支撑平台以及支撑系统技术方案

本申请公开了一种支撑平台和支撑系统，其中所述支撑平台包括基台和设置在所述基台上的多个喷气嘴，所述喷气嘴能够对所述基板喷射气体，以使所述基板相对所述喷气嘴悬浮；其中每一所述喷气嘴的上端面为向上凸出的平滑曲面。本申请所述支撑平台和支撑系统确保喷气嘴的功能提前下，减少基板与上端面的接触面积，从而避免划伤产品。从而避免划伤产品。从而避免划伤产品。

Support platform and support system

【技术实现步骤摘要】
支撑平台以及支撑系统


[0001]本申请涉及显示面板制造
，尤其涉及一种用于支撑显示面板的支撑平台以及支撑系统。

技术介绍

[0002]在显示面板制造过程中，经常需要对基板或显示面板进行支撑和对位。例如，OLED显示面板中的像素单元的打印制程，再例如，液晶显示面板的侧磨制程。在这个过程中，基板位置的准确性和精度要求非常高，并且直接影响着显示面板的性能和品质。
[0003]目前，一般使用气浮平台支撑待玻璃基板，气浮平台通过吹出稳定的气流将玻璃基板托举至一水平高度，从而将基板悬浮支撑，然后对基板进行调整定位。在上述悬浮支撑过程中，基板非常容易发生下沉或者倾斜，此时所述基板会与气浮平台支撑的喷气嘴接触。而在调整定位时，基板接触面与喷气嘴有接触摩擦，会划伤玻璃基板，现场多次因为浮垫导致基板划伤的不良发生。
[0004]图1为现有的喷气嘴的示意图。如图1所示，现有喷气嘴900的顶面901为平面。因而，当发生下沉或倾斜时，基板与顶面901接触面积很大。一旦喷气嘴有磨损或喷气嘴平台整体水平度不佳时，喷气嘴900的顶面901四周容易基板发生接触从而划伤玻璃。
[0005]因此，亟需提供一种支撑平台以及支撑系统，以解决上述技术问题。

