投影设备的偏移参数。通过该方案，线阵模块可以采集第一成像区域内每个像素点对应的光电辐值，处理器可以根据光电辐值确定特征像素点的光电辐值，并根据特征像素点的光电辐值确定投影设备的偏移参数。由于投影设备需要与投影屏幕配合使用才能使线阵模块采集到第一成像区域的光电辐值，也就是说，即使投影设备的使用位置发生改变，也无法改变投影设备与投影屏幕之间的作用关系，因此，投影设备可以实现投影设备在任意使用地点的偏移定位，并为投影设备的位置校准提供参考。
[0008]第二方面，提供一种投影设备的校准方法，包括：获取经过聚焦处理的光线形成的
第一成像区域内每个像素点对应的光电辐值；根据该光电辐值确定特征像素点的光电辐值；根据该特征像素点的光电辐值确定该投影设备的偏移参数；根据偏移参数对投影设备的位置进行校准；其中，该特征像素点包括根据预配置的校准点在该第一成像区域中形成的光电辐值突变点确定的像素点。
[0009]第三方面，提供一种投影设备，包括：存储器、处理器、总线和通信接口；存储器用于存储计算机执行指令，处理器与存储器通过总线连接；当投影设备运行时，处理器执行存储器存储的计算机执行指令，以使投影设备执行如第二方面提供的投影设备的校准方法。
[0010]第四方面，提供一种计算机可读存储介质，计算机可读存储介质包括计算机执行指令，当计算机执行指令在计算机上运行时，使得计算机执行如第二方面提供的投影设备的校准方法。
[0011]第五方面，提供一种计算机程序产品，该计算机程序产品包括计算机指令，当计算机指令在计算机上运行时，使得计算机执行如第二方面提供的投影设备的校准方法。
[0012]需要说明的是，上述计算机指令可以全部或者部分存储在计算机可读存储介质上。其中，计算机可读存储介质可以与投影设备的处理器封装在一起的，也可以与投影设备的处理器单独封装，本申请对此不作限定。
[0013]本申请中第二方面、第三方面、第四方面以及第五方面的描述，可以参考第一方面的详细描述，此处不再赘述；并且，第二方面、第三方面、第四方面以及第五方面描述的有益效果，可以参考第一方面的有益效果分析，此处不再赘述。
[0014]在本申请中，上述偏移参数确定装置的名字对设备或功能模块本身不构成限定，在实际实现中，这些设备或功能模块可以以其他名称出现。只要各个设备或功能模块的功能和本申请类似，均属于本申请权利要求及其等同技术的范围之内。
附图说明
[0015]为了更清楚地说明本申请实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本专利技术的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。
[0016]图1为本申请实施例提供的超短焦激光投影设备的投影示意图；
[0017]图2为本申请实施例提供的投影设备处于校准状态的示意图之一；
[0018]图3为本申请实施例提供的投影设备的结构示意图；
[0019]图4为本申请实施例提供的投影设备处于校准状态检测到的采样序列图之一；
[0020]图5为本申请实施例提供的投影设备处于校准状态的示意图之二；
[0021]图6为本申请实施例提供的投影设备处于校准状态检测到的采样序列图之二；
[0022]图7为本申请实施例提供的投影设备发生左右平移的示意图；
[0023]图8为本申请实施例提供的投影设备发生左右平移后检测到的采样序列图；
[0024]图9为本申请实施例提供的投影设备发生平面偏转的示意图；
[0025]图10为本申请实施例提供的投影设备发生平面偏转后检测到的采样序列图；
[0026]图11为本申请实施例提供的投影设备发生前后平移的示意图；
[0027]图12为本申请实施例提供的投影设备发生前后平移后检测到的采样序列图；
[0028]图13为本申请实施例提供的一种投影设备的校准方法的流程示意图；
[0029]图14为本申请实施例提供的一种投影设备的结构示意图。
具体实施方式
[0030]下面将结合本申请实施例中的附图，对本申请实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本专利技术一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本专利技术中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本专利技术保护的范围。
[0031]需要说明的是，本申请实施例中，“示例性的”或者“例如”等词用于表示作例子、例证或说明。本申请实施例中被描述为“示例性的”或者“例如”的任何实施例或设计方案不应被解释为比其它实施例或设计方案更优选或更具优势。确切而言，使用“示例性的”或者“例如”等词旨在以具体方式呈现相关概念。
[0032]本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种投影设备，其特征在于，包括：校准光源、柱状透镜、线阵模块和处理器；所述校准光源被配置为：发射光束并将所述光束投影到投影屏幕下边缘处的反光镜上；所述柱状透镜被配置为：将经过所述反光镜反射的光线进行聚焦处理；所述线阵模块被配置为：采集经过聚焦处理的光线形成的第一成像区域内每个像素点对应的光电辐值；所述处理器被配置为：根据所述光电辐值确定特征像素点的光电辐值，并根据所述特征像素点的光电辐值确定所述投影设备的偏移参数；其中，所述特征像素点包括根据所述投影屏幕上配置的校准点在所述第一成像区域中形成的光电辐值突变点确定的像素点。2.根据权利要求1所述的投影设备，其特征在于，所述线阵模块还被配置为：在所述投影设备的位置处于校准状态的情况下，采集经过聚焦处理的光线形成的第二成像区域内每个像素点对应的光电辐值；所述处理器还被配置为：根据所述光电辐值确定所述第二成像区域内的特征像素点的光电辐值。3.根据权利要求2所述的投影设备，其特征在于，所述处理器具体配置为：根据所述第二成像区域内特征像素点的光电辐值与所述第一成像区域内特征像素点的光电辐值之间的变化量确定所述投影设备的偏移参数。4.根据权利要求1
‑
3任一项所述的投影设备，其特征在于，所述处理器还被配置为：向校准系统发送所述偏移参数。5.一种投影设备的校准方法，应用于投影设备，其特征在于，包括：获取经过聚焦处理的光线形成的第一成像区域内每个像素点对应的光电辐值；根据所述光电辐值确定特征像素点的光电辐值；根据所述特征像素点的光电辐值确定所述投影设备的偏移参数；根据所述偏移参数对所述投影设备的位置进行校准；其中，...

【专利技术属性】
技术研发人员：高力波，
申请(专利权)人：青岛海信激光显示股份有限公司，
类型：发明
国别省市：