在旋转研磨或抛光工具中使用的研磨元件制造技术

技术编号:34083040 阅读:13 留言:0更新日期:2022-07-11 19:20
描述了一种旋转研磨或抛光工具中使用的研磨元件,用于研磨或抛光表面,这种类型的研磨元件包括细长型材导轨(2)、砂布(4)和支撑刷(5)。砂布(4)和支撑刷(5)安装在型材导轨(2)内或型材导轨(2)上,使得砂布(4)在其非有效侧(15)上由支撑刷(5)支撑。型材导轨(2)外侧的砂布在竖直方向(7)上具有砂布高度(9),在纵向(3)上具有砂布长度(12)。支撑刷(5)和砂布(4)分别具有自型材导轨(2)起的支撑刷高度(11)和砂布高度(9)的不同的高度,使得砂布(4)终止于外露边缘区域,外露边缘区域延伸超过支撑刷(5)的顶部并沿支撑刷(5)的外露端部(10)延伸一段短距离。外露边缘区域(19)在使用时形成砂布(4)的有效侧(16)的有效区域(17)。砂布(4)只在有效区域(17)中涂覆有磨削材料(18),磨削材料由例如金刚石(21)或类似材料的颗粒构成。砂布(4)具有外露的砂布边缘(8)且从砂布边缘(8)远离型材导轨的一侧沿着平行于竖直方向(7)的方向切割以形成条(6)。颗粒布置成相邻的排(26),使得一排(26)磨削材料的颗粒布置成使得颗粒相对于相邻的排(26)中的颗粒偏移。成排(26)的颗粒之间有间距(29),使得磨削颗粒在砂布的纵向(3)上出现重叠。布的纵向(3)上出现重叠。布的纵向(3)上出现重叠。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】在旋转研磨或抛光工具中使用的研磨元件