技术实现思路

[0006]为了解决上述技术问题，本申请提供一种支撑平台以及支撑系统，使所述基板倾斜或下沉时仅能够与所述喷气嘴上端面进行点接触，从而能在确保喷气嘴的功能提前下，减少基板与喷气嘴上端面的接触面积，避免划伤基板。
[0007]为了实现上述目的，本申请所述支撑平台以及支撑系统采取了以下技术方案。
[0008]本申请提供一种支撑平台，包括：
[0009]基台；以及，
[0010]多个喷气嘴，设置于所述基台上，用来喷射能用于所述悬浮支撑的气体；
[0011]其中每一所述喷气嘴的上端面为向上凸出的平滑曲面。
[0012]可选地，在本申请的一些实施例中，所述喷气嘴的上端面为中心相对四周向上平滑凸起的曲面。
[0013]可选地，在本申请的一些实施例中，所述喷气嘴的上端面为球状曲面或者椭球状曲面。
[0014]可选地，在本申请的一些实施例中，所述喷气嘴的喷气孔开设在所述上端面的中心处。
[0015]可选地，在本申请的一些实施例中，所述喷气孔的轴线与竖直方向大致重合。
[0016]可选地，在本申请的一些实施例中，在每一所述喷气嘴的下端设有一安装座，所述安装座面向所述基台并被安装在所述基台上。
[0017]可选地，在本申请的一些实施例中，所述安装座朝向所述基台的表面上开设有与所述喷气孔连通的充气通道，用来向所述喷气孔充入气体。
[0018]可选地，在本申请的一些实施例中，所述充气通道和所述喷气孔共轴线布置；
[0019]并且，所述充气通道的内径大于所述喷气孔的内径。
[0020]可选地，在本申请的一些实施例中，多个所述喷气嘴在所述基台上均匀间隔排列。
[0021]可选地，在本申请的一些实施例中，在所述支撑平台上设有供气回路，所述供气回路与每一所述喷气嘴连通，用来将一外部供气装置的气体提供至所述喷气嘴。
[0022]相对应地，本申请还提供一种支撑系统，所述支撑系统包括如本申请所述的支撑平台。
[0023]与现有技术相比，本申请所述的支撑平台和支撑系统，通过将喷气嘴的上端面设置为目标形状，使悬浮基板在向下倾斜时仅能够与喷气嘴以点接触的形式接触，在保障所述喷气嘴的支撑和喷气功能的同时，能减少所述基板与所述喷气嘴两者的接触面积，从而避免划伤产品。再者，通过对所述上端面的形状进行改进和配置，既降低了对喷气嘴的上端面的水平度的要求，也不会影响喷气嘴本申请的功能。
附图说明
[0024]下面结合附图，通过对本申请的具体实施方式详细描述，将使本申请的技术方案及其它有益效果显而易见。
[0025]图1为现有喷气嘴的示意图一；
[0026]图2为本申请实施例提供的支撑平台的示意图；
[0027]图3为本申请实施例提供的喷气嘴的示意图；
[0028]图4为本申请实施例提供的喷气嘴的主视图；
[0029]图5为本申请实施例提供的喷气嘴的俯视图；
[0030]图6为本申请实施例提供的喷气嘴的仰视图；
[0031]图7为本申请实施例提供的支撑系统的示意图。
具体实施方式
[0032]下面将结合本申请实施例中的附图，对本申请实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本申请一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本申请中的实施例，本领域技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本申请保护的范围。此外，应当理解的是，此处所描述的具体实施方式仅用于说明和解释本申请，并不用于限制本申请。在本申请中，在未作相反说明的情况下，使用的方位词如“上”和“下”通常是指装置实际使用或工作状态下的上和下，具体为附图中的图面方向；而“内”和“外”则是针对装置的轮廓而言的。
[0033]下面将结合本申请实施例中的附图，对本申请实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本申请一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本申请中的实施例，本领域技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本申请保护的范围。此外，应当理解的是，此处所描述的具体实施方式仅用于说明和解释本申请，并不用于限制本申请。在本申请中，在未作相反说明的情况下，使用的方
位词如“上”和“下”通常是指装置实际使用或工作状态下的上和下，具体为附图中的图面方向；而“内”和“外”则是针对装置的轮廓而言的。
[0034]请参照图2至图6所示，其中图2为本申请实施例提供支撑平台100的平面图，图3至图6为本申请实施例提供的喷气嘴20的示意图。
[0035]如图2所示，本申请提供的一种能对基板200进行悬浮支撑的支撑平台100。所述支撑平台100包括基台10和设置在所述基台10上的多个喷气嘴20，所述喷气嘴20用于向所述基板200喷射气体，以使所述基板200相对所述喷气嘴20悬浮。
[0036]请一并参考图3至图6，所述喷气嘴20远离所述基台10的表面为一上端面201，所述上端面201被配置为一目标形状，所述目标形状使得所述上端面的不同位置可供平面进行点接触。
[0037]本申请所述支撑平台100的工作过程：将所述基板200放置在所述支撑平台100上，所述基板200由多个所述喷气嘴20共同支撑；然后，使所述喷气嘴20喷射气体在所述喷气嘴20和所述基板200之间形成支撑气膜(也可以说气浮区域)，所述支撑气膜能对基板200产生支撑作用，进而对所述基板200的悬浮支撑。
[0038]显然地，在实际使用过程中，在重力或则其他因素影响下，被悬浮支撑的所述基板200可能会向下倾斜，此时所述基板200的底面则会接触到下方的所述喷气嘴20。
[0039]而本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种支撑平台，用于悬浮支撑一基板，其特征在于，包括：基台；以及，多个喷气嘴，设置于所述基台上，用来喷射能用于所述悬浮支撑的气体；其中每一所述喷气嘴的上端面为向上凸出的平滑曲面。2.如权利要求1所述的支撑平台，其特征在于，所述喷气嘴的上端面为中心相对四周向上平滑凸起的曲面。3.如权利要求2所述的支撑平台，其特征在于，所述喷气嘴的上端面为球状曲面或者椭球状曲面。4.如权利要求1所述的支撑平台，其特征在于，所述喷气嘴的喷气孔开设在所述上端面的中心处。5.如权利要求4所述的支撑平台，其特征在于，所述喷气孔的轴线与竖直方向大致重合。6.如权利要求3所述的支撑平台，其特征在于，在每一所述喷气嘴的下端设有一安装座，所述安装座面向所述...

【专利技术属性】
技术研发人员：陈浩，
申请(专利权)人：苏州华星光电技术有限公司，
类型：新型
国别省市：