本发明专利技术涉及一种工艺边的制作方法、光栅制作方法以及光栅制作装置，其中，工艺边的制作方法包括：通过可控投射面积和/或区域的光束对待光刻基材上选定的工艺边区域进行曝光和显影得到工艺边；其中，工艺边的振动特征与待光刻基材的其他区域保持一致。本发明专利技术将参考光栅与样品相结合，在样品上制作代替参考光栅的工艺边，即先在待光刻基材的某一位置制作参考光栅，再利用参考光栅进行扫描锁定，在待光刻基材的另一位置，扫描曝光所需要的光栅。由此，通过将样品与锁定参考光出自同一个体，解决了扫描锁定曝光中参考光栅与待光刻样品震动频率不一致问题，更大程度地解决了全息曝光中杂散光问题，可以广泛应用于大尺寸或低杂散光全息光栅的制作中。息光栅的制作中。息光栅的制作中。
【技术实现步骤摘要】
一种工艺边的制作方法、光栅制作方法以及光栅制作装置
[0001]本专利技术涉及全息光栅
，尤其涉及一种工艺边的制作方法、光栅制作方法以及光栅制作装置。
技术介绍
[0002]光栅杂散光是高质量全息光栅的一个重要指标。导致全息光栅杂散光的主要原因是激光散斑，激光散斑是全息干涉中的背景噪声，在全息干涉和图像处理中是极其有害的。
[0003]在曝光过程中让基板在曝光场中运动起来(即扫描光刻)是一种有效的降低全息光栅杂散光的方法。通常在扫描光刻方案中需要一块参考光栅用于产生莫尔条纹，通过锁定莫尔条纹来保证制作过程中曝光场与待光刻基材之间的相对关系。但参考光栅和待光刻基材之间可能存在相对振动，这会影响锁定效果从而降低所制作光栅的质量。
[0004]本专利提出了一种方法可以消除扫描光刻中参考光栅与待光刻基材之间的相对振动，从而提高所制作全息光栅的质量。
技术实现思路
[0005](一)要解决的技术问题
[0006]鉴于现有技术的上述缺点、不足，本专利技术提供一种工艺边的制作方法、光栅制作方法以及光栅制作装置，其解决了在扫描光刻中因参考光栅与待光刻基材之间的相对振动而产生的干涉条纹不理想的技术问题。
[0007](二)技术方案
[0008]为了达到上述目的，本专利技术采用的主要技术方案包括：
[0009]第一方面，本专利技术实施例提供一种工艺边的制作方法，包括：
[0010]通过可控投射面积和/或区域的光束对待光刻基材上选定的工艺边区域进行曝光和显影得到工艺边；
[0011]其中，工艺边的振动特征与待光刻基材的其他区域保持一致。
[0012]可选地，工艺边的曝光为静态曝光。
[0013]第二方面，本专利技术实施例提供一种使用工艺边的光栅制作方法，包括：
[0014]通过可控投射面积和/或区域的光束对待光刻基材上选定的工艺边区域进行曝光和显影得到工艺边；
[0015]在对待光刻基材的非工艺边区域的曝光过程中，通过锁定工艺边所产生的莫尔条纹来保持投射光束形成的曝光场和待光刻基材之间的相对位姿不变，同时对非工艺边区域进行光刻，之后经显影得到光栅。
[0016]可选地，通过可控投射面积和/或区域的光束对待光刻基材上选定的工艺边区域进行曝光和显影得到工艺边之后，还包括：
[0017]向工艺边投射光束，使得投射光束形成的干涉场与工艺边叠加，形成莫尔条纹；
[0018]通过调整待光刻基材的位置和姿态使得莫尔条纹的对比度和相位满足预设条件。
[0019]可选地，在对待光刻基材的非工艺边区域的曝光过程中，通过锁定工艺边所产生的莫尔条纹来保持投射光束形成的曝光场和待光刻基材之间的相对位姿不变，同时对非工艺边区域进行光刻，之后经显影得到光栅包括：