[0001]本专利技术涉及如本专利申请权利要求1的前序部分所述的一种研磨元件。

技术介绍

[0002]在本专利技术的说明书中,其旨在用于研磨或抛光工具,术语“磨削(abrasive)”和“抛光(polishing)”是可以相互互换的。例如,砂布(abrasive cloth)也指抛光布等。
[0003]用于设计成研磨机器或抛光机器的研磨元件,例如鼓式研磨机或砂轮是已知的。这些通常由砂布和支撑刷组合而成。砂布和支撑刷通常安装在细长的支撑型材导轨中,其中砂布和支撑刷从型材导轨突出。可替代地,支撑刷可以安装在细长的支撑型材导轨中,其中砂布可以放置在型材导轨之外或直接放置在刷子上。型材导轨通常用于将研磨元件固定在研磨机器或抛光机器上的工具的底切槽中。
[0004]砂布终止于外露的边缘区域,该边缘区域延伸超出支撑刷的顶部并沿着支撑刷的上端部分延伸,在使用时,该边缘区域形成砂布的有效研磨区域。然而,这个研磨区域只是安装在型材导轨中的整个砂布的一部分。
[0005]此外,已知的研磨元件在其效果方面受到限制,因为研磨元件垂直于纵向的柔性(flexibility)和可挠性(pliability)由砂纸的柔性和可挠性决定,并且当研磨或抛光各种工件时,研磨元件的柔性和可挠性是处理表面的重要参数。
[0006]最后,众所周知,砂纸形式的砂纸相对便宜且使用寿命有限。然而,这不是问题,因为可以快速轻松地更换研磨元件而无需大量停机时间。
[0007]然而,材料价格高的砂布也是已知的,机器也是已知的,对于机器和砂布而言研磨元件的长使用寿命是重要的。
[0008]然而,需要降低成本,并且还提供允许减少材料消耗的研磨元件。在处理昂贵的砂布时尤其如此。
[0009]US 4,969,299公开了一种带有研磨元件的旋转研磨工具,该旋转研磨工具包含由带有粘合磨削颗粒的布组成的片状物。所述引文不包含关于使用支撑刷的说明。用于支撑片状物的布的区域保持没有磨削颗粒。
[0010]此外,WO2011/110176公开了一种在本专利申请权利要求1的前序部分中描述的类型的研磨元件。多年来,这种研磨元件在许多应用中都可以接受,因为这种研磨元件具有减少昂贵磨削材料消耗和长的使用寿命的历史。然而,在工具利用这些研磨元件处理过的表面上出现了磨损凹槽形式的缺点。
[0011]即使在使用细粒磨削材料的情况下,在对处理过的表面进行精加工时,在一些应用中也会遇到问题。经过处理的表面通常会以某种形式的涂层或油漆进行处理。
[0012]因此,遇到了涂层粘附到处理过的表面的问题。为了解决这个问题,使用各种基础处理和粘合剂进行实验,作为表面清漆或表面涂层的基础。考虑到所产生的成本和重量,使用多个饰面层是不可取的。
[0013]同样还出现了表面光泽的问题。在许多产品中,这会产生不必要的眩光和反射的
问题。即使将涂层用于精加工目的,这也会在精加工表面产生问题。这是由于处理过的表面带有区域的磨损凹槽而具有不规则的表面,在这些区域会发生眩光和反射。对于公共空间的纤维表面,例如风力涡轮机叶片、安全头盔和光伏系统,这个问题尤其严重。为了缓解这个问题,已经进行了使用特殊清漆的实验。然而,需要将重量保持在限定范围内,特别是对于诸如风力涡轮机叶片和安全头盔等产品,即,尽可能地减少油漆和涂层的使用。
[0014]因此,已经对不同类型的精加工进行了一些实验,包括粘合剂和特殊清漆的使用。粘合剂、底漆、特殊清漆(可能分为若干层)的应用会增加成本,而且导致重量增加,这对于一些产品来说是不希望的。
[0015]因此,需要改进研磨/抛光以获得表面,该表面将以处理过的表面的形式提供更好的基础,从而使对精加工的需要最小化并消除眩光和粘附的问题。
[0016]专利技术目的
[0017]本专利技术的目的在于能够使用现有技术的研磨元件,这减少了昂贵的磨削材料的消耗,且使用寿命长,并且还实现了均匀的表面研磨,从而最大限度地减少了粘附和眩光的问题。

