一种氧化铜的生产方法和生产装置制造方法及图纸

本发明专利技术涉及一种氧化铜的生产方法和生产装置。主要包括设置回转窑的温度，回转窑由入口端到出口端依次设置有第一段控温区域、第二段控温区域和第三段控温区域，所述第一段控温区域的温度范围为40

A production method and device of copper oxide

【技术实现步骤摘要】
一种氧化铜的生产方法和生产装置


[0001]本专利技术涉及氧化铜生产领域，特别是涉及氧化铜的生产方法和生产装置。

技术介绍

[0002]氧化铜粉是一种棕黑色的金属氧化物粉末，用途比较广泛，制作方法也很多。目前国内氧化铜的生产工艺主要有两大类:干法生产工艺和湿法生产工艺。
[0003]干法生产工艺:以铜灰、铜渣为原料经高温焙烧,得到粗品氧化铜，然后用酸溶解，再置换得品位比较高的铜粉,在氧化炉中高温氧化,制得氧化铜粉末。
[0004]湿法生产工艺:是将铜盐溶液在一定温度下加入碱类化合物进行一系列反应，合成氧化铜，然后通过洗涤去掉其他杂质，再在一定的温度下烘干其中的水份，制得氧化铜粉末。
[0005]不论是干法生产工艺还是湿法生产工艺，在生产过程中都有大量的废水、废渣、废汽。“三废”的产生对环境造成污染。同时在生产过程中由于生产路线比较长，能源消耗也比较大。“三废”的处理和较大的能耗，加大了企业的经营成本，是企业的一个不小的负担。

