本发明专利技术的描画装置具有：描画单元，在基板上描画图案；以及描画数据生成部(42)，生成用于在描画单元中描画图案的描画数据。表示应描画在基板上的图案的设计数据包含作为图案区域的下图形、和重叠在下图形上的上图形。描画数据生成部(42)对下图形以及上图形中的一个图形进行变形处理，通过将未进行变形处理的另一个图形或者进行了与一个图形不同的变形处理的另一个图形与变形后的一个图形重叠，从而生成描画数据。由此，能够适当地生成对下图形以及上图形中的一个图形进行变形处理并且对另一个图形不进行变形处理或者进行了不同的变形处理的描画数据。变形处理的描画数据。变形处理的描画数据。
【技术实现步骤摘要】
描画装置、描画方法、层叠基板的制造方法、存储介质
[0001]本专利技术涉及描画装置、描画方法、层叠基板的制造方法、以及存储有程序的存储介质。
技术介绍
[0002]以往，在不使用掩模的情况下，在基板上的感光材料上描画图案的描画装置被实用化。在描画装置中，通过对使用CAD等制成的作为矢量数据的设计数据进行RIP处理，生成用于描画图案的描画数据，并且基于该描画数据进行图案的描画。此外，在日本特开2005
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157326号公报的装置中，在对图像存储后会发生变形的存储介质存储图像信息所示的图像时，以变形后的存储介质上的图像与由该图像信息表示的图像成为相同的形状的方式，对图像信息进行转换。然后，基于转换后的图像信息，在变形前的存储介质中存储图像。
[0003]另外，近年来，制造出层叠有多个基板的超高多层基板(以下，称为“层叠基板”。)。在层叠基板的制造中，通过对多个基板的每一个描画电路图案，并进行显影、蚀刻等处理，来形成电路图案。接下来，在各基板上形成有孔部，之后层叠多个基板。层叠后的多个基板被安装于模具。在该多个基板中，多个孔部在层叠方向上连续，在将模具中包含的定位用的基准销插入到该多个孔部的状态下，对该多个基板实施结合处理。
[0004]然而，在层叠基板中，由于各基板较薄，因此在结合处理中基板伸缩，基板的尺寸从设计数据中的尺寸变动。基板的伸缩率(标度)例如根据层叠方向上的位置而不同。因此，考虑以层叠基板中的各基板上的电路图案接近设计数据的方式，基于对该基板预测的伸缩率对描画数据进行变形处理(修改)，在该基板上描画电路图案。另一方面，在各基板上也描画了表示应形成孔部的位置的基准销标记。在该情况下，设计数据除了表示电路图案的下图形以外，还包括重叠于下图形并且表示基准销标记的上图形。实质上，描画数据成为表示在下图形重叠有上图形的图像的栅格数据(raster data)。
[0005]在此，若对该描画数据如上所述地基于基板的伸缩率来进行变形处理，则导致在层叠的多个基板中多个孔部的位置相互错开，无法将基准销适当地插入该多个孔部。为了在层叠的多个基板中使多个孔部的位置对齐，在设计数据、描画数据、以及形成于基板的图案中，基准销标记需要位于相同的位置。因此，寻求一种不移动作为上图形的基准销标记(即，未对基准销标记进行变形处理)，而适当地生成对作为下图形的电路图案进行了变形处理的描画数据的方法。根据基板的用途等，也可能寻求对上图形进行与下图形不同的变形处理的描画数据、甚至对下图形不进行变形处理而对上图形进行变形处理的描画数据。
技术实现思路
[0006]本专利技术面向描画图案的描画装置，目的在于适当地生成对下图形以及上图形中的一个图形进行变形处理而对另一个图形不进行变形处理或者进行了不同的变形处理的描画数据。
[0007]本专利技术的描画装置具有：描画单元，在基板上描画图案；以及描画数据生成部，生
成用于所述描画单元中描画图案的描画数据，表示应描画在所述基板上的图案的设计数据包含作为图案区域的下图形、和重叠在所述下图形上的上图形，所述描画数据生成部对所述下图形以及所述上图形中的一个图形进行变形处理，通过将未进行变形处理的另一个图形或者进行了与所述一个图形不同的变形处理的所述另一个图形与变形后的所述一个图形重叠，从而生成所述描画数据。
[0008]根据本专利技术，能够适当地生成对下图形以及上图形中的一个图形进行变形处理并且对另一个图形不进行变形处理或者进行了不同的变形处理的描画数据。
[0009]优选地，所述描画数据生成部使用作为表示所述下图形的栅格数据的下图形图像和作为表示所述上图形的栅格数据的上图形图像，来生成所述描画数据。
[0010]优选地，所述上图形是图案区域，所述设计数据还包含重叠在所述下图形上并且包围所述上图形的周围的作为非图案区域的背景图形，所述描画数据生成部使用作为表示所述背景图形的栅格数据的背景图形图像，来生成所述描画数据。
[0011]优选地，所述下图形图像以及所述上图形图像分别是行程长度(runlength)压缩后的数据。