[0020]通过调整光束的投射面积和/或区域，使得光束投射到待光刻基材的非工艺边区域上；
[0021]通过调整待光刻基材的位置和姿态进行相位补偿，以锁定莫尔条纹；
[0022]基于锁定的莫尔条纹，在保持投射光束形成的曝光场和待光刻基材之间的相对位姿不变的条件下，对待光刻基材的非工艺边区域进行光刻，并经显影得到光栅；
[0023]其中，非工艺边区域与工艺边区域的振动频率一致。
[0024]可选地，所述光栅制作方法实施于预设的劳埃镜机构，劳埃镜机构包括：成一定夹角设置的劳埃镜反射镜和用于承载待光刻基材的基材夹具；
[0025]通过调整投射光束的面积和/或区域形状，以使射入劳埃镜反射镜的光束为窄条型光束，且在窄条型光束下对基材夹具靠近劳埃镜反射镜一侧的处于工艺边区域之内的一窄条区域进行曝光；
[0026]对曝光的窄条区域进行显影、清洗以及吹干得到工艺边；
[0027]向工艺边投射光束，使得投射光束形成的干涉场与工艺边叠加，形成莫尔条纹，并经调整使得形成的莫尔条纹满足预设条件；
[0028]再次调整投射光束的面积和/或区域形状，以使射入劳埃镜机构的光束达到预设最大值，开始对非工艺边区域进行光刻；
[0029]在光刻中，控制基材夹具带动待光刻基材产生位移直至因工艺边区域和非工艺边区域的前后两次扫描曝光所产生的莫尔条纹相匹配；
[0030]光刻结束后，对待光刻基材进行显影、冲洗以及吹干得到光栅。
[0031]可选地，所述光栅制作方法实施于预设的双光束曝光系统；
[0032]调整第一平行光束和第二平行光束的面积和/或区域形状，以使射入待光刻基材的第一平行光束和第二平行光束所形成干涉场面积为处于工艺边区域之内的一窄条区域；
[0033]对窄条区域进行曝光，并通过显影、清洗以及吹干得到工艺边；
[0034]向工艺边投射光束，并将第一平行光束和第二平行光束所形成的干涉场与工艺边叠加形成的莫尔条纹调至预设相位；
[0035]再次调整第一平行光束和第二平行光束的面积和/或区域形状，以使射入待光刻基材的光束达到预设最大值，开始对非工艺边区域进行光刻；
[0036]在光刻中，控制待光刻基材产生位移直至因工艺边区域和非工艺区域的前后两次扫描曝光所产生的莫尔条纹相匹配；
[0037]光刻结束后，对待光刻基材进行显影、冲洗以及吹干得到光栅。
[0038]第三方面，本专利技术实施例提供一种光栅制作装置，所述光栅制作装置为执行如上所述使用工艺边的光栅制作方法的装置，包括：
[0039]光源照射组件，用于向所述待光刻基材发出可控投射面积和/或区域的光束；
[0040]动态调整组件，用于通过调整所述待光刻基材的姿态和位置来实现莫尔条纹的锁定。
[0041]可选地，
[0042]所述光源照射组件包括：激光器、沿着激光器的出射光形成的光路依次设置的反光镜、波片、显微物镜、针孔、准直透镜以及劳埃镜机构，劳埃镜机构包括：成一定夹角设置的劳埃镜反射镜和基材夹具；
[0043]所述动态调整组件包括：用于承载劳埃镜反射镜和基材夹具以及驱动基材夹具带动待光刻基材产生多维度的位移或旋转的运动控制平台；
[0044]以及，所述光栅制作装置还包括：设置于准直透镜和劳埃镜机构之间的光路上的遮光组件。
[0045]可选地，
[0046]所述光源照射组件包括：光学前置组件、第一光束通路以及第二光束通路；光学前置组件包括沿着同一光轴依次设置的激光器、波片以及分束棱镜；第一光束通路包括：第三反射镜以及沿着同一光轴设置的第一显微物镜、第一针孔以及第一准直透镜，第二光束通路包括：第一反射镜、第二反射镜以及沿着同一光轴依次设置的第二显微物镜、第二针孔以及第二准直透镜；
