聚集诱导发光材料及其制备方法与应用技术

本申请涉及材料合成技术领域，尤其涉及一种聚集诱导发光材料及其制备方法与应用，本申请提供的聚集诱导发光材料包括采用化学键连接的代谢基团和聚集诱导发光基团，其中，所述代谢基团包括含有第一不饱和键的D

Aggregation induced luminescent materials and their preparation methods and Applications

【技术实现步骤摘要】
聚集诱导发光材料及其制备方法与应用


[0001]本申请属于材料合成
，尤其涉及一种聚集诱导发光材料及其制备方法与应用。

技术介绍

[0002]青霉素被发现以前，因感染致病菌致死的人群不计其数。1928年，英国科学家Fleming在实验研究中最早发现青霉素，1943年青霉素实现量产，为感染性疾病的治疗带来了曙光。随着链霉素、万古霉素等更多种类抗生素被发现和量产，抗生素滥用现象日益严重，临床长期、广泛和超量的抗生素滥用导致了耐药细菌株及多重耐药细菌株(“超级细菌”)的出现。据统计，多重耐药菌株的医院院内感染率高达8％。发生院内耐药菌感染的多为抵抗力较弱人群，而重症加强护理病房(ICU)多重耐药菌株感染是患者的最大死亡威胁。此类人群一旦感染耐药细菌，治疗预后不容乐观。多重耐药菌株的出现对传统抗生素治疗方法带来了巨大挑战，亟需开发一种不易诱发细菌多药耐药的光广谱抗菌药物或制剂，用于临床致病菌(尤其是多重耐药菌)的杀伤与细菌感染治疗。

技术实现思路

[0003]本申请的目的在于提供一种聚集诱导发光材料及其制备方法与应用，旨在解决现有本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种聚集诱导发光材料，其特征在于，所述聚集诱导发光材料包括采用化学键连接的代谢基团和聚集诱导发光基团，其中，所述代谢基团包括含有第一不饱和键的D
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丙氨酸衍生物，所述聚集诱导发光基团包括含有第二不饱和键的4
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(2
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(4
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二苯甲胺苯基乙烯)吡啶溴盐衍生物。2.根据权利要求1所述的聚集诱导发光材料，其特征在于，所述第一不饱和键包括含氮原子的不饱和键；和/或，所述第二不饱和键包括含碳原子的不饱和键。3.根据权利要求1所述的聚集诱导发光材料，其特征在于，所述含有第一不饱和键的D
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丙氨酸衍生物包括叠氮、四嗪、巯基、炔烃、反式环辛烯或烯烃修饰的D
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丙氨酸中的任意一种；和/或，所述含有第二不饱和键的4
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(2
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(4
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二苯甲胺苯基乙烯)吡啶溴盐衍生物包括炔烃、反式环辛烯、烯烃、叠氮、四嗪或巯基修饰的4
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(2
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(4
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二苯甲胺苯基乙烯)吡啶溴盐中的任意一种。4.根据权利要求1所述的聚集诱导发光材料，其特征在于，所述聚集诱导发光材料中，所述代谢基团为3
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四嗪
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D
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丙氨酸，所述聚集诱导发光基团为1
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反式环辛烯
‑4‑
(2
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(4
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二苯甲胺苯基乙烯)吡啶溴盐。5.根据权利要求4所述的聚集诱导发光材料，其特征在于，所述聚集诱导发光材料的激发光波长为250～500nm；特征性荧光发射光谱为500～900nm。6.一种权利...

【专利技术属性】
技术研发人员：廖明凤，戴桂琴，赵鹏飞，张政，郑明彬，刘东京，
申请(专利权)人：深圳国家感染性疾病临床医学研究中心，
类型：发明
国别省市：