[0012]优选地，所述描画单元具有：载物台，用于保持所述基板；头，对所述载物台上的所述基板描画图案；移动机构，使所述载物台相对于所述头相对地移动；描画控制部，通过控制所述头以及所述移动机构，从而对所述基板执行描画；以及拍摄部，对形成于所述载物台上的所述基板的对准标记进行拍摄，而获取拍摄图像，所述描画数据生成部基于所述拍摄图像所示的所述对准标记的位置，对所述一个图形进行变形处理。
[0013]优选地，所述基板是层叠基板中包含的多个基板之一，所述上图形表示在所述层叠基板的制造中用于所述基板相对于其他基板进行对位的位置，在所述描画数据的生成中，不对所述上图形进行变形处理。
[0014]优选地，所述描画数据生成部根据在所述层叠基板的制造时产生的预定的所述基板的变形，对所述下图形进行变形处理。
[0015]本专利技术关于一种描画图案的描画方法。本专利技术的描画方法包括：a)工序，准备设计数据，所述设计数据表示应描画在基板上的图案并且包含作为图案区域的下图形、和重叠在所述下图形上的上图形；b)工序，对所述下图形以及所述上图形中的一个图形进行变形处理，通过将未进行变形处理的另一个图形或者进行了与所述一个图形不同的变形处理的所述另一个图形与变形后的所述一个图形重叠，从而生成所述描画数据；以及c)工序，利用所述描画数据，由描画单元对所述基板描画图案。
[0016]本专利技术关于一种层叠基板的制造方法。本专利技术的层叠基板的制造方法包括：对包含通过上述描画方法描画有图案的基板在内的多个基板进行层叠的工序；以及包含在所述基板上形成于所述上图形所示的位置的孔部在内的多个孔部在所层叠的所述多个基板中在层叠方向上连续，在将基准销插入所述多个孔部的状态下，对所述多个基板实施结合处理的工序，在所述描画方法的所述b)工序中不对所述上图形进行变形处理。
[0017]本专利技术关于一种存储介质，存储有使计算机中生成用于描画图案的描画数据的程序。通过所述计算机执行本专利技术的程序，使所述计算机执行如下：a)工序，准备设计数据，所述设计数据表示应描画在基板上的图案，并且包含作为图案区域的下图形、和重叠在所述下图形上的上图形；以及b)工序，对所述下图形以及所述上图形中的一个图形进行变形处
理，通过将未进行变形处理的另一个图形或者进行了与所述一个图形不同的变形处理的所述另一个图形与变形后的所述一个图形重叠，从而生成所述描画数据。
[0018]上述的目的以及其他的目的、特征、方式以及优点通过参照附图并在以下进行的具体实施方式中来明确。
附图说明
[0019]图1是表示描画装置的结构的立体图。
[0020]图2是表示计算机的结构的图。
[0021]图3是表示控制部的功能的框图。
[0022]图4是用于说明层叠基板的制造的图。
[0023]图5是表示层叠基板的制造的流程的图。
[0024]图6是本文档来自技高网...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.一种描画装置，用于描画图案，其中，具有：描画单元，在基板上描画图案；以及描画数据生成部，生成用于在所述描画单元中描画图案的描画数据，表示应描画在所述基板上的图案的设计数据包含作为图案区域的下图形、和重叠在所述下图形上的上图形，所述描画数据生成部对所述下图形以及所述上图形中的一个图形进行变形处理，通过将未进行变形处理的另一个图形或者进行了与所述一个图形不同的变形处理的所述另一个图形与变形后的所述一个图形重叠，从而生成所述描画数据。2.如权利要求1所述的描画装置，其中，所述描画数据生成部使用作为表示所述下图形的栅格数据的下图形图像和作为表示所述上图形的栅格数据的上图形图像，来生成所述描画数据。3.如权利要求2所述的描画装置，其中，所述上图形是图案区域，所述设计数据还包含重叠在所述下图形上并且包围所述上图形的周围的作为非图案区域的背景图形，所述描画数据生成部使用作为表示所述背景图形的栅格数据的背景图形图像，来生成所述描画数据。4.如权利要求2所述的描画装置，其中，所述下图形图像以及所述上图形图像分别是行程长度压缩后的数据。5.如权利要求1所述的描画装置，其中，所述描画单元具有：载物台，用于保持所述基板；头，对所述载物台上的所述基板描画图案；移动机构，使所述载物台相对于所述头相对地移动；描画控制部，通过控制所述头以及所述移动机构，从而对所述基板执行描画；以及拍摄部，对形成于所述载物台上的所述基板的对准标记进行拍摄，而获取拍摄图像，所述描画数据生成部基于所述拍摄图像所示的所述对准标记的位置，对所述一个图形进行变形处理。6.如权利要求1至5中任一项所述的描画装置，其中，所述基板是层叠基板中包含的多个基板之一，所述上图形表示在所述层叠基板的制造中用于所述基板...
【专利技术属性】
技术研发人员：鉈落信也，八坂智，
申请(专利权)人：株式会社斯库林集团，
类型：发明
国别省市：
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