用于监测微滴流中的微滴的设备和方法技术

一种用于监测靶材料的微滴流的设备，该靶材料的微滴流用以在辐射源中产生辐射束，其中所述设备包括：用于产生靶材料的微滴流的靶材料发射器，其中所述靶材料发射器包括腔室，所述腔室被配置用于所述靶材料在形成所述微滴流之前通过；第一换能器，其被配置为在所述腔室中产生声压；以及第二换能器，其被配置为感测所述腔室中的声压。测所述腔室中的声压。测所述腔室中的声压。

Apparatus and method for monitoring droplets in a droplet stream

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】用于监测微滴流中的微滴的设备和方法
[0001]相关申请的交叉引用
[0002]本申请要求于2019年12月20日提交的题为“APPARATUS FOR AND METHOD OF MONITORING DROPLETS IN A DROPLET STREAM”的美国申请62/951,893的优先权，该申请的全部内容通过引用结合于此。


[0003]本专利技术涉及一种用于产生、监测和控制用以在辐射源中产生辐射束的靶材料的微滴流的设备。更具体地，辐射源是极紫外(EUV)辐射源，其从靶材料产生EUV辐射。

技术介绍

[0004]光刻设备是构造成将期望的图案施加到衬底上的机器。光刻设备可用于例如集成电路(IC)的制造中。光刻设备可以例如在图案形成装置(例如掩模)处将图案投影到设置在衬底上的辐射敏感材料(抗蚀剂)层上。
[0005]为了在衬底上投射图案，光刻设备可以使用电磁辐射。该辐射的波长决定了可以在衬底上形成的特征的最小尺寸。与使用例如波长为193nm的辐射的光刻设备相比，使用波长在4－20nm范围内，例如6.7nm或13.5本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】1.一种用于监测靶材料的液滴流的设备，所述靶材料的液滴流用以在辐射源中产生辐射束，其中所述设备包括：靶材料发射器，所述靶材料发射器被配置成用于产生所述靶材料的液滴流，其中所述靶材料发射器包括腔室，所述腔室被配置成用于所述靶材料穿过；第一换能器，所述第一换能器被配置成用于在所述腔室中产生声压，以及第二换能器，所述第二换能器被配置成感测所述腔室中的所述声压。2.根据权利要求1所述的设备，其中所述设备被配置成通过测量由所述第二换能器的受迫声位移所引起的电压反馈来感测所述声压。3.根据权利要求1所述的设备，其中所述第一换能器以与所述腔室径向对准的自由度与所述腔室同轴地配置。4.根据权利要求3所述的设备，其中所述第一换能器至少部分地位于所述腔室周围，其中所述第一换能器被配置成使所述腔室的纵向壁振荡。5.根据权利要求1所述的设备，其中所述第一换能器被配置为感测所述腔室中的声压。6.根据权利要求5所述的设备，其中所述第二换能器以与所述腔室的纵轴对准的自由度相对于所述腔室线性地配置。7.根据权利要求1所述的设备，其中所述第二换能器以与所述腔室的纵轴对准的自由度相对于所述腔室线性地配置。8.根据权利要求6所述的设备，其中所述第二换能器位于所述腔室的端部附近，其中所述第二换能器被配置为通过振荡所述腔室的端壁而在所述靶材料和所述第二换能器之间传输振荡。9.根据权利要求8所述的设备，其中所述设备包括靠近所述腔室的所述端壁的柔性膜，所述柔性膜被配置成在所述靶材料和所述第二换能器之间传输振荡。10.根据权利要求1所述的设备，其中所述第二换能器以与所述腔室径向对准的自由度与所述腔室同轴地配置。11.根据权利要求1所述的设备，其中所述第二换能器被配置为在所述腔室中产生声压。12.根据权利要求11所述的设备，其中所述设备被配置成确定所述第一换能器和所述第二换能器的增量声压致动能力。13.根据权利要求1所述的设备，其中所述设备被配置为主动控制所述腔室中的声压。14.根...

【专利技术属性】
技术研发人员：J，
申请(专利权)人：ASML荷兰有限公司，
类型：发明
国别省市：