光学单元及膜厚测量装置制造方法及图纸

本发明专利技术的光学单元(13)具备：输入部(21)，其输入自紫外区域遍及可视区域的波长的测量光(L1)；光学系统(22)，其以产生色像差的状态将测量光(L1)聚光；及开口部(31)，其中，产生了色像差的测量光(L1)中的、可视区域的波长的光(La)不成像，而紫外区域的波长的光(Lb)成像。而紫外区域的波长的光(Lb)成像。而紫外区域的波长的光(Lb)成像。

Optical unit and film thickness measuring device

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】光学单元及膜厚测量装置


[0001]本专利技术涉及一种光学单元及膜厚测量装置。

技术介绍

[0002]近年来，相较于现有的二维内存，可以实现高密度的储存的器件受到关注。高密度储存器件通过将数据存储单元的层垂直层叠而构成。各数据存储单元为例如在硅基板上重复层叠氧化硅膜与氮化硅膜的多层膜构造，且氧化硅膜及氮化硅膜的1对形成1个数据存储单元。由于该器件的内存容量与氧化硅膜及氮化硅膜的对数成正比，因此器件的多层化及薄膜化正在进展。膜厚的不均匀性影响器件的电气特性。成膜率的不均匀性导致因清洁的增加而造成的生产性的降低。因此，制造器件时的膜厚的质量管理或成膜的工艺控制的重要性逐渐增强。
[0003]考虑到对产线膜厚监视器的应用的情况，可举出利用分光的膜厚测量方法(分光法)。在使用分光法的情况下，由于对成膜装置组装测定头较为简便，且实施方式上的限制也较小，因此相较于截面观察技术，对产线膜厚监视器的应用更容易。例如专利文献1所记载的膜厚测量装置中，使用第1波长范围中的测量对象物的每个波长的实测反射率与理论反射率的比较结果求得膜厚的最优解的候补，且使用与本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】1.一种光学单元，其中，具备：输入部，其输入自紫外区域遍及可视区域的波长的光；光学系统，其以产生色像差的状态将所述光聚光；以及开口部，其中，产生了所述色像差的所述光中的、可视区域的波长的光不成像，而紫外区域的波长的光成像。2.根据权利要求1所述的光学单元，其中，所述光学系统还具备：扩散板，其配置于所述光的光轴上。3.根据权利要求2所述的光学单元，其中，所述扩散板配置于所述光学系统与所述开口部之间的所述光的光轴上。4.根据权利要求1至3中任一项所述的光学单元，其中，所述光学系统包含透镜及抛物面镜而构成。5.根据权利要求1至3中任一项所述的光学单元，其中，所述光学系统包含平行平面板或楔形棱镜、及抛物面镜而构成。6.根据权利要求1至5中任一项所述的光学单元，其中，所述开口部为对光纤的输入端。7.根据权利要求1至5中任一项所述的光学...

【专利技术属性】
技术研发人员：荒田育男，泷本觉司，大塚贤一，
申请(专利权)人：浜松光子学株式会社，
类型：发明
国别省市：