本实用新型专利技术公开了一种用于磁控溅射区域的降温装置，包括外壳与内壳，内壳的内部设有磁控溅射镀膜腔，外壳与内壳之间设有降温腔，降温腔的内部且位于内壳的外侧呈螺旋状缠绕有冷却管，冷却管的内部设有冷却水，冷却管的两端延伸至外部并进行相连，冷却管上固定安装有水泵，外壳的一侧固定连接有支架，所述支架上固定安装有正对U型端扇风的第一风扇，本实用新型专利技术通过降温腔及冷却管的设置，可通过水冷来降低内壳(真空腔体)周边温度，且通过第一风扇将冷却水中的热量排出，保证了工件基板表面的正常工艺温度。的正常工艺温度。的正常工艺温度。
【技术实现步骤摘要】
一种用于磁控溅射区域的降温装置
[0001]本技术涉及磁控溅射镀膜
，具体为一种用于磁控溅射区域的降温装置。
技术介绍
[0002]磁控溅射镀膜是一种常用的镀膜技术，在靶材的内部设置有磁铁阵列，形成磁场，高电压施加到靶材上，从而产生等离子体，并沿着磁场集中，等离子体由原子、带正电荷的离子和自由电子组成，电子撞击原子，从而不断产生带正电荷的离子、溅射靶材是带负电荷的，因此离子被吸引飞向靶材表面，离子撞击靶材，从把靶材表面弹射出原子(靶材上的原子)，这些弹射出的原子一层层的溅射到对面的工件基板上，实现溅射的目的，由于工件基板到靶材的距离较小，所以工件基板表面温度会比较高，导致成膜受到影响，因此我们提出了一种用于磁控溅射区域的降温装置。
技术实现思路
[0003]本技术的目的在于提供一种用于磁控溅射区域的降温装置，以解决上述
技术介绍
中提出的问题。
[0004]为实现上述目的，本技术提供如下技术方案：一种用于磁控溅射区域的降温装置，包括外壳与内壳，所述内壳的内部设有磁控溅射镀膜腔，所述外壳与内壳之间设有降温腔，所述降温腔的内部且位于内壳的外侧呈螺旋状缠绕有冷却管，所述冷却管的内部设有冷却水，所述冷却管的两端延伸至外部并进行相连实现冷却管内部的冷却水进行循环流动，所述冷却管上固定安装有驱动冷却水流动的水泵，所述冷却管位于外壳外部的一段呈U型状弯曲，所述外壳的一侧固定连接有支架，所述支架上固定安装有正对U型端扇风的第一风扇实现对冷却水进行降温。
[0005]优选的，所述磁控溅射镀膜腔为真空腔体，所述真空腔体的内部上侧壁上设置有放置槽，所述放置槽的内部活动安装有用于提供溅射原子材料的靶材，所述真空腔体的内部滑动连接有安装板，所述安装板的上侧面上放置有需要溅射薄膜的工件基板，所述工件基板的溅射薄膜面与靶材对立且中间留有溅射原子移动的间隙。
[0006]优选的，所述内壳的侧壁上固定连接有抽气管，所述抽气管上设有真空泵，抽气管的一端与真空腔体连通，抽气管的另一端与外部大气连通。
[0007]优选的，所述内壳的侧壁上固定连接有用于向真空腔体内注入惰性气体的注气管，所述注气管上固定安装有注气泵，且所述注气管呈多段U型状分布在降温腔的内部用于给惰性气体降温，注气管的一端与真空腔体连通，注气管的另一端与外部装有惰性气体的瓶罐连接。
[0008]优选的，所述内壳的两侧转动连接有螺杆，所述螺杆通过电机驱动旋转，电机固定安装在内壳的侧壁上，所述安装板两侧侧壁啮合套接在螺杆的侧壁上。
[0009]优选的，所述真空腔体的开口端与安装板的连接处设有用于密封的密封垫。
[0010]优选的，所述冷却管位于外壳外部的一段上套接有多个散热片，相邻散热片之间留有一定的散热间隔，当冷却管内部的冷却水流经散热片处时，冷却水内的热量被传递至散热片上实现降温的作用。
[0011]优选的，所述降温腔内部两侧固定连接有通风筒，所述通风筒内部固定安装有第二风扇，使降温腔内部的气体进行循环流动，这样可使降温腔内部的温度均匀，从而能够提高真空腔体的降温效果。
[0012]与现有技术相比，本技术的有益效果是：本技术通过降温腔及冷却管的设置，可通过水冷来降低内壳(真空腔体)周边温度，且通过第一风扇将冷却水中的热量排出，保证了工件基板表面的正常工艺温度；并且惰性气体进入真空腔体的内部时，惰性气体先在注气管的内部冷却，这样惰性气体进入真空腔体的内部后，也会对真空腔体的温度进行降低，进一步提高磁控溅射镀膜的效率。
附图说明
[0013]图1为本技术的整体结构示意图I；
[0014]图2为本技术的整体结构示意图II；
[0015]图3为本技术的整体结构示意图III；
[0016]图4为本技术的外壳、真空腔体、放置槽与安装板处的结构示意图；
[0017]图5为本技术的外壳、内壳、降温腔与冷却管处的剖视图；
[0018]图6为本技术的外壳、内壳、降温腔、抽气管与注气管处的剖视图；
[0019]图7为本技术的外壳、内壳、降温腔、真空腔体与安装板处的剖视图；
[0020]图8为本技术的冷却管、水泵与散热片处的结构示意图。