技术实现思路

[0006]基于此，有必要针对传统氧化铜生产工艺的问题，提供一种氧化铜的生产方法。该方法生产流程短，能耗小，没有“三废”的产生，且有利于保护环境。
[0007]一种氧化铜的生产方法，包括：
[0008]设置回转窑的温度，回转窑由入口端到出口端依次设置有第一段控温区域、第二段控温区域和第三段控温区域，所述第一段控温区域的温度范围为40
‑
100℃，第二段控温区域的温度范围为180
‑
250℃，第三段控温区域的温度范围为200
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70℃；
[0009]使氢氧化铜粉末由回转窑的入口端进入回转窑，并依次经过第一段控温区域、第二段控温区域和第三段控温区域，最终由回转窑的出口将氧化铜卸出。
[0010]本申请的上述方法由于采用回转窑分段控温方式来生产氧化铜，整个生产路线较短，能耗低，没有“三废”的产生，有利于环境保护。
[0011]在其中一个实施例中，所述第一段控温区域的长度：第二段控温区域的长度：第三段控温区域的长度为1:1:1。
[0012]在其中一个实施例中，所述回转窑包括圆筒式罐体，所述罐体的外表面设置有加热件，所述罐体的内壁设置有从入口端一直连接到出口端的螺旋形导板。
[0013]在其中一个实施例中，所述罐体和螺旋形导板由耐腐蚀的材料制成。
[0014]在其中一个实施例中，所述罐体的一侧设置有进料容器，所述进料容器的下端设置有进料阀，所述氢氧化铜粉末通过进料管进入罐体内。
[0015]在其中一个实施例中，所述罐体的出口端的外侧的下方设置有接料容器。
[0016]在其中一个实施例中，根据罐体卸出的氧化铜的检测结果，对进料阀的开启程度、回转窑的转速、第一段控温区域的温度、第二段控温区域的温度和第三段控温区域温度进
行调整。
[0017]在其中一个实施例中，所述回转窑的转速为0.5
‑
1.0转/分钟。
[0018]一种氧化铜的生产装置，包括回转窑，所述回转窑包括圆筒式罐体，所述罐体的外表面设置有加热件，所述罐体的内壁设置有从入口端一直连接到出口端的螺旋形导板，回转窑由入口端到出口端依次设置有第一段控温区域、第二段控温区域和第三段控温区域，所述第一段控温区域的温度范围为40
‑
100℃，第二段控温区域的温度范围为180
‑
250℃，第三段控温区域的温度范围为200
‑
70℃，所述回转窑的转速为0.5
‑
1.0转/分钟；
[0019]所述罐体的一侧设置有进料容器，所述进料容器的下端设置有进料阀，所述氢氧化铜粉末通过进料管进入罐体内，所述罐体的出口端的外侧的下方设置有接料容器。
[0020]所述第一段控温区域的长度：第二段控温区域的长度：第三段控温区域的长度为1:1:1。
附图说明
[0021]图1为本申请的实施例的氧化铜的生产装置的示意图。
[0022]其中：
[0023]110、回转窑
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111、入口端
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112、出口端
[0024]120、进料容器
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130、进料阀
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140、进料管
[0025]150、螺旋形导板
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160、接料容器。
具体实施方式
[0026]为使本专利技术的上述目的、特征和优点能够更加明显易懂，下面结合附图对本专利技术的具体实施方式做详细的说明。在下面的描述中阐述了很多具体细节以便于充分理解本专利技术。但是本专利技术能够以很多不同于在此描述的其它方式来实施，本领域技术人员可以在不违背本专利技术内涵的情况下做类似改进，因此本专利技术不受下面公开的具体实施例的限制。
[0027]需要说明的是，当元件被称为“固定于”另一个元件，它可以直接在另一个元件上或者也可以存在居中的元件。当一个元件被认为是“连接”另一个元件，它可以是直接连接到另一个元件或者可能同时存在居中元件。
[0028]除非另有定义，本文所使用的所有的技术和科学术语与属于本专利技术的
的技术人员通常理解的含义相同。本文中在本专利技术的说明书中所使用的术语只是为了描述具体的实施例的目的，不是旨在于限制本专利技术。
[0029]本申请的实施例提供了一种氧化铜的生产方法，该方法包括：
[0030]设置回转窑110的温度，回转窑110由入口端111到出口端112依次设置有第一段控温区域、第二段控温区域和第三段控温区域。所述第一段控温区域的温度范围为40
‑
100℃，例如可为40℃、50℃、60℃、80℃、100℃。第二段控温区域的温度范围为180
‑
250℃，例如，可为180℃、190℃、200℃。第三段控温区域的温度范围为200
‑
70℃，例如，可为70℃、80℃、100℃、200℃。使氢氧化铜粉末由回转窑110的入口端111进入回转窑110，并依次经过第一段控温区域、第二段控温区域和第三段控温区域，最终由回转窑110的出口将氧化铜卸出。
[0031]其中，上述第一段控温区域是预热区，上述第二段控温区域是分解区，上述第三段控温区域是冷却区。
[0032]可以理解，本申请生产出的氧化铜经过放冷后，可进行计量包装，成为成品。
[0033]在其中一个实施例中，所述第一段控温区域的长度：第二段控温区域的长度：第三段控温区域的长度为1:1:1。例如，第一段控温区域的长度为1000mm，第二段控温区域的长度为1000mm，第三段控温区域的长度为1000mm。
[0034]具体的，回转窑110的整体直径可根据实际需求进行设定。例如可为400mm。
[0035]在其中一个实施例中，所述回转窑110包括圆筒式罐体，所述罐体的外表面设置有加热件，所述罐体的内壁设置有从入口端一直连接到出口端的螺旋形导板1本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种氧化铜的生产方法，其特征在于，包括：设置回转窑的温度，回转窑由入口端到出口端依次设置有第一段控温区域、第二段控温区域和第三段控温区域，所述第一段控温区域的温度范围为40
‑
100℃，第二段控温区域的温度范围为180
‑
250℃，第三段控温区域的温度范围为200
‑
70℃；使氢氧化铜粉末由回转窑的入口端进入回转窑，并依次经过第一段控温区域、第二段控温区域和第三段控温区域，最终由回转窑的出口将氧化铜卸出。2.根据权利要求1所述的氧化铜的生产方法，其特征在于，所述第一段控温区域的长度：第二段控温区域的长度：第三段控温区域的长度为1:1:1。3.根据权利要求1所述的氧化铜的生产方法，其特征在于，所述回转窑包括圆筒式罐体，所述罐体的外表面设置有加热件，所述罐体的内壁设置有从入口端一直连接到出口端的螺旋形导板。4.根据权利要求3所述的氧化铜的生产方法，其特征在于，所述罐体和螺旋形导板由耐腐蚀的材料制成。5.根据权利要求3所述的氧化铜的生产方法，其特征在于，所述罐体的一侧设置有进料容器，所述进料容器的下端设置有进料阀，所述氢氧化铜粉末通过进料管进入罐体内。6.根据权利要求3所述的氧化铜的生产方法，其特征在于，所述罐体的出口端的外侧的下方设置有接料容器。...

【专利技术属性】
技术研发人员：盛勤明，黄健勇，
申请(专利权)人：吴江市威士达铜业科技有限公司，
类型：发明
国别省市：