技术实现思路

[0018]本专利技术通过前言中提到的类型的研磨元件实现了该目的,该研磨元件特点在于磨削材料的成阵列的颗粒布置成相对于相邻排中的颗粒偏移,并且成阵列的颗粒间隔开,使得磨削颗粒在砂布的纵向上重叠。
[0019]市售的砂布是机器制造的,其中磨削材料的颗粒位于相邻的排中。当横向观察排的长度时,颗粒排放置成使得每隔一排中的粒子彼此偏移。
[0020]当使用这些市售的砂布时,用于在研磨元件中形成条的正常程序是在平行于排的方向上和相邻排之间的间距中切割。这使得可以在不干扰磨削材料颗粒的情况下形成干净的切割,磨削材料颗粒通常由金刚石或类似的硬质材料组成,其用作超级磨削材料。
[0021]通过这种切割,研磨元件的条设有颗粒排,颗粒排的定向为平行于竖直方向。这导致了带有区域的磨损凹槽,其中有表面在靠近排的区域中进行研磨,并且在这些排之间的区域中磨损很小或没有磨损。换言之,在砂布的纵向上会出现一些没有可用于形成被加工表面的磨削颗粒的区域。
[0022]本专利技术解决了这个问题,因为磨削颗粒在砂布的纵向上重叠。因此,颗粒将沿砂布的纵向设置。颗粒适当地布置成排。由于磨削材料的颗粒布置成排,因此可以使用一般市售的砂布。通过改变排的取向,使得这些排的取向不再平行于砂布的竖直方向,可以在砂布的纵向上形成磨削颗粒的重叠。
[0023]尽管多年来在市售的砂布中有可能“反转”排的取向,但迄今为止,平行于排进行切割的期望,需要对条的形成提出专业的解决方案。
[0024]因此,本专利技术以相当简单的方式允许制造砂布,其中磨削材料颗粒的布置使得能够对砂布覆盖的整个表面进行研磨。因此,在未进行研磨的区域不会出现特定的磨损凹槽。
[0025]这种不发生磨损的表面的区域是不希望的,因为它们看起来具有光滑的表面。这种光滑的表面可能部分地导致粘附性差,但也可能导致从表面的顶部发出反射和眩光。
[0026]因此,使用根据本专利技术的研磨元件,将产生更粗糙的表面,并且表面不会有导致眩
光的平滑区域。这种更大的表面粗糙度也会产生更大的区域,从而为涂层或清漆的粘附提供更大的表面。因此,粘附性将增加。
[0027]由于表面显得粗糙且没有平滑区域,所以反射将变成更加漫反射。这使得可以仅基于使用的涂层或清漆来控制表面并确定眩光和光泽度的可能性。考虑到较大的表面产生粘附性,并且减少对更多层的需求以减少来自磨损和涂层表面的眩光,这种清漆可以涂在比传统情况更薄的层中。
[0028]特别是对于风力涡轮机叶片,需要控制来自涡轮机叶片的眩光。类似的挑战出现在光伏系统中,来自这种光伏系统的通常非常大的表面的眩光是不期望的。
[0029]在安全头盔中,出于道路安全的原因,同样需要减少眩光。
[0030]颗粒的特定布置与相邻排中的颗粒发生偏移,以及排相对于条延伸的角度布置,其结果是以简单的方式改进了研磨/抛光,允许获得表面,由此形成更好基础,从本文档来自技高网
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【技术保护点】

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】1.一种在旋转研磨或抛光工具中使用的研磨元件(1),所述研磨元件(1)用于研磨或抛光表面,所述研磨元件(1)包括细长型材导轨(2)、砂布(4)和支撑刷(5),其中所述砂布(4)和支撑刷(5)安装在型材导轨(2)内或型材导轨(2)上,使得所述砂布(4)在其非有效侧(15)上由支撑刷(5)支撑,其中所述型材导轨(2)外部的砂布(4)在竖直方向(7)上具有砂布高度(9)、在纵向(3)上具有砂布长度(12),其中所述支撑刷(5)和砂布(4)分别具有自所述型材导轨(2)起的支撑刷高度(11)和砂布高度(9)的不同高度,使得所述砂布(4)终止于外露边缘区域(19),所述外露边缘区域(19)延伸超过支撑刷(5)的顶部并沿支撑刷(5)的外露端部(10)延伸一段短距离,所述外露边缘区域(19)在使用时形成砂布(4)的有效侧(16)的有效区域(17),其中所述砂布(4)只在有效区域(17)中涂覆有磨削材料(18),所述磨削材料由例如金刚石(21)或类似材料的颗粒(22)组成,其中所述砂布(4)具有外露的砂布边缘(8)且从砂布边缘(8)远离型材导轨的一侧沿着平行于竖直方向(7)的方向切割以形成条(6),且其中所述颗粒(22)布置成相邻的排(26),其特征在于,一所述排(26)中磨削材料的颗粒(22)布置成使得颗粒(22)相对于相邻的排(26)中的颗粒(22)偏移,且这些所述排(26)的颗粒之间有间距(29),使得磨削的所述颗粒在砂布(4)的纵向(3)上重叠。2.根据权利要求1所述的研磨元件(1),其特征在于,相邻的所述排(26)相对于竖直方向(7)以不同于0
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【专利技术属性】
技术研发人员:卡斯滕
申请(专利权)人:弗雷克斯特里姆股份公司
类型:发明
国别省市:

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