一种光触媒材料的喷涂工艺及其应用制造技术

本发明专利技术属于粉料喷涂工艺技术领域，具体涉及一种光触媒材料的喷涂工艺及其应用。该喷涂工艺，包括以下步骤：对基底进行加热处理，然后使用光触媒材料对基底进行静电粉末喷涂，静电粉末喷涂过程中的电压为1

【技术实现步骤摘要】
一种光触媒材料的喷涂工艺及其应用


[0001]本专利技术属于粉料喷涂工艺
，具体涉及一种光触媒材料的喷涂工艺及其应用。

技术介绍

[0002]目前市场上的空气净化类产品多选用紫外线、负离子、臭氧、活性炭吸附、等离子体等方式进行消毒杀菌。然而这些消毒杀菌方式在使用过程中具有诸多劣势，如紫外线法对人眼和皮肤具有不可逆的伤害性；负离子寿命短，需持续释放，净化作用有限，需风机辅助，释放臭氧、超氧等衍生物；臭氧具有强氧化性，对人体伤害较大；活性炭吸附法效率低、易饱和；等离子体方式存在产物分布及难以控制臭氧、CO释放，相对湿度和温度的难控制，成本高且操作复杂等问题。
[0003]基于石墨相氮化碳、纳米二氧化钛材料的光触媒技术应用于空气净化或杀菌，是近年来备受关注的研究方向。通过与半导体材料的复合技术制备纳米复合材料，可有效抑制光生电子和空穴复合，提高光量子效率。另外，可以实现能级带隙由高到低的转变，从而增强光催化材料在可见光波段的响应，实现在日光灯或太阳光下的消毒、杀菌、消除挥发性有机气体。
[0004]光触媒材料在使用的过程中需要进本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种光触媒材料的喷涂工艺，其特征在于，包括以下步骤：对基底进行加热处理，然后使用光触媒材料对基底进行静电粉末喷涂，所述静电粉末喷涂过程中的电压为1
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3万伏，维持1
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3万伏的时间为0.5
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5秒；所述基底为有机材料基底时，加热处理的温度为80
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120℃，所述基底为无机非金属或金属基底时，加热处理的温度为100
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200℃。2.根据权利要求1所述的喷涂工艺，其特征在于，包括以下步骤：所述基底为有机材料基底时，加热处理的温度为80
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120℃，所述基底为无机非金属或金属基底时，加热处理的温度为100
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150℃。3.根据权利要求1所述的喷涂工艺，其特征在于，所述有机材料基底选自聚苯乙烯、聚甲基丙烯酸甲酯、聚碳酸酯、苯乙烯
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丙烯酸脂共聚物、聚甲基戊烯、烯丙基二甘醇碳酸脂、聚砜、聚三环癸甲基丙烯酸脂、环烯烃聚合物或碳材料；所述金属基底选自铝、铁、铜或合金；所述无机非金属基底选自玻璃或陶瓷。4.根据权利要求1所述的喷涂工艺，其特征在于，所述光触媒材料含抗菌、抗病毒或净化空气的成分。5.根据权利要求1所述的喷涂工艺，其特征在于，所述静电粉末喷涂的过程中使用静电喷涂机进行喷涂，静电喷涂机...

【专利技术属性】
技术研发人员：陈美玲，丁文超，朱奕光，魏彬，林庆，杨子键，韦晓珊，
申请(专利权)人：佛山电器照明股份有限公司，
类型：发明
国别省市：