一种多锥增速型阻垢器制造技术

本实用新型专利技术公开了一种新型多锥增速型阻垢器，包括入水盖、出水盖、流管和多锥增速器，所述多锥增速器包括扰流器和增速扰流架，所述扰流器和增速扰流架分别与流管相连；所述扰流器包括多个增速扰流孔，增速扰流孔的入口大于的出口；所述入水盖和出水盖安装在流管的两端，增速扰流架安装在扰流器上，多锥增速器上扰流器部分的的增速扰流孔，让水流从大孔进小孔出，增强流速，增加了水流的冲刷力度，流管抗变形抗压能力好，将流入阻垢器的水流通过锥体增加其水流速度，快速冲刷在铜基触媒合金材料上，产生的自由电子快速和水流中的钙镁离子耦合，防止钙镁离子与碳酸根离子结合，达到了快速消除水垢同时还可以加快入水速度的目的。速消除水垢同时还可以加快入水速度的目的。速消除水垢同时还可以加快入水速度的目的。

【技术实现步骤摘要】
一种多锥增速型阻垢器


[0001]本技术涉及阻垢领域，尤其是涉及一种多锥增速型阻垢器。

技术介绍

[0002]我们往往会在热水壶中发现一层淡黄色的沉淀物，这就是水垢。水垢的成分主要是碳酸钙和碳酸镁。在煮沸的过程中，水中的钙或镁离子和溶进水里的二氧化碳反应，变成不溶于水的碳酸钙和碳酸镁。
[0003]Ca2++CO32
‑
＝CaCO3
↓
[0004]水垢的形成和水中钙镁离子的浓度有直接的关系，钙镁离子多，烧开水的时候出现的水垢也就越多。我们通常用“硬度”来形容水中钙镁离子的多少。钙镁离子多，生成水垢多的，就是硬水，相反的就是软水。不同的地区，包括相同地区的不同水源(地表水或者地下水)的硬度不同。
[0005]根据公开号为CN213596087U的中国技术文献公开的一种热水器涡磁阻垢器，包括阻垢器主体，阻垢器主体上设有与水源连接的进水口以及与热水器连接的出水口，阻垢器主体的内腔中形成连通进水口和出水口的滤水通道。
[0006]上述对比文件中的阻垢器主体的内腔中设有磁性相同的第一强磁体和第二强磁体，滤水通道穿过第一强磁体和第二强磁体之间形成的间隔空间，当水中的离子流过磁场时做螺旋圆周运动，可以破坏离子的物理水化层和化学水化层，从而形成碳酸钙微晶体颗粒，容易被水带走，不会形成水垢，但是该方案实现成本过高、实现时间太长，阻垢过程也阻挡了水流的流速，产生的碳酸钙微晶体颗粒也会影响到后续处理，所以提出一种新型多锥增速型阻垢器。

