配向膜涂布系统技术方案

本申请实施例提供了一种配向膜涂布系统。该配向膜涂布系统包括：检测装置、涂布装置和控制装置；检测装置用于检测待涂布的基板的表面平整度并得到第一检测值；涂布装置用于向已完成检测的基板涂布配向膜材料；控制装置分别与检测装置、涂布装置通信连接，用于根据第一检测值调整涂布装置向基板涂布配向膜材料的涂布量，以使配向膜材料均匀涂覆于基板。本申请实施例实现了检测装置与涂布装置建立一种检测

Alignment film coating system

【技术实现步骤摘要】
配向膜涂布系统


[0001]本申请涉及屏幕显示
，具体而言，本申请涉及一种配向膜涂布系统。

技术介绍

[0002]目前，在液晶显示器行业中，液晶显示器(Liquid crystal display，LCD)在成盒(cell)工艺中需要在TFT(Thin Film Transistor,薄膜晶体管)基板和CF(Color filter，彩色滤光片)基板上分别涂敷一层配向膜。配向膜成膜方式有PI(Polyimide，聚酰亚胺)浸泡方式、APR(凸版)印刷方式和inkjet(喷墨)方式，其中，喷墨方式是一种非接触点描印刷方式。目前采用喷墨印刷进行PI液涂布的方式为：将存储于容器中的PI液输送到涂布装置的喷头(Head)内，然后根据设定的图案进行PI液喷涂，最后通过承载有玻璃基板的机台来回移动，实现PI膜均匀地涂布在基板上。喷墨方式相较于APR版印刷方式具有效率高、成本低、PI使用量少、无需APR版等优势。
[0003]配向膜成膜的最大要求就是保证膜面均一性，在喷墨方式中，影响配向膜成膜的膜面均一性的相关因素包括PI浓度、PI液滴下量、滴下间距、滴下位置以及基板表面平整度(基板膜面段差、角度或孔的位置)等。目前在TFT基板的产品中已经采用了许多有利于提高配向膜成膜的均一性的设计，例如AA区(Active Area，显示区)内部减小金属段差，优化Profile(坡度角)角度，减少Matrix(矩阵)周期孔的个数，优化半过孔设计等。
[0004]然而，在TFT基板的工艺制程中，Profile角度在单批次内或批次间会出现差异和波动，这种差异和波动会影响TFT基板在涂布PI膜时PI膜成膜的均一性，导致基板膜面扩散不均、Mura类不良(颜色、明暗不均)、Block(区块)不良等缺陷，从而降低了产品品质。另外，若在膜面检查机的检测中发现产品有Block或者Mura类不良，需要重新对涂布装置的喷头吐出PI液的吐出量进行调整，不断确认膜面均一性，严重影响了生产嫁动及产能。
[0005]因此，针对上述问题，亟待一种确保PI膜成膜的膜面均一性、消除单批次内或批次间产品的差异性影响的解决方案。

