用于用修补基面涂料涂覆基底的设备和方法技术

一种用于用修补基面涂料涂覆基底的设备和方法。一种用修补基面涂料涂覆基底(110)的设备和方法，该方法包括：

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】用于用修补基面涂料涂覆基底的设备和方法
[0001]本公开涉及用于用修补基面涂料涂覆基底的设备和方法。具体地讲，本公开涉及用于净化废气的基底的涂层。

技术介绍

[0002]用于净化废气的基底典型地可包括设置有用于废气的通流的通路的整体式基底。基底可设置有涂层，该涂层可为催化涂层。涂层可作为修补基面涂料施加到基底，该修补基面涂料穿过基底的通路。用于将涂层施加到基底的各种方法是已知的。一种此类方法涉及将修补基面涂料施加到基底的第一面(例如，上面)，并且使基底的相反的第二面(例如，下面)经受至少部分真空以实现修补基面涂料通过通路的移动。涂覆后，可将基底干燥并煅烧。
[0003]基底可被构造为流通式基底，其中每个通路在基底的第一面和第二面两者处开口，并且该通路延伸穿过基底的整个长度。因此，通过基底的第一面进入通路的废气穿过同一通路内的基底，直到废气离开基底的第二面。另选地，基底可被构造为过滤器基底，其中一些通路在基底的第一面处被堵塞而其他通路在基底的第二面处被堵塞。在此类构型中，通过基底的第一面进入第一通路的废气沿基底且部分地沿该第一通路流动，并且然后穿过基底的过滤壁进入第二通路。然后废气沿该第二通路通过并离开基底的第二面。此类布置在本领域中已被称为壁流式过滤器。
[0004]经涂覆的流通式基底可以包括三元催化剂(TWC)、选择性催化还原(SCR)催化剂、柴油氧化催化剂(DOC)、稀NOx捕集催化剂(LNT)、氨逃逸催化剂(ASC)、组合的选择性催化还原催化剂和氨逃逸催化剂(SCR/ASC)以及被动NOx吸附剂(PNA)。r/>[0005]经涂覆的过滤器基底可以是例如包括氧化催化剂的催化烟灰过滤器(CSF)、包括选择性催化还原(SCR)催化剂的选择性催化还原过滤器(SCRF)、包括NOx吸附剂组合物的稀NOx捕集过滤器(lntf)、包括三元催化剂组合物的汽油微粒过滤器(GPF)或包括选择性催化还原(SCR)催化剂和氨漏失催化剂(ASC)的过滤器基底。
[0006]基底可以由陶瓷材料或金属材料制成或构成。例如，基底可以由钛酸铝、堇青石(SiO2
‑
Al2O3
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MgO)、碳化硅(SiC)、Fe
‑
Cr
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Al合金、Ni
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Cr
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Al合金或不锈钢合金制成或构成。
[0007]基底通常具有沿其纵向长度具有均匀截面形状的基底本体。通常，基底本体可以具有圆形或近圆形形状截面，但是其它截面形状是可能的，例如正方形和矩形。基底本体的上表面可以被定义为在涂覆期间定位的面，并且同样，基底本体的下表面可以定义为在涂覆期间定位的面。通常，上面和下面是平面的并且与基底本体的纵向轴线正交。
[0008]一些特殊的基底可以设置有非平面上表面和或下表面。例如，上表面可以设置有用于接收另一部件的凹槽或切口。例如，当基底结合在排放控制系统中时，排放控制系统的传感器可以在使用中定位在凹槽或切口中。在另一示例中，上表面可以在一部分或整个面上呈凹入或凸出的圆顶形。
[0009]当涂覆基底时，通常可能需要实现基本上
‘
平坦的
’
修补基面涂料轮廓，即实现修补基面涂料的基本上平坦或垂直于通路的纵向轴线的前导“前部”或“边缘”(标记基底的被
涂覆部分和未涂覆部分之间的边界界面)。
[0010]已经发现，将修补基面涂料施加到具有非平面的上表面或下表面的基底上存在特定问题。施加到上表面的修补基面涂料可以优先收集或汇集在凹槽或切口内。这可能导致难以在通过真空抽吸到基底本体中时控制精确修补基面涂料的分布，并且特别是难以实现基本上平坦的修补基面涂料轮廓。例如，当修补基面涂料随后被拉穿基底时，可以在基底中获得不均匀的，即非平坦的修补基面涂料轮廓。这可以是由于例如较大体积的修补基面涂料上覆凹槽或切口，并且因此进一步在凹槽或切口下面的区域中吸入基底本体中。不均匀的修补基面涂料轮廓可能产生对基底的操作效率的有害影响。例如，不均匀的轮廓可能导致基底的部分未涂覆(这降低了基底的催化效率)或基底的部分被无意地涂覆超过一次
‑
其中施加多剂量的修补基面涂料(这可以有害地增加基底的背压)。在一些情况下，修补基面涂料可以被完全拉穿基底本体并从下表面露出。这可能导致修补基面涂料的浪费，并且还可能阻挡基底的下面上的通路开口。
[0011]另选地或另外地，在充分密封基底本体以防止修补基面涂料沿基底本体的侧面向下损失可能存在问题。在凹槽或切口延伸到基底本体的侧壁的情况下这可能是特定问题。基底的侧壁被修补基面涂料污染还可以导致基底的视觉退化，并且可以使可以设置在基底的侧壁上的视觉识别标记(例如跟踪条形码等)变得模糊。
[0012]另选地或另外地，即使一些基底具有平面的上表面，在一些基底的上表面上实现修补基面涂料的均匀扩散可能存在问题。例如，对于给定基底，可能将存在粘度的阈值，低于该阈值，修补基面涂料被过快地吸收到通路中，并且不会完全或均匀跨上表面扩散。这可能导致增加的修补基面涂料量直接进入修补基面涂料递送出口下方的通路，并且因此导致不均匀的修补基面涂料轮廓。

