用于基板的处置与均匀烘烤的烘烤装置制造方法及图纸

本公开内容的实施方式涉及用于处置和均匀烘烤基板的烘烤设备以及用于处置和均匀烘烤基板的方法。烘烤设备允许将基板加热到大于50℃的温度，而没有从基板的边缘到基板的中心的约1mm至约2mm的弯曲。烘烤设备均匀地或实质均匀地加热基板以改善基板品质。均匀地加热基板以改善基板品质。均匀地加热基板以改善基板品质。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】用于基板的处置与均匀烘烤的烘烤装置
[0001]背景


[0002]本公开内容的实施方式一般涉及用于处置(handling)和均匀烘烤基板的烘烤设备以及用于处置和均匀烘烤基板的方法。

技术介绍

[0003]在光学装置的制造中，可将基板加热到大于摄氏50度(℃)的温度，如约50℃至约300℃。基板(诸如玻璃基板)可包括使基板在大于50℃的温度下弯曲的一种或多种材料。所述一种或多种材料可以是折射率大于1.5的材料。当加热到大于50℃的温度时具有大于1.5的折射率的基板可具有从基板的边缘到基板的中心的约1毫米(mm)至约2mm的弯曲(bowing)。因此，当设置在被加热的基板支撑件(诸如真空吸盘、静电吸盘或是可操作的以保持(retain)基板以及经由设置在其中的加热元件加热基板的其他基板支撑件)上时，基板的边缘可能没有被保持在被加热的基板支撑件上，而导致整个基板表面上(across)的不均匀温度。
[0004]在例如施加后烘烤(post
‑
apply baking(PAB))期间，整个基板表面上的不均匀温度可能会导致从本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】1.一种设备，包括：基板支持组件，所述基板支持组件设置在基部上，所述基板支持组件包含：两个或更多个轴，所述两个或更多个轴的每个轴具有设置在所述每个轴上的延伸部，所述两个或更多个轴的每个轴的所述延伸部是可操作的以支撑设置在所述一个或多个轴之间的一个或多个基板；盖件，所述盖件包含设置在所述盖件中的一个或多个加热元件；和处理空间，所述处理空间形成在所述盖件和所述基部之间。2.如权利要求1所述的设备，其中所述处理空间能够被加热至约50℃与约600℃之间的温度。3.如权利要求1所述的设备，其中所述设备进一步包括耦接至所述盖件的致动器，所述致动器是可操作的以关闭所述盖件以与所述基部接触。4.如权利要求1所述的设备，其中所述一个或多个加热元件包括陶瓷加热器、橡胶加热器和玻璃纤维加热器。5.如权利要求1所述的设备，其中所述两个或更多个轴的每个轴包括1至5个延伸部。6.一种设备，包括：基板支撑件，所述基板支撑件设置在基部上，所述基板支撑件包含：一个或多个加热元件；和升降杆，所述升降杆是可操作的以支撑基板；盖件，所述盖件包含耦接在所述盖件上的边缘支架，所述边缘支架包含环；和处理空间，所述处理空间形成在所述盖件和所述基部之间。7.如权利要求6所述的设备，其中所述设备进一步包括保持板，所述保持板设置在所述基板支撑件上。8.如权利要求7所述的设备，其中所述保持板包括穿过所述保持板设置的通道，所述通道与泵连通以形成真空系统。9.如权利要求8所述的设备，其中所述保持板包括陶瓷、云母、或陶瓷和金属材料的混合物。10.如权利要求9所述的设备，其中所述保持板借助轨道相对于所述一个或多个加热元件定位。11....

【专利技术属性】
技术研发人员：希拉姆，
申请(专利权)人：应用材料公司，
类型：发明
国别省市：