技术实现思路

[0006]本申请针对现有方式的缺点，提出一种配向膜涂布系统，用以解决现有技术存在玻璃基板上PI液扩散不均匀的技术问题。
[0007]第一个方面，本申请实施例提供了一种配向膜涂布系统，包括：
[0008]检测装置，用于检测待涂布的基板的表面平整度并得到第一检测值；
[0009]涂布装置，用于向已完成检测的基板涂布配向膜材料；
[0010]控制装置，分别与检测装置、涂布装置通信连接，用于根据第一检测值调整涂布装置向基板涂布配向膜材料的涂布量，以使配向膜材料均匀涂覆于基板。
[0011]本申请实施例提供的技术方案带来的有益技术效果包括：
[0012]相比于现有技术中涂布装置仅能根据预先设定的图案进行PI液的涂布而言，本申请提供的配向膜涂布系统采用控制装置分别与检测装置、涂布装置通信连接，使检测装置
与涂布装置建立一种检测
‑
涂布的联动关系，可以检测并获取单批次内或者批次间的每一块基板的平整度数据，并根据基板的平整度数据对涂布装置向每一块基板涂布配向膜的涂布量进行实时调整，从而确保配向膜的膜面扩散均一性，消除单批次内或批次间的基板的平整度差异性的影响。从而提升工厂产能和效率，优化产品品质。
[0013]同时，本申请中的控制装置通过分别与检测装置、涂布装置通信连接，控制装置可自动设定基板表面平整度与PI液涂布量的对应规则，并根据对应规则自动调整每一块基板对应的PI液涂布量，减少了人为调试带来的差异性，提高了涂布系统的自动化和智能化程度。
[0014]另外，考虑到针对每一块基板，检测装置的检测时间相较于涂布装置的涂布时间而言较长，因此如果将检测设备与涂布设备设置在同一个装置中进行，则时间上的不对等会降低产品生产的效率。因此本申请中采用两个装置分别对基板进行检测和涂布，两者相互独立，因此可同时进行且互不影响，提高了产品的产率和设备的稼动率。
[0015]本申请附加的方面和优点将在下面的描述中部分给出，这些将从下面的描述中变得明显，或通过本申请的实践了解到。
附图说明
[0016]本申请上述的和/或附加的方面和优点从下面结合附图对实施例的描述中将变得明显和容易理解，其中：
[0017]图1为本申请实施例提供的一种配向膜涂布系统的结构的框架示意图；
[0018]图2为本申请实施例提供的一种测试装置的结构的俯视图；
[0019]图3为本申请实施例提供的一种测试装置的结构的正视图；
[0020]图4为本申请实施例提供的一种检测头的结构示意图；
[0021]图5为本申请实施例提供的一种涂布装置的结构的正视图。
[0022]图中：
[0023]1‑
配向膜涂布系统；
[0024]100
‑
检测装置；200
‑
涂布装置；300
‑
控制装置；
[0025]110
‑
检测载台；120
‑
支撑结构；130
‑
移动杆；140
‑
检测头；
[0026]141
‑
激光发射器；1411
‑
角度调节结构；1412
‑
激光头；
[0027]142
‑
感应组件；1421
‑
磁力控制结构；1422
‑
感应探针；
[0028]143
‑
信号接收器；1431
‑
信号处理结构；1432
‑
信号接收窗口；
[0029]144
‑
移动组件；145
‑
反射镜；101
‑
激光光路；
[0030]150
‑
第一控制单元；
[0031]210
‑
涂布载台；220
‑
喷涂组件；
[0032]221
‑
平移结构；222
‑
喷头；
[0033]2221
‑
喷头本体；2222
‑
电磁阀门；2223
‑
喷嘴；
[0034]230
‑
第二控制单元。
具体实施方式
[0035]下面详细描述本申请，本申请的实施例的示例在附图中示出，其中自始至终相同
或类似的标号表示相同或类似的部件或具有相同或类似功能的部件。此外，如果已知技术的详细描述对于示出的本申请的特征是不必要的，则将其省略。下面通过参考附图描述的实施例是示例性的，仅用于解释本申请，而不能解释为对本申请的限制。
[0036]本
技术人员可以理解，除非另外定义本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种配向膜涂布系统，其特征在于，包括：检测装置，用于检测待涂布的基板的表面平整度并得到第一检测值；涂布装置，用于向已完成检测的所述基板涂布配向膜材料；控制装置，分别与所述检测装置、所述涂布装置通信连接，用于根据所述第一检测值调整所述涂布装置向所述基板涂布配向膜材料的涂布量，以使配向膜材料均匀涂覆于所述基板。2.根据权利要求1所述的配向膜涂布系统，其特征在于，所述检测装置包括：检测载台，用于承载所述基板；支撑结构，分别设置在所述检测载台的两侧；移动杆，所述移动杆的两端分别与所述支撑结构连接，用于相对所述检测载台沿第一方向移动，所述第一方向平行于所述检测载台的台面；至少一个检测头，与所述移动杆连接，用于检测所述基板的表面平整度并得到第一检测值；第一控制单元，分别与所述移动杆、所述支撑结构和所述检测头电连接，并与所述控制装置通信连接。3.根据权利要求2所述的配向膜涂布系统，其特征在于，所述检测头包括：移动组件，与所述移动杆连接，用于沿第一平面内的任意方向移动，所述第一平面平行于所述检测载台的台面；激光发射器，与所述移动组件连接，用于发射检测激光；感应组件，与所述移动组件连接，用于在与所述基板表面的范德华力作用的影响下发生偏转，并反射所述检测激光；信号接收器，与所述移动组件连接，用于接收经所述感应组件反射的所述检测激光并生成所述第一检测值；所述移动组件、所述激光发射器、所述感应组件和所述信号接收器均与所述第一控制单元电连接。4.根据权利要求3所述的配向膜涂布系统，其特征在于，所述激光发射器包括：激光头和角度调节结构；所述角度调节结构的一端与所述激光头连接，另一端与所述移动组件连接；所述角度调节结构与所述第一控制单元电连接；所述激光头用于发射所述检测激光。5.根据权利要求4所述的配向膜涂布系统，其特征在于，所述感应组件包括：磁力控制结构和感应探针；所述磁力控制结构的一端与所述感应探针连接，另一端与所述移动组件连接；所述磁力控制结构与所述第一控制单元电连...

【专利技术属性】
技术研发人员：李官正，杨军，张灿，王鑫，张俊伟，杜江，
申请(专利权)人：京东方科技集团股份有限公司，
类型：新型
国别省市：