苯二甲撑二异氰酸酯组合物、苯二甲撑二异氰酸酯改性物组合物、聚合性组合物、树脂、成型体、光学元件及透镜制造技术

使苯二甲撑二异氰酸酯组合物中含有苯二甲撑二异氰酸酯、和在特定的测定条件下利用气相色谱

Phenylene diisocyanate composition, phenylene diisocyanate modifier composition, polymeric composition, resin, molding, optical element and lens

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】苯二甲撑二异氰酸酯组合物、苯二甲撑二异氰酸酯改性物组合物、聚合性组合物、树脂、成型体、光学元件及透镜


[0001]本专利技术涉及苯二甲撑二异氰酸酯组合物、苯二甲撑二异氰酸酯改性物组合物、聚合性组合物、树脂、成型体、光学元件及透镜。

技术介绍

[0002]一直以来，作为可在各种产业制品中使用的聚(硫)氨酯树脂的原料，已知有苯二甲撑二异氰酸酯组合物(例如，参见专利文献1)。
[0003]现有技术文献
[0004]专利文献
[0005]专利文献1：日本特开2020
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24453号公报

技术实现思路

[0006]专利技术要解决的课题
[0007]专利文献1中记载的这样的苯二甲撑二异氰酸酯组合物存在下述情况：除了包含苯二甲撑二异氰酸酯外，还包含苯二甲撑二异氰酸酯以外的化合物。
[0008]然而，根据目的及用途，对树脂要求优异的耐黄变性及透明性。但是，苯二甲撑二异氰酸酯组合物含有特定的化合物时，由该苯二甲撑二异氰酸酯组合物制造的树脂的耐黄变性及透明性有可能显著地下降。
[0009]因此，本专利技术提供能够稳定地制造耐黄变性及透明性优异的树脂的苯二甲撑二异氰酸酯组合物、苯二甲撑二异氰酸酯改性物组合物、聚合性组合物、树脂、成型体、光学元件及透镜。
[0010]用于解决课题的手段
[0011]本专利技术[1]包含苯二甲撑二异氰酸酯组合物，其包含：苯二甲撑二异氰酸酯；和化合物，其是在以下的测定条件下利用气相色谱
‑
质谱对上述苯二甲撑二异氰酸酯组合物进行测定时保留时间为14.0分钟～14.6分钟的化合物，
[0012]上述化合物的含有比例为2000ppm以下。
[0013](气相色谱
‑
质谱的测定条件)
[0014]柱：HP19091L
‑
433HP
‑
50+(内径0.25mm
×
长度30m、膜0.25μm)、
[0015]柱箱温度：于50℃保持1分钟，从50℃以10.0℃/min升温至280℃，到达280℃后保持6分钟，
[0016]载气：He 1.0ml/min恒流模式、
[0017]进样方法：脉冲不分流法(0.5min时150kPa)、
[0018]进样量：1.0μL、
[0019]样品浓度：1.0质量％二氯甲烷溶液
[0020]进样温度：200℃、
[0021]接口温度：280℃、
[0022]四极杆温度：150℃、
[0023]离子源温度：230℃、
[0024]检测方法：Scan法(m/z：10～500)。
[0025]本专利技术[2]包含上述[1]的苯二甲撑二异氰酸酯组合物，其中，上述化合物的含有比例超过100ppm。
[0026]本专利技术[3]包含上述[1]的苯二甲撑二异氰酸酯组合物，其中，上述化合物的含有比例为10ppm以上。
[0027]本专利技术[4]包含上述[1]～[3]中任一项所述的苯二甲撑二异氰酸酯组合物，其中，上述化合物的分子量为161。
[0028]本专利技术[5]包含上述[1]～[4]中任一项所述的苯二甲撑二异氰酸酯组合物，其中，上述化合物由下述通式(1)表示。
[0029][化学式1][0030]化学式1
[0031][0032](通式(1)中，R1表示氢原子、甲基或乙基。R2表示氢原子、甲基、乙基或甲酰基。m表示0以上2以下的整数。)
[0033]本专利技术[6]包含上述[5]的苯二甲撑二异氰酸酯组合物，其中，上述化合物包含由下述化学式(2)表示的含有甲酰基的异氰酸酯、及/或由下述化学式(3)表示的含有乙基的异氰酸酯。
[0034][化学式2][0035]化学式2
[0036][0037][化学式3][0038]化学式3
[0039][0040]本专利技术[7]包含苯二甲撑二异氰酸酯组合物，其包含苯二甲撑二异氰酸酯、和由下述通式(1)表示且分子量为161的化合物，上述化合物的含有比例为2000ppm以下。
[0041][化学式1][0042]化学式1
[0043][0044](通式(1)中，R1表示氢原子、甲基或乙基。R2表示氢原子、甲基、乙基或甲酰基。m表示0以上2以下的整数。)
[0045]本专利技术[8]包含上述[7]的苯二甲撑二异氰酸酯组合物，其中，上述化合物的含有比例超过100ppm。
