化合物九羟基三氯七硼酸三铷和九羟基三氯七硼酸三铷双折射晶体及制备方法和用途技术

本发明专利技术涉及一种化合物九羟基三氯七硼酸三铷和九羟基三氯七硼酸三铷双折射晶体及制备方法和应用，该化合物的分子式为Rb3[B(OH)3][B3O3(OH)3]2Cl3，分子量为687.50，采用温和的溶剂蒸发法制成。该晶体化学式为Rb3[B(OH)3][B3O3(OH)3]2Cl3，分子量为687.50，属于六方晶系，空间群是P63/m，晶胞参数a=13.7234(9)

Birefringent crystals of compounds nine hydroxy trichloro heptahydrate tri rubidium and nine hydroxy trichloro heptahydrate tri rubidium and their preparation methods and Applications

【技术实现步骤摘要】
化合物九羟基三氯七硼酸三铷和九羟基三氯七硼酸三铷双折射晶体及制备方法和用途


[0001]本专利技术涉及一种化合物九羟基三氯七硼酸三铷和九羟基三氯七硼酸三铷双折射晶体及制备方法和用途，特别是一种用于可见光
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深紫外波段的分子式为Rb3[B(OH)3][B3O3(OH)3]2Cl3的九羟基三氯七硼酸三铷双折射晶体。

技术介绍

[0002]双折射是指一束光投射到晶体表面上产生两束折射光的现象，产生这种现象的根本原因是在于晶体材料的各向异性。光在光性非均质体均质体(如立方系以外的晶体)中传播时，除了个别特殊的方向(沿光轴方向)外，会改变其振动特点，分解为两个电场矢量振动方向互相垂直，传播速度不同，折射率不等的两束偏振光，这种现象称为双折射，这样的晶体称为双折射晶体。晶体的双折射性质是光电功能材料晶体的重要光学性能参数，利用双折射晶体的特性可以得到线偏振光，实现对光束的位移等，从而使得双折射晶体成为制作光隔离器、环形器、光束位移器、光学起偏器和光学调制器等光学元件的关键材料。
[0003]常用的双折射材料主要有方解石晶体、金红石本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种化合物九羟基三氯七硼酸三铷，其特征在于该化合物的分子式为Rb3[B(OH)3][B3O3(OH)3]2Cl3，分子量为687.50，采用温和的溶剂蒸发法制成。2.根据权利要求1所述的化合物九羟基三氯七硼酸三铷的制备方法，其特征在于按下列步骤进行：按摩尔比Rb∶B＝3:7将纯度为99.9%的含铷化合物为氯化铷、氢氧化铷、氧化铷、碳酸铷、碳酸氢铷、硫酸铷或硝酸铷，纯度99.9%的含硼化合物为硼酸或氧化硼称取放入研钵中，加5
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10 mL去离子水仔细研磨，然后装入100 mL的敞口玻璃烧杯或刚玉坩埚中，放入磁力加热搅拌器或水浴锅中，缓慢升温至80
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100℃，恒温1
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5小时，待样品干燥后取出，并充分研磨，即得九羟基三氯七硼酸三铷化合物单相多晶粉末，放入研钵中研磨进行X射线分析，所得X射线谱图与Rb3[B(OH)3][B3O3(OH)3]2Cl3单晶结构得到的X射线谱图是一致的。3.一种九羟基三氯七硼酸三铷双折射晶体，其特征在于该晶体分子式为Rb3[B(OH)3][B3O3(OH)3]2Cl3，分子量为687.50，属于六方晶系，空间群是P63/m，晶胞参数a = 13.7234(9)
ꢀÅ
，b = 13.7234(9)
ꢀÅ
，c = 6.5167(5)
ꢀÅ
，V = 1062.87(16)
ꢀÅ3，Z=2。4.根据权利要求3所述的九羟基三氯七硼酸三铷双折射晶体的制备方法，其特征在于采用室温溶液法或水热法生长九羟基三氯七硼酸三铷双折射晶体：所述室温溶液法生长九羟基三氯七硼酸三铷双折射晶体，具体操作按下列步骤进行：a、按摩尔比Rb∶B＝3:7将含Rb化合物, 含B化合物称取放入1000mL的玻璃烧瓶中，加入500mL的去离子水，然后超声波处理5
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60分钟，使其充分混合溶解，并加入浓度为37%的盐酸溶液，调节溶液pH值1
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【专利技术属性】
技术研发人员：潘世烈，焦佳豪，张敏，
申请(专利权)人：中国科学院新疆理化技术研究所，
类型：发明
国别省市：