[0047]所述动态调整组件包括：用于承载待光刻基板以及驱动待光刻基材产生位移的扫描位移台；
[0048]以及，所述光栅制作装置还包括：设置于第一光束通路和光刻基板之间的光路上的第三遮光板和设置于第二光束通路和光刻基板之间的光路上的第四遮光板。
[0049](三)有益效果
[0050]本本文档来自技高网...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.一种工艺边的制作方法，其特征在于，包括：通过可控投射面积和/或区域的光束对待光刻基材上选定的工艺边区域进行曝光和显影得到工艺边；其中，工艺边的振动特征与待光刻基材的其他区域保持一致。2.如权利要求1所述一种工艺边的制作方法，其特征在于，工艺边的曝光为静态曝光。3.一种使用工艺边的光栅制作方法，其特征在于，包括：通过可控投射面积和/或区域的光束对待光刻基材上选定的工艺边区域进行曝光和显影得到工艺边；在对待光刻基材的非工艺边区域的曝光过程中，通过锁定工艺边所产生的莫尔条纹来保持投射光束形成的曝光场和待光刻基材之间的相对位姿不变，同时对非工艺边区域进行光刻，之后经显影得到光栅。4.如权利要求3所述的一种使用工艺边的光栅制作方法，其特征在于，通过可控投射面积和/或区域的光束对待光刻基材上选定的工艺边区域进行曝光和显影得到工艺边之后，还包括：向工艺边投射光束，使得投射光束形成的干涉场与工艺边叠加，形成莫尔条纹；通过调整待光刻基材的位置和姿态使得莫尔条纹的对比度和相位满足预设条件。5.如权利要求3所述的一种使用工艺边的光栅制作方法，其特征在于，在对待光刻基材的非工艺边区域的曝光过程中，通过锁定工艺边所产生的莫尔条纹来保持投射光束形成的曝光场和待光刻基材之间的相对位姿不变，同时对非工艺边区域进行光刻，之后经显影得到光栅包括：通过调整光束的投射面积和/或区域，使得光束投射到待光刻基材的非工艺边区域上；通过调整待光刻基材的位置和姿态进行相位补偿，以锁定莫尔条纹；基于锁定的莫尔条纹，在保持投射光束形成的曝光场和待光刻基材之间的相对位姿不变的条件下，对待光刻基材的非工艺边区域进行光刻，并经显影得到光栅；其中，非工艺边区域与工艺边区域的振动频率一致。6.如权利要求3所述的一种使用工艺边的光栅制作方法，其特征在于，所述光栅制作方法实施于预设的劳埃镜机构，劳埃镜机构包括：成一定夹角设置的劳埃镜反射镜和用于承载待光刻基材的基材夹具；通过调整投射光束的面积和/或区域形状，以使射入劳埃镜反射镜的光束为窄条型光束，且在窄条型光束下对基材夹具靠近劳埃镜反射镜一侧的处于工艺边区域之内的一窄条区域进行曝光；对曝光的窄条区域进行显影、清洗以及吹干得到工艺边；向工艺边投射光束，使得投射光束形成的干涉场与工艺边叠加，形成莫尔条纹，并经调整使得形成的莫尔条纹满足预设条件；再次调整投射光束的面积和/或区域形状，以使射入劳埃镜机构的光束达到预设最大值，开始对非工艺边区域进行光刻；在光刻中，控制基材夹具带动待光刻基材产生位移直至因工艺边区域和非工艺边区域...
【专利技术属性】
技术研发人员：董文浩，冒新宇，申碧瑶，赵宇暄，
申请(专利权)人：北京至格科技有限公司，
类型：发明
国别省市：
还没有人留言评论。发表了对其他浏览者有用的留言会获得科技券。