基板输送装置和基板处理系统制造方法及图纸

提供一种输送基板的基板输送装置。基板输送装置包括：第1平面马达，其设于第1室，并具有排列着的线圈；第2平面马达，其设于与所述第1室连接的第2室，并具有排列着的线圈；一对输送单元，其在所述第1平面马达和/或所述第2平面马达上移动，并能够输送基板；以及控制部，其控制所述第1平面马达和所述第2平面马达的线圈的通电。的通电。的通电。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】基板输送装置和基板处理系统


[0001]本公开涉及基板输送装置和基板处理系统。

技术介绍

[0002]例如，公知有具备多个处理室和与处理室连接的真空输送室的基板处理系统。在真空输送室内设有用于输送基板的基板输送装置。
[0003]在专利文献1公开有具备多个处理模块和输送模块的处理站。在输送模块设有由多关节臂构成的晶圆输送机构。
[0004]此外，在专利文献2公开有使用平面马达输送基板的半导体处理设备。
[0005]现有技术文献
[0006]专利文献
[0007]专利文献1：日本特开2017
‑
168866号公报
[0008]专利文献2：日本特表2018
‑
504784号公报

技术实现思路

[0009]专利技术要解决的问题
[0010]在专利文献1所公开的处理站中，在成为真空气氛的输送模块内设有多个多关节臂，以向多个处理模块输送基板。有可能成为发尘源的马达配置于输送模块外，多关节臂的旋转轴贯穿输送模块的底面地配置，底面和旋转轴之间由磁密封件本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】1.一种基板输送装置，其中，该基板输送装置包括：第1平面马达，其设于第1室，并具有排列着的线圈；第2平面马达，其设于与所述第1室连接的第2室，并具有排列着的线圈；一对输送单元，其在所述第1平面马达和/或所述第2平面马达上移动，并能够输送基板；以及控制部，其控制所述第1平面马达和所述第2平面马达的线圈的通电。2.根据权利要求1所述的基板输送装置，其中，所述输送单元包括：基座，其具有排列着的磁体，并在所述第1平面马达和/或所述第2平面马达上磁悬浮；以及基板支承构件，其设于所述基座，用于支承基板。3.根据权利要求1或2所述的基板输送装置，其中，所述控制部在维持着一对所述输送单元的相对的位置...

【专利技术属性】
技术研发人员：波多野达夫，宫下哲也，渡边直树，铃木直行，
申请(专利权)人：东京毅力科创株式会社，
类型：发明
国别省市：