[0021]图中：1、外壳，2、内壳，201、真空腔体，202、放置槽，203、靶材，204、安装板，205、工件基板，3、降温腔，4、冷却管，401、水泵，5、支架，6、第一风扇，7、抽气管，8、真空泵，9、注气管，10、注气泵，11、弹簧，12、顶板，13、螺杆，14、电机，15、密封垫，16、散热片，17、通风筒，18、第二风扇。
具体实施方式
[0022]下面将结合本技术实施例中的附图，对本技术实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本技术一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本技术中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本技术保护的范围。
[0023]请参阅图1
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8，本技术提供一种技术方案：一种用于磁控溅射区域的降温装置，包括外壳1与内壳2，所述内壳2的内部设有磁控溅射镀膜腔，所述外壳1与内壳2之间设有降温腔3，所述降温腔3的内部且位于内壳2的外侧呈螺旋状缠绕有冷却管4，所述冷却管4的内部设有冷却水，所述冷却管4 的两端延伸至外部并进行相连实现冷却管4内部的冷却水进行循环流动，磁控溅射镀膜工艺中，会产生热量，冷却水循环流动能够带走降温腔3内部的热量，使内壳2处于始终处于低温环境，致使对内壳2内部的磁控溅射镀膜腔进行降温，冷却管4优选采用导热效率高的铝管，这样可使降温腔3内部的热量快速传递至冷却管4的冷却水中，所述冷却管4上固定安装有驱动冷却水流动的水泵401，所述冷却管4位于外壳1
外部的一段呈U型状弯曲，所述外壳1的一侧固定连接有支架5，所述支架5上固定安装有正对U型端扇风的第一风扇6 实现对冷却水进行降温。
[0024]如图3
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4所示，为了能够对靶材203与工件基板205进行更换后，以便连续进行磁控溅射镀膜作业，具体而言，所述磁控溅射镀膜腔为真空腔体201，所述真空腔体201的内部上侧壁上设置有放置槽202，所述放置槽202的内部活动安装有用于提供溅射原子材料的靶材203，在靶材203的内部设置有磁铁阵列，形成磁场，所述真空腔体201的内部滑动连接有安装板204，所述安装板204的上侧面上放置有需要溅射薄膜的工件基板205，安装板204的上侧壁面设有放置工件基板205的凹槽，且凹槽的一侧通过弹簧11滑动连接有顶板 12，通过弹簧11的弹力，致使顶板12顶着工件基板205的一侧，使工件基板 205固定在安装板204上，所述工件基板205的溅射薄膜面与靶材203对立且中间留有溅射原子移动的间隙。
[0025]磁控镀膜的工艺流程为：以钼材质的靶材203、惰性气体采用氩气为例(被用来在显示器或者薄膜太阳的本文档来自技高网...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.一种用于磁控溅射区域的降温装置，包括外壳(1)与内壳(2)，所述内壳(2)的内部设有磁控溅射镀膜腔，其特征在于：所述外壳(1)与内壳(2)之间设有降温腔(3)，所述降温腔(3)的内部且位于内壳(2)的外侧呈螺旋状缠绕有冷却管(4)，所述冷却管(4)的内部设有冷却水，所述冷却管(4)的两端延伸至外部并进行相连，所述冷却管(4)上固定安装有水泵(401)，所述冷却管(4)位于外壳(1)外部的一段呈U型状弯曲，所述外壳(1)的一侧固定连接有支架(5)，所述支架(5)上固定安装有正对U型端扇风的第一风扇(6)。2.根据权利要求1所述的一种用于磁控溅射区域的降温装置，其特征在于：所述磁控溅射镀膜腔为真空腔体(201)，所述真空腔体(201)的内部上侧壁上设置有放置槽(202)，所述放置槽(202)的内部活动安装有靶材(203)，所述真空腔体(201)的内部滑动连接有安装板(204)，所述安装板(204)的上侧面上放置有工件基板(205)，所述工件基板(205)的溅射薄膜面与靶材(203)对立且中间留有溅射原子移动的间隙。3.根据权利要求2所述的一种用于磁控溅射区域的降温装置，其特征在于：所述内壳(2)的侧壁上固定连接有...
【专利技术属性】
技术研发人员：王云锋，
申请(专利权)人：兰州交通大学，
类型：新型
国别省市：
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