用于光学信号处理的器件和系统及制造半导体器件的方法技术方案

本发明专利技术提供一种用于光学信号处理的器件和系统及制造半导体器件的方法。用于光学信号处理的器件包括第一层、第二层和波导层。透镜设置在第一层内且相邻于第一层的表面。第二层位于第一层下方且相邻于第一层的另一表面。波导层位于第二层下方，并配置成波导在波导层中传输的光束。光栅耦合器设置在波导层之上。透镜配置成从光栅耦合器或光引导器件中的一者接收光束，并将光束聚焦到光引导器件或光栅耦合器中的另一者。合器中的另一者。合器中的另一者。

Devices and systems for optical signal processing and methods of manufacturing semiconductor devices

【技术实现步骤摘要】
用于光学信号处理的器件和系统及制造半导体器件的方法


[0001]本专利技术的实施例涉及一种用于光学信号处理的器件和系统及制造半导体器件的方法。

技术介绍

[0002]硅光子学(silicon photonics)是一种使能技术(enabling technology)，可提供具有低成本大规模制造能力的集成光子器件和系统。由于硅光子学不仅可应用在通信领域中，也可应用在传感领域中而引起关注。硅光子学的高集成密度带来的其中一个议题在于硅光子学的高效能集成波导器件与光纤或自由空间光学器件之间的介面。

技术实现思路

[0003]本专利技术实施例的一种用于光学信号处理的器件，其包括第一层、第二层和波导层。透镜设置在所述第一层内且相邻于所述第一层的表面。第二层位于所述第一层下方且相邻于所述第一层的另一表面。波导层，位于所述第二层下方，并配置成波导在所述波导层中传输的光束。光栅耦合器设置在所述波导层之上。所述透镜配置成从所述光栅耦合器或光引导器件中的一者接收所述光束，并将所述光束聚焦到所述光引导器件或所述光栅耦合器中的另一者。
[000本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种用于光学信号处理的器件，包括：第一层，透镜设置在所述第一层内且相邻于所述第一层的表面；第二层，位于所述第一层下方且相邻于所述第一层的另一表面；以及波导层，位于所述第二层下方，并配置成波导在所述波导层中传输的光束，光栅耦合器设置在所述波导层之上，其中所述透镜配置成从所述光栅耦合器或光引导器件中的一者接收所述光束，并将所述光束聚焦到所述光引导器件或所述光栅耦合器中的另一者。2.根据权利要求1所述的用于光学信号处理的器件，其中所述透镜的曲率半径小于所述透镜至所述光栅耦合器的距离。3.根据权利要求1所述的用于光学信号处理的器件，其中所述光引导器件包括将所述光束耦合至所述透镜的光纤。4.根据权利要求1所述的用于光学信号处理的器件，其中所述透镜包括硅芯和沉积在所述硅芯之上的多个层，其中所述多个层包括至少一具有折射率低于硅的折射率的第三层。5.一种用于光学信号处理的系统，所述系统包括：第一光纤，配置成使用光束传输一个或多个光学信号；以及光子管芯，配置成处理所述一个或多个光学信号，所述光子管芯包括：第一层，由对所述光束透明的材料形成；第一透镜，形成于所述第一层内且相邻于所述第一层的顶面，所述第一透镜与所述第一光纤相关联；第二层，位于所述第一层下方，所述第二层由对所述光束透明的材料形成；波导层，位于所述第二层下方，且配置成波导所述光束；以及第一光栅耦合器，与所述第一透镜相关联且形成在所述波导...

【专利技术属性】
技术研发人员：郭丰维，夏兴国，周淳朴，
申请(专利权)人：台湾积体电路制造股份有限公司，
类型：发明
国别省市：