【技术实现步骤摘要】
一种密闭反应容器的测量辅助装置
[0001]本技术涉及结晶设备领域,具体涉及一种密闭反应容器测量温度、密度或液位的辅助装置。
技术介绍
[0002]化工生产中,很多密闭反应容器(结晶器、解析塔等)内部容易结盐,而结盐会影响测量仪器(热电阻、双法兰差压变送器)的测量精度,进而影响密闭反应容器的生产。以真空结晶器为例:
[0003]真空结晶工艺中,需要通过自控系统控制真空结晶器内的温度、液位,对测量仪器的精度要求很高。实际生产时,热电阻和双法兰差压变送器被法兰固定在真空结晶器侧壁,测量元件与晶浆溶液直接接触,一段时间后,晶浆溶液析出的盐垢会附着在仪器表面,导致测量出现误差。测量误差会影响结晶器参数的调控,影响结晶品质,产生杂晶,甚至导致自控系统无法运行。现场调研的结果显示,真空结晶器内壁和仪器表面平均结盐速度为10mm/月,最厚处可达30mm/月。若不及时清理结盐,随设备使用时间增长,测量误差会逐渐增大。
[0004]密闭反应容器结盐不易清理,想要对测量仪器进行更换或维修,只能排空结晶器内的所有物料,注水冲洗,操 ...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.一种密闭反应容器的测量辅助装置,其特征在于,包括引流柱(1),所述引流柱(1)是由外壳(2)围成的空腔,呈沿上下方向延伸的柱状结构,上部侧方分别形成有上接口(31)和第一测量口(41)、下部侧方形成有下接口(32)和第二测量口(42)、顶部开设有第一冲洗口(51),底部开设有排放口(52),其中,上接口(31)和下接口(32)开口方向相同;所述上接口(31)设置有第一阀(312),所述上接口(31)通过第一法兰(311)与密闭反应容器固定连接;所述下接口(32)设置有第二阀(322),所述下接口(32)通过第二法兰(321)与密闭反应容器固定连接;所述第一测量口(41)设置有第三阀(511),所述第一测量口(41)通过第三法兰(411)连接双法兰差压变送器的一端;所述第二测量口(42)设置有第四阀(521),所述第二测量口(42)通过第四法兰(421)连接双法兰差压变送器的另一端。2.根据权利要求1所述的密闭反应容器的测量辅助装置,其特征在于,所述第一测量口(41)与所述上接口(31)平齐,所述第二测量口(42)与下接口(3...
【专利技术属性】
技术研发人员:李兴海,郭映福,刘青青,陆逞赢,马亮,李守平,
申请(专利权)人:青海盐湖工业股份有限公司,
类型:新型
国别省市:
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