[0046]本专利技术[9]包含上述[7]的苯二甲撑二异氰酸酯组合物，其中，上述化合物的含有比例为10ppm以上。
[0047]本专利技术[10]包含上述[7]～[9]中任一项所述的苯二甲撑二异氰酸酯组合物，其中，上述化合物包含由下述化学式(2)表示的含有甲酰基的异氰酸酯、及/或由下述化学式(3)表示的含有乙基的异氰酸酯。
[0048][化学式2][0049]化学式2
[0050][0051][化学式3][0052]化学式3
[0053][0054]本专利技术[11]包含上述[1]～[10]中任一项所述的苯二甲撑二异氰酸酯组合物，其还包含氯甲基苄基异氰酸酯，上述氯甲基苄基异氰酸酯的含有比例为0.2ppm以上3000ppm以下。
[0055]本专利技术[12]包含苯二甲撑二异氰酸酯改性物组合物，其为上述[1]～[11]中任一项所述的苯二甲撑二异氰酸酯组合物被改性而得的改性物组合物，所述苯二甲撑二异氰酸酯改性物组合物含有至少一种下述(a)～(i)的官能团。
[0056](a)异氰脲酸酯基、
[0057](b)脲基甲酸酯基、
[0058](c)缩二脲基、
[0059](d)氨基甲酸酯基、
[0060](e)脲基、
[0061](f)亚氨基噁二嗪二酮基、
[0062](g)脲二酮基、
[0063](h)脲酮亚胺基、
[0064](i)碳二亚胺基。
[0065]本专利技术[13]包含聚合性组合物，所述聚合性组合物包含：异氰酸酯成分，其含有上述[1]～[11]中任一项所述的苯二甲撑二异氰酸酯组合物、及/或上述[12]的苯二甲撑二异氰酸酯改性物组合物；和，含有活性氢基团的成分。
[0066]本专利技术[14]包含树脂，其为上述[13]的聚合性组合物的固化物。
[0067]本专利技术[15]包含成型体，其包含上述[14]的树脂。
[0068]本专利技术[16]包含光学元件，其包含上述[15]的成型体。
[0069]本专利技术[17]包含透镜，其包含上述[16]的光学元件。
[0070]专利技术的效果
[0071]本专利技术的苯二甲撑二异氰酸酯组合物包含苯二甲撑二异氰酸酯和上述的化合物，上述的化合物的含有比例为上述上限以下。因此，由上述的苯二甲撑二异氰酸酯组合物制造的树脂的耐黄变性及透明性优异。
[0072]本专利技术的苯二甲撑二异氰酸酯改性物组合物是上述的苯二甲撑二异氰酸酯组本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】1.苯二甲撑二异氰酸酯组合物，其包含：苯二甲撑二异氰酸酯；和化合物，其是在以下的测定条件下利用气相色谱
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质谱对所述苯二甲撑二异氰酸酯组合物进行测定时保留时间为14.0分钟～14.6分钟的化合物，所述化合物的含有比例为2000ppm以下，(气相色谱
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质谱的测定条件)柱：HP19091L
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433HP
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50+(内径0.25mm
×
长度30m，膜0.25μm)、柱箱温度：于50℃保持1分钟，从50℃以10.0℃/min升温至280℃，到达280℃后保持6分钟，载气：He 1.0ml/min恒流模式、进样方法：脉冲不分流法(0.5min时150kPa)、进样量：1.0μL、样品浓度：1.0质量％二氯甲烷溶液进样温度：200℃、接口温度：280℃、四极杆温度：150℃、离子源温度：230℃、检测方法：Scan法(m/z：10～500)。2.如权利要求1所述的苯二甲撑二异氰酸酯组合物，其中，所述化合物的含有比例超过100ppm。3.如权利要求1所述的苯二甲撑二异氰酸酯组合物，其中，所述化合物的含有比例为10ppm以上。4.如权利要求1～3中任一项所述的苯二甲撑二异氰酸酯组合物，其中，所述化合物的分子量为161。5.如权利要求1～4中任一项所述的苯二甲撑二异氰酸酯组合物，其中，所述化合物由下述通式(1)表示，[化学式1]化学式1通式(1)中，R1表示氢原子、甲基或乙基；R2表示氢原子、甲基、乙基或甲酰基；m表示0以上2以下的整数。6.如权利要求5所述的苯二甲撑二异氰酸酯组合物，其中，所述化合物包含由下述化学式(2)表示的含有甲酰基的异氰酸酯、及/或由下述化学式(3)表示的含有乙基的异氰酸酯，[化学式2]化学式2
[化学式3]化学式37.苯二甲撑二异...

【专利技术属性】
技术研发人员：川口胜，
申请(专利权)人：三井化学株式会社，
类型：发明
国别省市：