一种晶化玻璃原材及其制备方法和应用技术

本发明专利技术提供一种晶化玻璃原材，其特征在于，所述晶化玻璃原材的厚度为0.02

【技术实现步骤摘要】
一种晶化玻璃原材及其制备方法和应用


[0001]本专利技术涉及玻璃制备
，具体涉及一种一种晶化玻璃原材及其制备方法和应用。

技术介绍

[0002]微晶玻璃作为新一代高强度玻璃，比传统锂铝硅玻璃具有更高性能。由于微晶玻璃内部具有大量纳米级晶体，因此具有更稳定的结构，经过化学强化后可以得到更高强度的盖板产品。
[0003]手机盖板的生产厂家可以从玻璃原料开始，通过常规的方法例如首先通过浮法、压延和溢流等方法使玻璃板成型、再通过切割、减薄的步骤、之后进行CNC处理、抛光、3D热弯，3D抛光和化学强化等处理后得到。或者也有一些生产厂家通过直接购买晶化玻璃原材后，再通过3D热弯，3D抛光和化学强化等处理后得到符合要求的3D微晶玻璃。
[0004]晶化玻璃原材的3D热弯的加工工艺一般是通过下列步骤进行：3D热弯使用热弯机进行，热弯机包括预热，成型和冷却工站，预热工站包括预热模具和玻璃片，其作用是促进玻璃内外温度均匀化，冷却工站是通过冷却水快速给模具降温，使玻璃温度逐步从成型温度降低到出模温度。3D热弯模具为石墨模具，分为上下两部分，玻本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种晶化玻璃原材，其特征在于，所述晶化玻璃原材的厚度为0.02
‑
5mm；所述晶化玻璃原材的结晶度为5
‑
90wt％。2.根据权利要求1所述的晶化玻璃原材，其中，所述厚度为0.35
‑
1.2mm，所述晶化玻璃原材的结晶度为30
‑
75wt％或75
‑
90wt％。3.根据权利要求1或2所述的晶化玻璃原材，其中，所述晶化玻璃原材的380
‑
780nm波长光的平均透过率为83
‑
93％，优选为85
‑
92％；或者，所述晶化玻璃原材的360
‑
400nm波长光的平均透过率为80
‑
91％，优选为83
‑
90％。4.根据权利要求1
‑
3中任一项所述的晶化玻璃原材，其中，所述晶化玻璃原材厚度为0.7mm时的b值(黄蓝值)绝对值为0.2
‑
3，优选为0.6
‑
2；所述晶化玻璃原材的雾度为0.05
‑
1.0％，优选为0.2
‑
0.8％。5.根据权利要求1
‑
4中任一项所述的晶化玻璃原材，其中，所述晶化玻璃原材以mol％计含有如下比例的氧化物:其中，所述稀土氧化物选自La2O3，Eu2O3，Pr6O
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，Nd2O3，Er2O3和Dy2O3中的一种或两种以上。6.根据权利要求5所述的晶化玻璃原材，其中，所述晶化玻璃原材中，以mol％计为，含有SiO2和Al2O3总量大于60％；优选为68
‑
80％；或者，含有Na2O+Li2O以mol％计为7％
‑
30％，优选为10％
‑
26％。7.根据权利要求1
‑
6任一项所述晶化玻璃原材，其中，所述晶化玻璃原材包括成核剂，以氧化物、氟化物或单质计，所述成核剂包括P2O5，TiO2，ZrO2，Cr2O3，CaF2，LiF，NaF，KF，Y2O3，Au，Ag和Cu中的一种或两种以上；优选为P2O5，TiO2和ZrO2中的一种或两种以上。8.根据权利要求1
‑
7任一项所述晶化玻璃原材，其中，所述晶化玻璃原材中包括澄清剂，所述澄清剂包括NaCl，Na2SO4，SnO2，As2O3，Sb2O3，NaNO3，KNO3，CeO2和(NH4)2SO4中的一种或两种以上；优选为NaCl，SnO2，NaNO3和CeO2中的一种或两种以上。9.根据权利要求1
‑
8任一项所述晶化玻璃原材，其中，所述晶化玻璃原材经过核化和晶
化处理后具有平均粒径为5
‑
50nm晶体。10.根据权利要求1
‑
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【专利技术属性】
技术研发人员：程珵，
申请(专利权)人：程珵，
类型：发明
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