上行同步跟踪装置制造方法及图纸

本发明专利技术公开了一种上行同步跟踪装置，包括：二倍内插和功率平均单元，用于对有效信道冲击响应进行二倍线性内插，对每个点的功率按照天线求平均值；粗测单元，用于获取时延粗侧的功率门限值，找到超过上述门限值的起始点、结束点、和峰值点；四倍内插和精测单元，用于分别在由上述粗测单元提供的各点附近进行四倍内插，得到四倍内插后各点；同步控制命令生成单元，用于根据由上述四倍内插和精测单元提供的精测的各点的信息生成同步控制命令；同步命令映射和填充单元，用于将上述同步控制命令映射到对应的下行时隙；以及主控单元，用于对上述各个单元进行调度和控制连接，以及进行接口参数处理。

【技术实现步骤摘要】

【技术保护点】
一种上行同步跟踪装置，其特征在于，包括：二倍内插和功率平均单元，用于对各个用户设备的有效信道冲击响应进行二倍线性内插，并对每个点的功率按照天线求平均值；粗测单元，连接至所述二倍内插和功率平均单元，用于获取时延粗侧的功率门限值 ，并找到超过所述门限值的起始点、结束点、和峰值点；四倍内插和精测单元，连接至所述粗测单元，用于分别在由所述粗测单元提供的所述起始点、结束点、和峰值点附近进行四倍内插，得到四倍内插后的起始点、结束点、和峰值点；同步控制命令生成 单元，连接至所述四倍内插和精测单元，用于根据由所述四倍内插和精测单元提供的精测到的起始点、结束点、和峰值点信息生成同步控制命令，其中，所述同步控制命令在本子帧或下一个子帧中被发送到相应的用户设备；同步命令映射和填充单元，连接至所述同 步控制命令生成单元，用于将所述同步控制命令映射到对应的下行时隙；以及主控单元，连接至所述二倍内插和功率平均单元、粗测单元、四倍内插和精测单元、同步控制命令生成单元、以及同步命令影射和填充单元，用于对上述各个单元进行调度和控制连接，以 及进行接口参数处理。...

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：叶辉，
申请(专利权)人：中兴通讯股份有限公司，
类型：发明
国别省市：94[中国|深圳]