掩模板检测系统及紫外线照射设备技术方案

技术编号:34116555 阅读:46 留言:0更新日期:2022-07-12 02:51
本实用新型专利技术提供了一种掩模板检测系统及紫外线照射设备。所述掩模板检测系统包承载装置、图像收集装置、分析处理装置以及控制装置。所述图像收集装置用于采集掩模板的即时图像信息。所述分析处理装置与所述图形收集装置连接,所述分析处理装置用于分析判断所述掩模板是否合格,并发出控制信号。所述控制装置与所述分析处理装置连接,并根据所述分析处理装置所发出的控制信号控制设备的运行。所发出的控制信号控制设备的运行。所发出的控制信号控制设备的运行。

【技术实现步骤摘要】
掩模板检测系统及紫外线照射设备


[0001]本技术涉及光刻
,特别是一种掩模板检测系统及紫外线照射设备。

技术介绍

[0002]OLED(Organic Light Emitting Diode,有机电致显示)显示屏制作中,刚性封装工艺中使用涂布机将Dam胶涂布在Cover Glass(玻璃盖板)或CF(Color Filter,彩色滤光片)上,并与TFT(Thin Film Transistor,薄膜晶体管)基板贴合后对Dam胶进行紫外光(UV)及烘烤固化,以起到封装效果。
[0003]Dam胶在UV设备内进行UV照射固化制程时,需要使用掩模板将显示区进行遮挡(防止UV光对显示区内的面板造成影响),只对Dam胶涂布位置进行照射,完成Dam胶的UV固化。掩模板在使用中容易产生磨损,而磨损会导致AA区发生漏光问题,从而使UV光照射到面板的AA区,进而促使产品良率大大降低。
[0004]现有的监控管理为掩模板上机后进行人员目视检查,并增加生产过程停机检查点检的方式。若在连续生产过程发生掩模板破损异常,工作人员则不能及时发现破损,会对后续面板的生产造成不良。

技术实现思路

[0005]本技术的目的是提供一种掩模板检测系统及紫外线照射设备,以解决现有技术中工作人员无法及时发现掩模板破损而造成的面板生产良率降低等问题。
[0006]为实现上述目的,本技术提供一种掩模板检测系统,所述掩模板检测系统包承载装置、图像收集装置、分析处理装置以及控制装置。所述承载装置用于承载掩模板。所述图像收集装置设于所述承载装置的周围,所述图像收集装置用于采集所述掩模板的即时图像信息。所述分析处理装置与所述图形收集装置连接,所述分析处理装置用于分析判断所述掩模板是否合格,并发出控制信号。所述控制装置与所述分析处理装置连接,并根据所述分析处理装置所发出的控制信号控制设备的运行。
[0007]进一步地,所述分析处理装置中包括图像处理模块、存储模块和判断模块。所述图像处理模块用于处理所述图像收集装置所采集的即时图像信息。所述存储模块用于存储所述掩模板的标准图像信息。所述判断模块用于将所述分析处理装置处理后的即时图像信息与所述标准图像信息进行对比,并根据对比结果发出所述控制信号。
[0008]进一步地,所述掩模板检测系统还包括显示装置。所述显示装置与所述分析处理装置连接,所述显示装置用于显示所述分析处理装置所分析判断出的结果。
[0009]进一步地,所述的掩模板检测系统还包括报警装置。所述报警装置与所述分析处理装置连接,并根据所述分析处理装置所发出的控制信号发出警报。
[0010]进一步地,所述图像收集装置包括至少两个工业相机,分别位于所述承载装置的两侧。
[0011]进一步地,所述工业相机为CCD相机。
[0012]进一步地,所述工业相机与所述承载装置的垂直距离为20