技术实现思路

[0013]在第一方面，本公开提供了一种用修补基面涂料涂覆基底的方法，其中该方法包括以下步骤：
[0014]‑
将所述基底与基底涂覆设备的头戴式耳机接合，以将所述基底的上表面定位在所述基底涂覆设备的修补基面涂料淋浴喷头下方；
[0015]‑
将隔板布置在所述修补基面涂料淋浴喷头与所述基底的所述上表面之间，所述隔板包括多个孔洞并且位于所述头戴式耳机中以维持所述隔板的下面与所述基底的所述上表面之间的第一间隙；
[0016]‑
将修补基面涂料从所述修补基面涂料淋浴喷头排出到所述隔板的上面上；以及
[0017]‑
至少部分地通过向所述基底的下表面施加吸力，使所述修补基面涂料穿过所述隔板中的所述孔洞，到达所述基底的所述上表面上并进入所述基底中。
[0018]在第二方面，本公开提供了一种基底涂覆设备，该基底涂覆设备包括：
[0019]修补基面涂料源；
[0020]修补基面涂料淋浴喷头，所述修补基面涂料淋浴喷头用于将所述修补基面涂料朝着基底的上表面排放；
[0021]导管，所述导管将所述修补基面涂料源流体地连接至所述修补基面涂料淋浴喷头以用于向所述修补基面涂料淋浴喷头供应修补基面涂料；
[0022]头戴式耳机，所述头戴式耳机用于接合所述基底以将所述基底的所述上表面定位在所述修补基面涂料淋浴喷头下方；以及
[0023]真空发生器，所述真空发生器用于将从所述修补基面涂料淋浴喷头排放的所述修补基面涂料抽吸穿过所述基底；
[0024]其中所述头戴式耳机包括隔板，所述隔板包括多个孔洞，所述隔板在所述基底接合在所述头戴式耳机中时位于所述修补基面涂料淋浴喷头与所述基底的所述上表面之间，以维持所述隔板的下面与所述基底的所述上表面之间的第一间隙。<本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】1.一种用修补基面涂料涂覆基底的方法，其中所述方法包括以下步骤：
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将所述基底与基底涂覆设备的头戴式耳机接合，以将所述基底的上表面定位在所述基底涂覆设备的修补基面涂料淋浴喷头下方；
‑
将修补基面涂料从所述修补基面涂料淋浴喷头朝着所述基底的所述上表面排出；
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通过向所述基底的下表面施加吸力，将所述修补基面涂料抽吸穿过所述基底；其中将所述基底与所述头戴式耳机接合的步骤包括将所述头戴式耳机的头戴式耳机密封件与所述基底接合，所述头戴式耳机密封件包括围绕所述头戴式耳机延伸的周边部分和从所述周边部分向下延伸的悬臂部分，所述悬臂部分抵靠所述基底的侧壁接合。2.根据权利要求1所述的方法，其中所述悬臂部分为弧形。3.根据权利要求1或权利要求2所述的方法，其中所述基底的所述上表面包括成形部，例如凹槽或切口，所述成形部延伸到所述基底的所述侧壁，由此限定所述侧壁中的间隙，其中所述悬臂部分桥接在所述间隙上以阻止所述修补基面涂料泄漏出所述间隙并沿着所述基底的所述侧壁泄漏。4.根据任一前述权利要求所述的方法，其中所述悬臂部分相对于垂直于所述周边部分的平面以在0
°
与15
°
之间的角度延伸；任选地相对于垂直于所述周边部分的平面以在0
°
与10
°
之间的角度延伸；任选地相对于垂直于所述周边部分的平面以约3
°
的角度延伸。5.根据任一前述权利要求所述的方法，其中在将所述基底与所述头戴式耳机接合时，所述头戴式耳机密封件的所述悬臂部分在基本上径向方向上挠曲。6.一种基底涂覆设备，所述基底涂覆设备包括：修补基面涂料源；修补基面涂料淋浴喷头，所述修补基面涂料淋浴喷头用于将所述修补基面涂料朝着基底的上表面排放；导管，所述导管将所述修补基面涂料源流体地连接至所述修补基面涂料淋浴喷头以用于向所述修补基面涂料淋浴喷头供应修补基面涂料；头戴式耳机，所述头戴式耳机用于接合所述基底以将所述基底的所述上表面定位在所述修补基面涂料淋浴喷头下方；和真空发生器，...

【专利技术属性】
技术研发人员：N，
申请(专利权)人：庄信万丰股份有限公司，
类型：发明
国别省市：