准位相匹配光学参量过程中的周期加场电调谐方法及其应用技术

本发明专利技术涉及到一种对光学超晶格ＬＮ、ＬＴ等材料选择性加电场的新方法及其制品，由于巧妙地利用了样品制备时的周期性电极，通过周期性外加电场调制样品的折射率，实现了ＱＰＭ光学参量过程的电光调谐，弥补了此类器件难以快速高效调谐的缺点，大大提高了器件的调谐精度及速度，有利于ＯＳＬＬＮ、ＬＴ及相关器件的实用化和市场化，并可望由此开发出更为新颖的相关器件，应用于信息储存、光通讯、信号处理、军事对抗、环境保护等诸多领域。（*该技术在2017年保护过期，可自由使用*）

【技术实现步骤摘要】

【技术保护点】
一种在准位相匹配光学参量过程中的周期加场电调谐方法，其特征是利用周期性电极通过室温极化技术制备优质光学超晶格材料，在倍频、和频、光参量发生等参量过程中利用这个电极在晶体上加上周期性电场，即单在一个畴区加电场。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：祝世宁，许祖彦，闵乃本，陆延青，骆桂蓬，徐瑶，何京良，孔羽飞，
申请(专利权)人：南京大学，
类型：发明
国别省市：32[中国|江苏]