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一种用于调控分子发光的等离激元结构及制备方法技术

技术编号:34173835 阅读:22 留言:0更新日期:2022-07-17 11:25
本发明专利技术公开了一种用于调控分子发光的等离激元结构,包括光学衬底和主发光层,主发光层设置于光学衬底之上,主发光层中组装有发光分子,主发光层包括间隔层和金属纳米粒子,金属纳米粒子排布于间隔层之上,本发明专利技术还公开了上述结构的制备方法。本发明专利技术通过上述结构的设置可实现增强发光分子的发光强度,调控发光分子的发光位置。子的发光位置。子的发光位置。

An plasmon structure for regulating molecular luminescence and its preparation method

【技术实现步骤摘要】
一种用于调控分子发光的等离激元结构及制备方法


[0001]本专利技术涉及光致发光的
,尤其涉及一种用于调控分子发光的等离激元结构及其制备方法。

技术介绍

[0002]光致发光通常包括荧光和磷光,通常,当分子或物体受到光源照射时,分子通过吸收光子能获得能量,而物质处于高能态时不稳定,物质会很快较高能级的激发态后返回基态,返回基态过程中,如果是以释放光子的形式,则称之为光致发光。而根据延迟时间的不同,光致发光可以分为荧光和磷光。紫外辐射、可见光及红外辐射均可引起光致发光。
[0003]由于单个系统中的荧光和磷光通常覆盖具有相当大能量差异的单个光谱区域,因此单线态

三线态发射强度的调节引起了对光发射、光电、光子频率等领域中的重大关注。然而缺乏一种简单方便的方法直接调控荧光和磷光的发射强度与发射峰位置。局域表面等离激元由于其强大的特性,已被广泛的应用于表面增强拉曼(SERS)、表面增强荧光、表面增强磷光等领域。然而,如何利用局域表面等离激元,调控分子光谱的强度,尤其是改变发光分子的谱峰位置,一直存在着结构设计的困难。因本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种用于调控分子发光的等离激元结构,其特征在于:包括光学衬底和主发光层,所述主发光层设置于光学衬底之上,所述主发光层中组装有发光分子,所述主发光层包括间隔层和金属纳米粒子,所述金属纳米粒子排布于间隔层之上。2.根据权利要求1所述的用于调控分子发光的等离激元结构,其特征在于,所述发光分子组装于金属纳米粒子上。3.根据权利要求1所述的用于调控分子发光的等离激元结构,其特征在于,所述发光分子组装于间隔层之中。4.根据权利要求3所述的用于调控分子发光的等离激元结构,其特征在于,所述间隔层设置为多层结构,所述发光分子以层状分布于所述间隔层中。5.根据权利要求1所述的用于调控分子发光的等离激元结构,其特征在于,所述金属纳米粒子设置为金属纳米粒子层或阵列。6.根据权利要求1所述的用于调控分子发光的等离激元结构,其特征在于,所述金属纳米粒子表面还包覆有绝缘壳层。7.根据权利要求1所述的用于调控分子发光的等离激元结构,其特征在于,所述金属纳米粒子设置为贵金属纳米粒子,所述金属纳米粒子的粒径设置为10nm
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【专利技术属性】
技术研发人员:李剑锋彭微
申请(专利权)人:厦门大学
类型:发明
国别省市:

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