一种镭射膜表面涂布系统技术方案

本发明专利技术公开一种镭射膜表面涂布系统，涉及镭射膜生产设备，其技术方案要点是：包括涂布辊以及导辊组件，所述导辊组件用于传导输送镭射膜，镭射膜在输送过程中两侧经过涂布辊的外周并相互接触，所述涂布辊的旋转方向与镭射膜的输送方向相反；所述涂布辊用于在接触位置涂布镭射膜，所述涂布辊与镭射膜的输送方向倾斜。本发明专利技术通过采用差速旋转的方式，能够提高对薄膜表面的试剂涂布效率，提高表面涂布的完整性和均匀性。整性和均匀性。整性和均匀性。

【技术实现步骤摘要】
一种镭射膜表面涂布系统


[0001]本专利技术涉及镭射膜生产设备，更具体地说，它涉及一种镭射膜表面涂布系统。

技术介绍

[0002]镭射膜在使用过程中，需要根据不同的使用环境和使用要求，在镭射膜的表面涂布离型层、粘结层或者其他功能的试剂；待涂布的试剂，通过涂布设备，在膜体的表面进行涂布加工，在膜的表面形成所需的涂层，涂布过程中，需要确保膜体的表面被完全覆盖，方能达到稳定的涂布层的性能。
[0003]目前的涂布设备往往采用附着试剂的辊体对膜体的表面进行涂布，涂布过程中，膜顺着辊组件的导向和输送，实现膜的输送。输送过程中，膜体绕经涂布辊，涂布辊与膜体实现同步转动，通过涂布辊与膜体之间的相互接触从而实现膜体表面的试剂涂布。由于涂布辊与膜体之间同步运动，因此涂布辊与膜体表面的接触位置仅产生相互挤压接触，仅通过相对静态挤压的接触，可能无法达到完整涂布的效果，在涂布过程中可能存在局部涂布的缺失的情况。
[0004]为了提高涂布的效果，往往需要采用多组涂布辊，进行重复涂布的方式才能够实现，浪费试剂材料，而且影响生产的经济效益。
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【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种镭射膜表面涂布系统，其特征在于，包括涂布辊(4)以及导辊组件，所述导辊组件用于传导输送镭射膜(10)，镭射膜(10)在输送过程中两侧经过涂布辊(4)的外周并相互接触，所述涂布辊(4)的旋转方向与镭射膜(10)的输送方向相反；所述涂布辊(4)用于在接触位置涂布镭射膜(10)，所述涂布辊(4)与镭射膜(10)的输送方向倾斜。2.根据权利要求1所述的一种镭射膜表面涂布系统，其特征在于，所述导辊组件包括两个上导辊(1)和下导辊(2)，两个上导辊(1)平行等高，下导辊(2)位于两个上导辊(1)之间的下侧位置，镭射膜(10)绕过两个上导辊(1)和下导辊(2)，并在上导辊(1)和下导辊(2)之间形成涂布间隙(101)；所述涂布辊(4)设置在涂布间隙(101)内，且两端上下倾斜。3.根据权利要求2所述的一种镭射膜表面涂布系统，其特征在于，涂布间隙(101)两侧的镭射膜(10)平行，且宽度与涂布辊(4)的外径一致；所述涂布辊(4)与涂布间隙(101)两侧的镭射膜(10)均平行。4.根据权利要求2所述的一种镭射膜表面涂布系统，其特征在于，所述涂布辊(4)的上侧设置有匀料辊(13)，所述匀料辊(13)与涂布辊(4)平行，且外周周面相抵；所述匀料辊(13)和涂布辊(4)的两端均通过旋转座(7)旋转支撑，并保持同步倾斜。5.根据权利要求4所述的一种镭射膜表面涂布系统，其特征在于，所述匀料辊(13)位于涂布间隙(101)内，且匀料辊(13)的外径较涂布间隙(101)的宽度小；涂料辊的外周一侧与涂布间隙(101)的输出一侧的镭射膜(10)接触。6.根据权利要求1所述的一种镭射膜表面涂布系统，其特征在于，所述涂布辊(4)包括内辊体(41)和外辊体(42)，所述外辊体(42)套设于内辊体(41)外，内辊体(41)中空并在外周开设若干通孔一(44)；所述外辊体(42)上开设若干孔洞。7.根据权利要求5所述的一种镭射膜表面涂布系统，其特征在于，所述外辊体(42)的中间设置环形腔(46)，外辊体(42)上的孔洞包括外辊体(42)内层的通孔二(45)和外辊体(42)外层的通孔三(47)；所述通孔二(45)与通孔一(44)位置一一对应。8.根据权利要求6所述的一种镭射膜表面涂布系统，其特征在于，所述外辊体(42)转动连接于内管体外周，并通过外辊体(42)两端的限位机构(43)实现转动角度转动限位；所述限位机构(43)包括开设在外辊体(42)内周的环形的限位腔(431)，所述限位腔(431)的内周固定有限位块二(4...

【专利技术属性】
技术研发人员：何毅松，徐建林，
申请(专利权)人：绍兴毅龙镭射科技有限公司，
类型：发明
国别省市：