一种下行波束形成方法技术

本发明专利技术涉及一种下行波束形成方法，包括以下步骤：１．１）估计移动终端的波达方向角θ；１．２）根据波达方向角θ和频率校正因子ｆ↓［ｄ］／ｆ↓［ｕ］，计算下行发射权值ｗ↓［ｄ，ｉ］并赋形；其中公式见图。这种方法利用上行参考信号获取波达角θ信息并通过频率校正因子ｆ↓［ｄ］／ｆ↓［ｕ］消除ＦＤＤ模式下上／下行载频不一致带来的波束形成指向误差，无需码本反馈，同时能够保证下行波束主瓣的正确指向。

【技术实现步骤摘要】

【技术保护点】
一种下行波束形成方法，其特征在于，包括以下步骤：　１．１）估计移动终端的波达方向角θ；　１．２）根据波达方向角θ和频率校正因子ｆ↓［ｄ］／ｆ↓［ｕ］，计算下行发射权值ｗ↓［ｄ，ｉ］并赋形；其中，ｗ↓［ｄ，ｉ］＝ｅ↑［－ｊ　ｆ↓［ｄ］／ｆ↓［ｕ］Φ↓［ｕ，ｉ］］＝［１…ｅ↑［－ｊ　２π／λ（ｎ－１）ｄ　ｆ↓［ｄ］／ｆ↓［ｕ］ｓｉｎθ］…ｅ↑［－ｊ　２π／λ（Ｎ－１）ｄ　ｆ↓［ｄ］／ｆ↓［ｕ］ｓｉｎθ］］。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：姜静，王衍文，
申请(专利权)人：中兴通讯股份有限公司，
类型：发明
国别省市：94[中国|深圳]