【技术实现步骤摘要】
光催化抗菌剂及其制备方法以及抗菌防指纹药液的制备和应用
[0001]本专利技术属于化学材料领域，具体涉及一种光催化抗菌剂及其合成方法，以及其抗菌防指纹药液的制备及其应用。
技术介绍
[0002]随着社会科技的不断进步，人类生活中的智能手机、平板电脑等3C电子产品普及度越来越高，市场机遇越来越大。电子产品在日常生活中的使用频率高，手指每天接触电子产品的次数多，但是由于手的触摸，会在电子产品的表面留下人体的汗液、更新指纹的油脂以及其他的细菌。源自美观、卫生、舒适的消费者使用需求，近年来生产商对于长效抗菌易清洁抗指纹涂层的开发日益重视。
[0003]公开号为CN105176342A的专利申请公开了一种纳米抗菌防指纹药液材料、其制备方法及其应用。该专利技术将纳米Ag
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离子与防指纹全氟材料全氟聚醚烷氧基硅烷进行分散均匀混合得到抗菌防指纹药液材料。但是纳米银材料与全氟聚醚相容性较差，且无法提供持续长久的抗菌性能。
[0004]公开号为CN110791194A的专利申请公开了一种手机用抗菌防指纹涂料，该...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.一种光催化抗菌剂，其特征在于，其结构式包括式(I)：2.一种如权利要求1所述的光催化抗菌剂的制备方法，其特征在于，包括以下步骤：步骤S1：将噻吩甲醛溶解在无水四氢呋喃中，然后加入四氯化钛，在
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18～
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10℃下反应0.5～1h后加热至70～90℃，分批加入锌，回流后冷却至室温，提纯得到产物A；步骤S2：将产物A溶解在无水四氢呋喃中，然后在氮气氛下加入正丁基锂溶液，
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78～
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60℃下搅拌2～4h后加热至室温，搅拌0.5～1h，随后在
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78～
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60℃下继续加入三甲基氯化锡，搅拌2～4h，提纯得到产物B；步骤S3：将产物B和2，5
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二溴噻吩
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羧酸溶于无水甲苯中，用氮气吹扫20～40min后加入四(三苯基膦)钯，然后在110～130℃下搅拌72小时，再加入2
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(三丁基三苯胺基)噻吩和溴苯作为封端剂，110～130℃下搅拌12小时，提纯后得到光催化抗菌剂。3.一种利用权利要求1或2所述光催化抗菌剂制备的光催化抗菌防指纹药液，其特征在于，所述的光催化抗菌防指纹药液主要...
【专利技术属性】
技术研发人员：王超香，符勇，董其宝，李勇，
申请(专利权)人：日照富喜光电科技有限公司，
类型：发明
国别省市：
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