80厘米。
[0013]本技术中还提供一种紫外线照射设备,所述紫外线照射设备包括掩模板以及如上所述的掩模板检测系统。所述掩模板设于所述掩模板检测系统的承载装置上。
[0014]进一步地,所述紫外线照射设备还包括紫外线光源。所述紫外线光源设于所述掩模板的上方。所述掩模板的图像收集装置设于所述掩模板远离所述紫外线光源的一侧。
[0015]进一步地,所述紫外线照射设备还包括面板传输装置,所述面板传输装置和所述紫外线光源均与所述掩模板检测系统的控制装置连接,所述控制装置根据控制信号控制所述面板传输装置和所述紫外线光源的运行。
[0016]本技术的优点是:本技术的一种掩模板检测系统和紫外线照射设备,能够及时检测掩模板的磨损情况。当掩模板发生破损时能够及时检测出并提醒工作人员更换,同时还能及时控制停机待产,防止破损的掩模板影响面板的生产,从而提高面板的生产良率,降低材料损耗以及生产成本。
附图说明
[0017]为了更清楚地说明本实施例中的技术方案,下面将对实施例描述中所需要使用的附图作简单地介绍,显而易见地,下面描述中的附图仅仅是本技术的一些实施例,对于本领域技术人员来讲,在不付出创造性劳动的前提下,还可以根据这些附图获得其他的附图。
[0018]图1为本技术实施例中紫外线照射设备的组成示意图;
[0019]图2为本技术实施例中掩模板检测系统的组成示意图;
[0020]图3为本技术实施例中图像收集装置的分布示意图。
[0021]图中部件表示如下:
[0022]紫外线照射设备1;
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面板传输装置10;
[0023]紫外线光源20;
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掩模板30;
[0024]掩模板检测系统40;
[0025]承载装置41;
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图像收集装置42;
[0026]工业相机421;
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分析处理装置43;
[0027]图像处理模块431;
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存储模块432;
[0028]判断模块433;
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控制装置44;
[0029]显示装置45;
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报警装置46。
具体实施方式
[0030]以下参考说明书附图介绍本技术的优选实施例,证明本技术可以实施,所述实施例可以向本领域中的技术人员完整介绍本技术,使其
技术实现思路
更加清楚和便于理解。本技术可以通过许多不同形式的实施例来得以体现,本技术的保护范围并非仅限于文中提到的实施例。
[0031]在附图中,结构相同的部件以相同数字标号表示,各处结构或功能相似的组件以相似数字标号表示。附图所示的每一部件的尺寸和厚度是任意示出的,本技术并没有限定每个组件的尺寸和厚度。为了使图示更清晰,附图中有些地方适当夸大了部件的厚度。
[0032]此外,以下各实施例的说明是参考附加的图示,用以例示本技术可用以实施的特定实施例。本技术中所提到的方向用语,例如,“上”、“下”、“前”、“后”、“左”、“右”、“内”、“外”、“侧面”等,仅是参考附加图式的方向,因此,使用的方向用语是为了更好、更清楚地说明及理解本技术,而不是指示或暗指所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作,因此不能理解为对本技术的限制。此外,术语“第一”、“第二”、“第三”等仅用于描述目的,而不能理解为指示或暗示相对重要性。
[0033]当某些部件被描述为“在”另一部件“上”时,所述部件可以直接置于所述另一部件上;也可以存在一中间部件,所述部件置于所述中间部件上,且所述中间部件置于另一部件上。当一个部件被描述为“安装至”或“连接至”另一部件时,二者可以理解为直接“安装”或“连接”,或者一个部件通过一中间部件间接“安装至”、或“连接至”另一个部件。
[本文档来自技高网
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【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种掩模板检测系统,其特征在于,包括:承载装置,用于承载掩模板;图像收集装置,设于所述承载装置的周围,所述图像收集装置用于采集所述掩模板的即时图像信息;分析处理装置,与所述图像收集装置连接,所述分析处理装置用于分析判断所述掩模板是否合格,并发出控制信号;控制装置,与所述分析处理装置连接,并根据所述分析处理装置所发出的控制信号控制设备的运行。2.如权利要求1所述的掩模板检测系统,其特征在于,所述分析处理装置中包括:图像处理模块,用于处理所述图像收集装置所采集的即时图像信息;存储模块,用于存储所述掩模板的标准图像信息;判断模块,用于将所述分析处理装置处理后的即时图像信息与所述标准图像信息进行对比,并根据对比结果发出所述控制信号。3.如权利要求1所述的掩模板检测系统,其特征在于,还包括:显示装置,与所述分析处理装置连接,所述显示装置用于显示所述分析处理装置所分析判断出的结果。4.如权利要求1所述的掩模板检测系统,其特征在于,还包括:报警装置,与所述分析处理装置连接,并根据所述分析处理...

【专利技术属性】
技术研发人员:张隆贤
申请(专利权)人:武汉华星光电半导体显示技术有限公司
类型:新型
国别省市:

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