技术实现思路

[0007]本技术的目的在于用于解决上述技术问题，提供一种新型多锥增速型阻垢器，本技术通过一种阻垢器，将流入阻垢器的水流通过锥体增加其水流速度，快速冲刷在铜基触媒合金材料上，产生的自由电子快速和水流中的钙镁离子耦合，防止钙镁离子与碳酸根离子结合，达到了快速消除水垢同时还可以加快入水速度的目的。
[0008]本技术解决上述技术问题采用的技术方案是：一种新型多锥增速型阻垢器，包括入水盖、出水盖、流管和多锥增速器，所述多锥增速器包括扰流器和增速扰流架，所述扰流器和增速扰流架分别与流管相连；所述扰流器包括多个增速扰流孔，增速扰流孔的入口大于的出口；所述入水盖和出水盖安装在流管的两端，增速扰流架安装在扰流器上，多锥增速器上扰流器部分的的增速扰流孔，让水流从大孔进小孔出，增强流速，增加了水流的冲刷力度，入水盖和出水盖用于连接管道并且保证水流的贯通，流管抗变形抗压能力好，防止水压带来的开裂和膨胀问题，增速扰流架转动进一步加强水流的扰流力度。
[0009]作为优选，所述扰流器的侧面还设有若干喷射孔，当水流通过扰流器时，一部分水流通过侧边的喷射孔，从喷射孔流出时产的反作用力，作用在扰流器上，使其快速转动。
[0010]作为优选，所述扰流器的顶部设有驱动孔，驱动孔和扰流器侧面的喷射孔相连通，驱动孔将从正面流入的水流一部分导流至喷射孔内加强扰流器转动。
[0011]作为优选，所述增速扰流架上设有连接轴，所述扰流器上设有轴孔，连接轴与轴孔连接，连接轴与轴孔结构让扰流器转动更加灵活快速，防止卡死。
[0012]作为优选，所述增速扰流架上还设有第一扇形过水口和第二扇形过水口，第二扇形过水口包围在第一扇形过水口外侧，第一扇形过水口和第二扇形过水口均呈圆周分布，第一扇形过水口和第二扇形过水口能通过不同体积的水流产生不同的力，让其外侧受力更大旋转更快同时大大减小了阻力。
[0013]作为优选，所述流管内还设有阻垢组件，所述阻垢组件包括多个阻垢芯片，阻垢芯片间隔分布在流管内部与流管连接，阻垢芯片设在增速扰流架下游，阻垢芯片采用铜基触媒合金材料制成，与水冲刷后水中的水垢形成离子结合成钙镁原子，防止其形成水垢。
[0014]作为优选，所述阻垢芯片上设有阻垢叶片，阻垢叶片相对翘起，所述阻垢叶片翘起方向朝向出水盖，阻垢叶片具有的翘起范围在45
°
～60
°
最佳，此时增速和阻垢效果最好。
[0015]作为优选，所述流管内设有连接多锥增速器的第一连接槽和连接阻垢组件的第二连接槽，第一连接槽与增速扰流架连接，第二连接槽与阻垢芯片连接，第一连接槽和第二连接槽保证了连接强度的同时，还能让扰流结构更灵活地转动。
[0016]作为优选，所述流管上设有第一螺旋部，所述入水盖和出水盖上设有第二螺旋部，第一螺旋部和第二螺旋部相连接，第一螺纹部和第二螺纹部螺纹连接稳固密封性好，减少不必要的安装方式使其安装更方便，不容易脱开。
[0017]作为优选，所述入水盖中部设有入水口，所述出水盖中部设有出水口，入水口和出水口半径较大，可令大容积水流通过，更好发挥阻垢器的作用。
[0018]本技术具有的有益效果是：
[0019]1、本技术通过一种阻垢器，将流入阻垢器的水流通过锥体增加其水流速度，快速冲刷在铜基触媒合金材料上，让水流中的钙镁离子快速结合，防止钙镁离子与碳酸根离子结合，达到了快速消除水垢同时还可以加快入水速度的目的；
[0020]2、本技术的多锥增速器上扰流器部分的的增速扰流孔，让水流从大孔进小孔出，增强流速，增加了水流的冲刷力度，入水盖和出水盖用于连接管道并且保证水流的贯通，流管抗变形抗压能力好，防止水压带来的开裂和膨胀问题，增速扰流架转动进一步加强水流的扰流力度；
[0021]3、当水流通过扰流器时，一部分水流通过侧边的喷射孔，从喷射孔流出时产的反作用力，作用在扰流器上，使其快速转动；
[0022]4、第一扇形过水口和第二扇形过水口能通过不同体积的水流产生不同的力，让其外侧受力更大旋转更快同时大大减小了阻力；
[0023]5、阻垢叶片具有的翘起范围在45
°
～60
°
最佳，此时增速和阻垢效果最好。
附图说明
[0024]图1是本技术的半透视整体结构示意图。
[0025]图2是本技术的多锥增速器结构图。
[0026]图3是本技术的扰流器的结构示意图。
[0027]图4是本技术的增速扰流架结构示意图。
[0028]图5是本技术的扰流器的另一侧结构示意图。
[0029]图6是本技术的阻垢芯片结构示意图。
[0030]图7是本技术的入水盖和流管连接示意图。
[0031]图中：1、入水盖，11、入水口，2、出水盖，21、出水口，3、流管，31、阻垢组件，311、阻垢芯片，3111、阻垢叶片，32、第一连接槽，33、第二连接槽，34、第一螺旋部，35、第二螺旋部，4、多锥增速器，41、扰流器，411、增速扰流孔，412、喷射孔，413、驱动孔，414、轴孔，42、增速扰流架，421、连接轴，422、第一扇形过水口，423、第二扇形过水口
具体实施方式
[0032]以下结合附图和实施方式对本技术作进一步的说明。
[0033]如图1
‑
7所示，本技术本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种多锥增速型阻垢器，其特征在于：包括入水盖(1)、出水盖(2)、流管(3)和多锥增速器(4)，所述多锥增速器(4)包括扰流器(41)和增速扰流架(42)，所述扰流器(41)和增速扰流架(42)分别与流管(3)相连；所述扰流器(41)包括多个增速扰流孔(411)，增速扰流孔(411)的入口大于出口；所述入水盖(1)和出水盖(2)安装在流管(3)的两端，增速扰流架(42)安装在扰流器(41)上，所述流管(3)内还设有阻垢组件(31)，所述阻垢组件(31)包括多个阻垢芯片(311)，阻垢芯片(311)间隔分布在流管(3)内部与流管(3)连接，阻垢芯片(311)设在增速扰流架(42)下游。2.根据权利要求1所述的多锥增速型阻垢器，其特征在于：所述扰流器(41)的侧面还设有若干喷射孔(412)。3.根据权利要求2所述的多锥增速型阻垢器，其特征在于：所述扰流器(41)的顶部设有驱动孔(413)，驱动孔(413)和扰流器(41)侧面的喷射孔(412)相连通。4.根据权利要求1所述的多锥增速型阻垢器，其特征在于：所述增速扰流架(42)上设有连接轴(421)，所述扰流器(41)上设有轴孔(414)，连接轴(421)与轴孔(414)连接...

【专利技术属性】
技术研发人员：房江，吴望晨，
申请(专利权)人：浙江倍利低碳能源科技有限公司，
类型：新型
国别省市：